JPH03273526A - 磁気ディスク基板の製法 - Google Patents
磁気ディスク基板の製法Info
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- JPH03273526A JPH03273526A JP7488690A JP7488690A JPH03273526A JP H03273526 A JPH03273526 A JP H03273526A JP 7488690 A JP7488690 A JP 7488690A JP 7488690 A JP7488690 A JP 7488690A JP H03273526 A JPH03273526 A JP H03273526A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気ディスク基板の製法に関し、基板の表面
をクロム酸で処理して、耐食性を向上させるようにした
ものである。
をクロム酸で処理して、耐食性を向上させるようにした
ものである。
[従来の技術]
磁気ディスクをなす磁気ディスク基板の製法の一つに次
のようなものが知られている(特開平1−165025
号公報)。
のようなものが知られている(特開平1−165025
号公報)。
この方法は、第6図に示すように、表面がAQ或いは、
少量のMgを含有するA12合金(以下AQという)の
板lを、しゅう酸溶液などの電解洛中で陽極酸化処理し
、表面に微細ボア2が規則的に配列されたアルマイト層
3を形成する。次いで電解析出処理によって、第7図に
示すように、上記ボア2中にCu、 Sn、 Zn等の
非磁性金属4を充填し、点線で示す部分を研摩して表面
を平滑とした後、アルマイト層3の方が上記非磁性金属
4より工、チング率の大きい、例えばりん酸・クロム酸
混液等でエツチングし、第8図に示すようにアルマイト
層3の面から充填された非磁性金属4が規則的に分布し
、所定寸法突出した凹凸を形成して、磁気ディスク基板
を作製する。ついで、この磁気ディスク基板の表面に第
9図に示すようにスパッタ処理、或いはメツキ処理によ
って磁性体層5を付着させ、さらにその上に保護膜6を
コーティングして磁気ディスクがつくられる。
少量のMgを含有するA12合金(以下AQという)の
板lを、しゅう酸溶液などの電解洛中で陽極酸化処理し
、表面に微細ボア2が規則的に配列されたアルマイト層
3を形成する。次いで電解析出処理によって、第7図に
示すように、上記ボア2中にCu、 Sn、 Zn等の
非磁性金属4を充填し、点線で示す部分を研摩して表面
を平滑とした後、アルマイト層3の方が上記非磁性金属
4より工、チング率の大きい、例えばりん酸・クロム酸
混液等でエツチングし、第8図に示すようにアルマイト
層3の面から充填された非磁性金属4が規則的に分布し
、所定寸法突出した凹凸を形成して、磁気ディスク基板
を作製する。ついで、この磁気ディスク基板の表面に第
9図に示すようにスパッタ処理、或いはメツキ処理によ
って磁性体層5を付着させ、さらにその上に保護膜6を
コーティングして磁気ディスクがつくられる。
上記磁気ディスク7はエツチング速度の差によって、凹
凸が形成され、かつボア20分布は均一であるので、品
質の安定した磁気ディスクの量産が可能である。
凸が形成され、かつボア20分布は均一であるので、品
質の安定した磁気ディスクの量産が可能である。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記磁気ディスク基板から得られた磁気
ディスクは、20℃の純水に浸漬する耐食試験に供する
と、面に変色、くもりが発生し、磁気記録性能が低下す
ることがあった。
ディスクは、20℃の純水に浸漬する耐食試験に供する
と、面に変色、くもりが発生し、磁気記録性能が低下す
ることがあった。
本発明者らは、上記の問題を解決すべく鋭意検討を行っ
た結果、非磁性金属をボアに充填する場合、一部に非磁
性金属が充填されないボアが生じ、研摩した後エツチン
グを行うと、アルマイトに対するエツチング率が大きい
ため、ボアの底部がエツチングされボア底部に耐食性の
低いAQ板が露出するためと考えた。
た結果、非磁性金属をボアに充填する場合、一部に非磁
性金属が充填されないボアが生じ、研摩した後エツチン
グを行うと、アルマイトに対するエツチング率が大きい
ため、ボアの底部がエツチングされボア底部に耐食性の
低いAQ板が露出するためと考えた。
本発明は上記の考えに基づいてなされたもので、不良品
が発生することなく、安定で効率よく磁気ディスクの量
産を可能とする磁気ディス基板を提供することを目的と
する。
が発生することなく、安定で効率よく磁気ディスクの量
産を可能とする磁気ディス基板を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するため、本発明の磁気ディスク基板
の製法においては、 陽極酸化処理されたA(板のアルマイト層のボア中に、
非磁性金属を充填し、表面研摩を施し次いでその表面を
エツチング処理した後、クロム酸処理を施す。
の製法においては、 陽極酸化処理されたA(板のアルマイト層のボア中に、
非磁性金属を充填し、表面研摩を施し次いでその表面を
エツチング処理した後、クロム酸処理を施す。
[作 用]
本発明は上記の構成を有するため、一部に非磁性金属が
充填されないボアが存在し、エツチングによってボア底
部のアルマイトが消失し、Ag板がボア底部に露出して
も、クロム酸膜によって被覆、保護される。
充填されないボアが存在し、エツチングによってボア底
部のアルマイトが消失し、Ag板がボア底部に露出して
も、クロム酸膜によって被覆、保護される。
[実施例]
第1図ないし、第5図は、本発明に係る磁気ディスクの
製法の説明図で、第1図は、A(板を陽極酸化処理し、
ボア2が規則的に配列されたアルマイト層3を形成した
第6図のものを非磁性金属電解析出により、上記ボア2
にCu、Sn、Zn等の非磁性金属4を充填した状態を
示す図である。
製法の説明図で、第1図は、A(板を陽極酸化処理し、
ボア2が規則的に配列されたアルマイト層3を形成した
第6図のものを非磁性金属電解析出により、上記ボア2
にCu、Sn、Zn等の非磁性金属4を充填した状態を
示す図である。
この場合殆どのボアには、非磁性金属4か充填されるか
、多数のボアのうちには非磁性金属4が充填されていな
いボア8が形成される。
、多数のボアのうちには非磁性金属4が充填されていな
いボア8が形成される。
これを従来と同様に研摩し、第2図に示すように、面を
平坦にしてアルマイト層3の方が非磁性金属よりエツチ
ング率の大きい条件でエツチングすると、第3図に示す
ように非磁性金属が所定寸法突出し、規則的な凹凸が形
成される。しかし非磁性金属が充填されなかったボア8
は、ボア自体がエツチングされ、底部のバリヤ層9が消
失し、ボア8の底部にAl1板が露出する。このAN露
部分の耐食性はアルマイトに比べて格段に低い。そのた
め本発明の方法においては、ボア8の底部にクロム酸膜
10を形成し、その耐食性を向上させる。
平坦にしてアルマイト層3の方が非磁性金属よりエツチ
ング率の大きい条件でエツチングすると、第3図に示す
ように非磁性金属が所定寸法突出し、規則的な凹凸が形
成される。しかし非磁性金属が充填されなかったボア8
は、ボア自体がエツチングされ、底部のバリヤ層9が消
失し、ボア8の底部にAl1板が露出する。このAN露
部分の耐食性はアルマイトに比べて格段に低い。そのた
め本発明の方法においては、ボア8の底部にクロム酸膜
10を形成し、その耐食性を向上させる。
クロム酸膜を形成するには、エツチング処理した、第3
図の基板を、重クロム酸カリウム5〜150g/ff含
有した水溶液をPH6〜8、温度常温〜90℃の条件に
保持して、O1〜20分浸漬する。このクロム酸処理に
よって第4図に示すように、ボア8の底部のA(2板1
の面には、クロム酸膜10が形成される。
図の基板を、重クロム酸カリウム5〜150g/ff含
有した水溶液をPH6〜8、温度常温〜90℃の条件に
保持して、O1〜20分浸漬する。このクロム酸処理に
よって第4図に示すように、ボア8の底部のA(2板1
の面には、クロム酸膜10が形成される。
次いで、これを重クロム酸溶液より引き上げ、洗浄して
、重クロム酸溶液を除去した後、従来と同様、第5図に
示すように磁性体層5および保護膜6を形成する。
、重クロム酸溶液を除去した後、従来と同様、第5図に
示すように磁性体層5および保護膜6を形成する。
このようにしてつくられた磁気ディスクは、20°Cの
純水に長期間浸漬しておいても、変色やくもりが発生す
ることがない。
純水に長期間浸漬しておいても、変色やくもりが発生す
ることがない。
実施例1
4wt%のMgを含有したAR合金製板を印加電圧48
Vのしゅう酸3%浴中で陽極酸化して、表面に径25r
+n+のボアがセル径(ボアとボアの間隔)110nm
で規則的に配列されている厚さ10μmのアルマイト層
を形成した。
Vのしゅう酸3%浴中で陽極酸化して、表面に径25r
+n+のボアがセル径(ボアとボアの間隔)110nm
で規則的に配列されている厚さ10μmのアルマイト層
を形成した。
これをCuSo4溶中で電解メツキ処理し、ボア中にC
uを析出充填した。次いで0.8μm径のアルミナ粉末
を研摩材として研摩し、アルマイト層の厚みを5μmと
した。この面を4%NaOH水溶液でエツチングし、ア
ルマイト層よりCuを20nm突出せしめた。
uを析出充填した。次いで0.8μm径のアルミナ粉末
を研摩材として研摩し、アルマイト層の厚みを5μmと
した。この面を4%NaOH水溶液でエツチングし、ア
ルマイト層よりCuを20nm突出せしめた。
これを、重クロム酸カリウム15g/ρ、炭酸ナトリウ
ム4g/(!の水溶液をPH6,5〜7.5、温度90
〜95°Cとして2〜12分浸漬するクロム酸処理を行
った。
ム4g/(!の水溶液をPH6,5〜7.5、温度90
〜95°Cとして2〜12分浸漬するクロム酸処理を行
った。
これを洗浄、乾燥した後、スパッタリングによって、C
r200n+n、 CoNiCr60nylの厚さに順
次被覆して磁性体層を形成し、さらにその上面にカーボ
ン保護層を形成して、磁気ディスクを作製した。
r200n+n、 CoNiCr60nylの厚さに順
次被覆して磁性体層を形成し、さらにその上面にカーボ
ン保護層を形成して、磁気ディスクを作製した。
この磁気ディスク100枚を20°Cの純水中に2週問
浸漬したが、変色やくもりを生ずるものはなかった。
浸漬したが、変色やくもりを生ずるものはなかった。
比較例1
クロム酸処理を行わないで、エツチングした後、ただち
に磁性体層を形成した以外は実施例1と同じにして磁気
ディスクを作製した。
に磁性体層を形成した以外は実施例1と同じにして磁気
ディスクを作製した。
この磁気ディスク100枚を20°Cの純水中に浸漬し
たところ、1週間で、うち6枚に変色やくもりが認めら
れた。
たところ、1週間で、うち6枚に変色やくもりが認めら
れた。
実施例2
アルマイト層を形成したA[板にエツチング処理を施し
、次いでクロム酸処理して、この面に磁性体層および保
護層を形成した。これを20°C純水中に1週間浸漬し
たが、磁性体層の変色、くもりは認められなかった。
、次いでクロム酸処理して、この面に磁性体層および保
護層を形成した。これを20°C純水中に1週間浸漬し
たが、磁性体層の変色、くもりは認められなかった。
比較例2
クロム酸処理を行わなかった以外は、実施例2と同じに
した。これを20’Cの純水に浸漬したところ、2〜3
日で変色、くもりが発生した。
した。これを20’Cの純水に浸漬したところ、2〜3
日で変色、くもりが発生した。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の磁気ディスクの製法は、
クロム酸処理を行うことにより、磁気ディスクの不良品
の発生が皆無となり、安定して効率のよい生産が可能と
なる利点を有し、この業界に寄与することは極めて大き
い。
クロム酸処理を行うことにより、磁気ディスクの不良品
の発生が皆無となり、安定して効率のよい生産が可能と
なる利点を有し、この業界に寄与することは極めて大き
い。
第1図ないし第5図は、本発明に係る磁気ディスク基板
の製法の一例を示すもので、第1図はアルマイト層のボ
アに非磁性金属を充填した図、第2図は表面を研摩した
図、第3図はアルマイト層をエツチングして非磁性金属
を突出せしめた場合、非磁性金属が充填されていない孔
底部がエツチングされ、AQ、板が露出した状態を示す
図、第4図は露出したAQ板面にクロム酸膜を形成した
図、第5図は表面に磁性体層および保護膜を形成し、磁
気ディスクとした図、第6図ないし第9図はアルマイト
層のすべてのボアに非磁性金属か充填されたと仮定した
場合を示すもので、第6図はアルマイト層にボアが形成
されている状態を示す図、第7図は表面研摩した図、第
8図はエツチングして非磁性金属を突出せしめた図、第
9図は表面に磁性体層および保護膜を形成して磁気ディ
スクとした図である。 第1図 1・・・・・・A(2板、2・・・・・・ボア、3・・
・・・・アルマイト層。 4・・・・・・非磁性金属、5・・・・・・磁性体層、
6・・・・・・保護膜。 7.7′・・・・・・磁気ディスク 8・・・・・非磁性金属が充填されていないボア。 9・・・・・バリヤ層、10・・・・・・クロム酸膜。
の製法の一例を示すもので、第1図はアルマイト層のボ
アに非磁性金属を充填した図、第2図は表面を研摩した
図、第3図はアルマイト層をエツチングして非磁性金属
を突出せしめた場合、非磁性金属が充填されていない孔
底部がエツチングされ、AQ、板が露出した状態を示す
図、第4図は露出したAQ板面にクロム酸膜を形成した
図、第5図は表面に磁性体層および保護膜を形成し、磁
気ディスクとした図、第6図ないし第9図はアルマイト
層のすべてのボアに非磁性金属か充填されたと仮定した
場合を示すもので、第6図はアルマイト層にボアが形成
されている状態を示す図、第7図は表面研摩した図、第
8図はエツチングして非磁性金属を突出せしめた図、第
9図は表面に磁性体層および保護膜を形成して磁気ディ
スクとした図である。 第1図 1・・・・・・A(2板、2・・・・・・ボア、3・・
・・・・アルマイト層。 4・・・・・・非磁性金属、5・・・・・・磁性体層、
6・・・・・・保護膜。 7.7′・・・・・・磁気ディスク 8・・・・・非磁性金属が充填されていないボア。 9・・・・・バリヤ層、10・・・・・・クロム酸膜。
Claims (1)
- 陽極酸化処理された板のアルマイト層のボア中に、非磁
性金属を充填し、表面研摩を施しついでその表面をエッ
チングした後、クロム酸処理を施すことを特徴とする磁
気ディスク基板の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7488690A JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7488690A JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03273526A true JPH03273526A (ja) | 1991-12-04 |
JP2944133B2 JP2944133B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=13560298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7488690A Expired - Fee Related JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2944133B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP7488690A patent/JP2944133B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2944133B2 (ja) | 1999-08-30 |
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