JPH03273526A - 磁気ディスク基板の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気ディスク基板の製法に関し、基板の表面
をクロム酸で処理して、耐食性を向上させるようにした
ものである。

［従来の技術］ 磁気ディスクをなす磁気ディスク基板の製法の一つに次
のようなものが知られている（特開平１−１６５０２５
号公報）。

この方法は、第６図に示すように、表面がＡＱ或いは、
少量のＭｇを含有するＡ１２合金（以下ＡＱという）の
板ｌを、しゅう酸溶液などの電解洛中で陽極酸化処理し
、表面に微細ボア２が規則的に配列されたアルマイト層
３を形成する。次いで電解析出処理によって、第７図に
示すように、上記ボア２中にＣｕ、　Ｓｎ、　Ｚｎ等の
非磁性金属４を充填し、点線で示す部分を研摩して表面
を平滑とした後、アルマイト層３の方が上記非磁性金属
４より工、チング率の大きい、例えばりん酸・クロム酸
混液等でエツチングし、第８図に示すようにアルマイト
層３の面から充填された非磁性金属４が規則的に分布し
、所定寸法突出した凹凸を形成して、磁気ディスク基板
を作製する。ついで、この磁気ディスク基板の表面に第
９図に示すようにスパッタ処理、或いはメツキ処理によ
って磁性体層５を付着させ、さらにその上に保護膜６を
コーティングして磁気ディスクがつくられる。

上記磁気ディスク７はエツチング速度の差によって、凹
凸が形成され、かつボア２０分布は均一であるので、品
質の安定した磁気ディスクの量産が可能である。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記磁気ディスク基板から得られた磁気
ディスクは、２０℃の純水に浸漬する耐食試験に供する
と、面に変色、くもりが発生し、磁気記録性能が低下す
ることがあった。

本発明者らは、上記の問題を解決すべく鋭意検討を行っ
た結果、非磁性金属をボアに充填する場合、一部に非磁
性金属が充填されないボアが生じ、研摩した後エツチン
グを行うと、アルマイトに対するエツチング率が大きい
ため、ボアの底部がエツチングされボア底部に耐食性の
低いＡＱ板が露出するためと考えた。

本発明は上記の考えに基づいてなされたもので、不良品
が発生することなく、安定で効率よく磁気ディスクの量
産を可能とする磁気ディス基板を提供することを目的と
する。

［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、本発明の磁気ディスク基板
の製法においては、 陽極酸化処理されたＡ（板のアルマイト層のボア中に、
非磁性金属を充填し、表面研摩を施し次いでその表面を
エツチング処理した後、クロム酸処理を施す。

［作　用］ 本発明は上記の構成を有するため、一部に非磁性金属が
充填されないボアが存在し、エツチングによってボア底
部のアルマイトが消失し、Ａｇ板がボア底部に露出して
も、クロム酸膜によって被覆、保護される。

［実施例］ 第１図ないし、第５図は、本発明に係る磁気ディスクの
製法の説明図で、第１図は、Ａ（板を陽極酸化処理し、
ボア２が規則的に配列されたアルマイト層３を形成した
第６図のものを非磁性金属電解析出により、上記ボア２
にＣｕ、Ｓｎ、Ｚｎ等の非磁性金属４を充填した状態を
示す図である。

この場合殆どのボアには、非磁性金属４か充填されるか
、多数のボアのうちには非磁性金属４が充填されていな
いボア８が形成される。

これを従来と同様に研摩し、第２図に示すように、面を
平坦にしてアルマイト層３の方が非磁性金属よりエツチ
ング率の大きい条件でエツチングすると、第３図に示す
ように非磁性金属が所定寸法突出し、規則的な凹凸が形
成される。しかし非磁性金属が充填されなかったボア８
は、ボア自体がエツチングされ、底部のバリヤ層９が消
失し、ボア８の底部にＡｌ１板が露出する。このＡＮ露
部分の耐食性はアルマイトに比べて格段に低い。そのた
め本発明の方法においては、ボア８の底部にクロム酸膜
１０を形成し、その耐食性を向上させる。

クロム酸膜を形成するには、エツチング処理した、第３
図の基板を、重クロム酸カリウム５〜１５０ｇ／ｆｆ含
有した水溶液をＰＨ６〜８、温度常温〜９０℃の条件に
保持して、Ｏ１〜２０分浸漬する。このクロム酸処理に
よって第４図に示すように、ボア８の底部のＡ（２板１
の面には、クロム酸膜１０が形成される。

次いで、これを重クロム酸溶液より引き上げ、洗浄して
、重クロム酸溶液を除去した後、従来と同様、第５図に
示すように磁性体層５および保護膜６を形成する。

このようにしてつくられた磁気ディスクは、２０°Ｃの
純水に長期間浸漬しておいても、変色やくもりが発生す
ることがない。

実施例１ ４ｗｔ％のＭｇを含有したＡＲ合金製板を印加電圧４８
Ｖのしゅう酸３％浴中で陽極酸化して、表面に径２５ｒ
＋ｎ＋のボアがセル径（ボアとボアの間隔）１１０ｎｍ
で規則的に配列されている厚さ１０μｍのアルマイト層
を形成した。

これをＣｕＳｏ４溶中で電解メツキ処理し、ボア中にＣ
ｕを析出充填した。次いで０．８μｍ径のアルミナ粉末
を研摩材として研摩し、アルマイト層の厚みを５μｍと
した。この面を４％ＮａＯＨ水溶液でエツチングし、ア
ルマイト層よりＣｕを２０ｎｍ突出せしめた。

これを、重クロム酸カリウム１５ｇ／ρ、炭酸ナトリウ
ム４ｇ／（！の水溶液をＰＨ６，５〜７．５、温度９０
〜９５°Ｃとして２〜１２分浸漬するクロム酸処理を行
った。

これを洗浄、乾燥した後、スパッタリングによって、Ｃ
ｒ２００ｎ＋ｎ、　ＣｏＮｉＣｒ６０ｎｙｌの厚さに順
次被覆して磁性体層を形成し、さらにその上面にカーボ
ン保護層を形成して、磁気ディスクを作製した。

この磁気ディスク１００枚を２０°Ｃの純水中に２週問
浸漬したが、変色やくもりを生ずるものはなかった。

比較例１ クロム酸処理を行わないで、エツチングした後、ただち
に磁性体層を形成した以外は実施例１と同じにして磁気
ディスクを作製した。

この磁気ディスク１００枚を２０°Ｃの純水中に浸漬し
たところ、１週間で、うち６枚に変色やくもりが認めら
れた。

実施例２ アルマイト層を形成したＡ［板にエツチング処理を施し
、次いでクロム酸処理して、この面に磁性体層および保
護層を形成した。これを２０°Ｃ純水中に１週間浸漬し
たが、磁性体層の変色、くもりは認められなかった。

比較例２ クロム酸処理を行わなかった以外は、実施例２と同じに
した。これを２０’Ｃの純水に浸漬したところ、２〜３
日で変色、くもりが発生した。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の磁気ディスクの製法は、
クロム酸処理を行うことにより、磁気ディスクの不良品
の発生が皆無となり、安定して効率のよい生産が可能と
なる利点を有し、この業界に寄与することは極めて大き
い。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第５図は、本発明に係る磁気ディスク基板
の製法の一例を示すもので、第１図はアルマイト層のボ
アに非磁性金属を充填した図、第２図は表面を研摩した
図、第３図はアルマイト層をエツチングして非磁性金属
を突出せしめた場合、非磁性金属が充填されていない孔
底部がエツチングされ、ＡＱ、板が露出した状態を示す
図、第４図は露出したＡＱ板面にクロム酸膜を形成した
図、第５図は表面に磁性体層および保護膜を形成し、磁
気ディスクとした図、第６図ないし第９図はアルマイト
層のすべてのボアに非磁性金属か充填されたと仮定した
場合を示すもので、第６図はアルマイト層にボアが形成
されている状態を示す図、第７図は表面研摩した図、第
８図はエツチングして非磁性金属を突出せしめた図、第
９図は表面に磁性体層および保護膜を形成して磁気ディ
スクとした図である。 第１図 １・・・・・・Ａ（２板、２・・・・・・ボア、３・・
・・・・アルマイト層。 ４・・・・・・非磁性金属、５・・・・・・磁性体層、
６・・・・・・保護膜。 ７．７′・・・・・・磁気ディスク ８・・・・・非磁性金属が充填されていないボア。 ９・・・・・バリヤ層、１０・・・・・・クロム酸膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 陽極酸化処理された板のアルマイト層のボア中に、非磁
   性金属を充填し、表面研摩を施しついでその表面をエッ
   チングした後、クロム酸処理を施すことを特徴とする磁
   気ディスク基板の製法。