JPS61175920A - 磁気デイスク基板 - Google Patents
磁気デイスク基板Info
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- JPS61175920A JPS61175920A JP60015056A JP1505685A JPS61175920A JP S61175920 A JPS61175920 A JP S61175920A JP 60015056 A JP60015056 A JP 60015056A JP 1505685 A JP1505685 A JP 1505685A JP S61175920 A JPS61175920 A JP S61175920A
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- plating
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract 3
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229910006297 γ-Fe2O3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はアルミニウム又はアルミニウム合金基板をもっ
た高記録密度が可能な薄膜磁気ディスクに関するもので
ある。
た高記録密度が可能な薄膜磁気ディスクに関するもので
ある。
薄膜磁気ディスクとは、スパッタ・メッキ等の。
方法により薄く磁性膜を付与することで、従来の塗布型
ディスクより磁気特性を著しく向上させたものである。
ディスクより磁気特性を著しく向上させたものである。
この薄膜磁気ディスクの基板としては、ヘッドの接触に
対する強度、ヘッドの低浮上量化を満足する平滑度、高
記録密度を可能せしめる表面の無欠陥性等が要求される
。
対する強度、ヘッドの低浮上量化を満足する平滑度、高
記録密度を可能せしめる表面の無欠陥性等が要求される
。
［従来の技術］
、 現在使用されている薄膜磁気ディスク基板としては
アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面に下地膜と
して無電解ニッケルメッキを施し非磁性のニッケルーリ
ン膜を付与したものと、アルマイト処理を施し硬質のア
ルマイト膜を付与したものとの２種類がよく知られてい
る。このような磁気ディスク基板上に薄膜磁性媒体が形
成されて、磁気ディスクとして使用される。
アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面に下地膜と
して無電解ニッケルメッキを施し非磁性のニッケルーリ
ン膜を付与したものと、アルマイト処理を施し硬質のア
ルマイト膜を付与したものとの２種類がよく知られてい
る。このような磁気ディスク基板上に薄膜磁性媒体が形
成されて、磁気ディスクとして使用される。
しかし、磁性膜として、膜形成後３００℃以上に熱処理
しないと磁気特性が実用的にならぬものが多くあり、こ
れらの下地膜のうち実用に耐えうるちのは、クロム酸溶
液によるアルマイト膜のみである。というのは、ニッケ
ルメッキ膜はこの熱処理によって結晶化して帯磁する欠
点があり、他の溶液で作ったアルマイト膜は加熱により
クラックが生じ、所定の耐熱クラック性が満足できない
からである。なお、このような熱処理の必要な磁性膜と
しては、Ｆｅ３Ｏ４から熱酸化させるγ−Ｆｅ ２０３
、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中でスパッタしたあと熱によって
脱窒素結晶粒子化するＣｏ −Ｎｉ等の膜が挙げられる
。
しないと磁気特性が実用的にならぬものが多くあり、こ
れらの下地膜のうち実用に耐えうるちのは、クロム酸溶
液によるアルマイト膜のみである。というのは、ニッケ
ルメッキ膜はこの熱処理によって結晶化して帯磁する欠
点があり、他の溶液で作ったアルマイト膜は加熱により
クラックが生じ、所定の耐熱クラック性が満足できない
からである。なお、このような熱処理の必要な磁性膜と
しては、Ｆｅ３Ｏ４から熱酸化させるγ−Ｆｅ ２０３
、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中でスパッタしたあと熱によって
脱窒素結晶粒子化するＣｏ −Ｎｉ等の膜が挙げられる
。
［発明が解決しようとする問題点］
上で述べたクロム酸溶液によるアルマイト膜を付与した
基板は、高記録密度用の磁気ディスク基板に要求される
強度、平滑度は満足するが、アルミニウム合金を、Ｆｅ
、Ｓｉ等の不純物をできるだけ減らした高純度のもの（
アルミ地金で４Ｎ相当）にしないと、その不純物の金属
間化合物がアルマイト処理中に溶出するためビットが多
く、無欠陥性を満足しない。この高純度の金属を用いれ
ば、無欠陥性は満足されるが、これは、メッキ。
基板は、高記録密度用の磁気ディスク基板に要求される
強度、平滑度は満足するが、アルミニウム合金を、Ｆｅ
、Ｓｉ等の不純物をできるだけ減らした高純度のもの（
アルミ地金で４Ｎ相当）にしないと、その不純物の金属
間化合物がアルマイト処理中に溶出するためビットが多
く、無欠陥性を満足しない。この高純度の金属を用いれ
ば、無欠陥性は満足されるが、これは、メッキ。
塗布等で用いるＪ １８５０８６合金の低純度のものに
比べ、コストが約２．５倍と高価であり、伸びが大きい
ため加工性がやや劣る。
比べ、コストが約２．５倍と高価であり、伸びが大きい
ため加工性がやや劣る。
Ｕ問題点を解決するための手段］
発明者らは、安く加工性の良い低純度の５０８６を用い
て、表面のビット等の欠陥の無いアルマイト膜を作るこ
とを研究した結果、アルマイト膜の上に非磁性金属の電
解メッキを施して、その後表面を平滑に研摩すればよい
ことがわかった。
て、表面のビット等の欠陥の無いアルマイト膜を作るこ
とを研究した結果、アルマイト膜の上に非磁性金属の電
解メッキを施して、その後表面を平滑に研摩すればよい
ことがわかった。
つまり、金属間化合物が溶出してビットとなった所はア
ルマイト層が薄いため、優先的にメッキがつきはじめる
ので、ビットがふさがるぐらいに生成したところでメッ
キをやめ、そのあとで金属とアルマイト膜とを同一面に
なるよう研摩するものである。メッキする金属は銅、錫
、クロム、亜鉛等の非磁性金属ならいずれでもよいが、
銅のメッキ性が良好なので銅が特に望ましい。この上に
薄膜磁性媒体がスパッターなどで形成される。
ルマイト層が薄いため、優先的にメッキがつきはじめる
ので、ビットがふさがるぐらいに生成したところでメッ
キをやめ、そのあとで金属とアルマイト膜とを同一面に
なるよう研摩するものである。メッキする金属は銅、錫
、クロム、亜鉛等の非磁性金属ならいずれでもよいが、
銅のメッキ性が良好なので銅が特に望ましい。この上に
薄膜磁性媒体がスパッターなどで形成される。
なお、アルマイト膜には、膜生成時に形成された通電孔
が均一に多くおいているが、これらは直径２００〜５０
０人と小さく、この上に形成された薄膜磁性媒体の出力
ドロップアウトには影響を及はざない。また、小さな通
電孔は金属イオンがはいりにくいものであるため、ビッ
トにかかわらずメッキが施されるの問題もほとんどない
。
が均一に多くおいているが、これらは直径２００〜５０
０人と小さく、この上に形成された薄膜磁性媒体の出力
ドロップアウトには影響を及はざない。また、小さな通
電孔は金属イオンがはいりにくいものであるため、ビッ
トにかかわらずメッキが施されるの問題もほとんどない
。
また、実際にヘッドを接触させた場合、滑走面は大部分
アルマイトに接するため、柔らかい金属をメッキしても
強度的には何ら支障はない。
アルマイトに接するため、柔らかい金属をメッキしても
強度的には何ら支障はない。
（実施例〕
低純度のアルミニウム合金５０８６ （Ｍｌ） ３．５
％、 Ｆｅ ｉ４ｏｏｐｐｍ 、 Ｓ ｉ ｓａｏｐｐ
ｍ、 Ｍｎ ３７００ＤＤＩｌ 。
％、 Ｆｅ ｉ４ｏｏｐｐｍ 、 Ｓ ｉ ｓａｏｐｐ
ｍ、 Ｍｎ ３７００ＤＤＩｌ 。
ＣＬＩ ４３ｏｐｐｍ、 Ｔ ｉ ２９０１）ｌ）ＩＩ
Ｉ）を外径φ１３Ｏｎ＋ｍ 、内径φａｏｍｍ、厚み１
．９０５ｍｍに加工したサブストレートをクロム酸溶液
（Ｃｒ Ｏ３５０Ｌ／ Ｑ ）の中テＤ０５０Ｖ、５０
℃で９０分処理し、約１５μ県厚のアルマイト膜をつけ
る。水洗後、Ｃｔｌ Ｓ ＯＡ ２００（＋／ ’ｎ
。
Ｉ）を外径φ１３Ｏｎ＋ｍ 、内径φａｏｍｍ、厚み１
．９０５ｍｍに加工したサブストレートをクロム酸溶液
（Ｃｒ Ｏ３５０Ｌ／ Ｑ ）の中テＤ０５０Ｖ、５０
℃で９０分処理し、約１５μ県厚のアルマイト膜をつけ
る。水洗後、Ｃｔｌ Ｓ ＯＡ ２００（＋／ ’ｎ
。
Ｈ２５Ｏ４５０Ｑ／Ｑ溶液の中で２５℃ＩＡ／ｄＩ１２
（２〜２．５Ｖ ）で２分間銅メツキを行う。その後、
平均粒径０，３μｍのアルミナの粉を用いて、圧力１３
０ （Ｊ ／ＣＩｌ＋２でボリシング加工して平滑面を
だす。
（２〜２．５Ｖ ）で２分間銅メツキを行う。その後、
平均粒径０，３μｍのアルミナの粉を用いて、圧力１３
０ （Ｊ ／ＣＩｌ＋２でボリシング加工して平滑面を
だす。
水洗乾燥後、マグネトロンスパッタ法でＦｅ３Ｏ４を１
７０ＯＡ付与し３４０℃Ｘ ３ｈｒの熱処理テγ−Ｆｅ
２０３に酸化させた。
７０ＯＡ付与し３４０℃Ｘ ３ｈｒの熱処理テγ−Ｆｅ
２０３に酸化させた。
この完成したディスクをサファイヤヘッドでバニシング
したあと、ウィンチェスタ−ヘッド（トラック幅５１μ
ｍ、ギャップ長１．０μ鋼、ギャップ深さ２０μｌ）で
エラー測定を行った。エラーは出力ドロップアウト（平
均の６０％以下）を数えた。
したあと、ウィンチェスタ−ヘッド（トラック幅５１μ
ｍ、ギャップ長１．０μ鋼、ギャップ深さ２０μｌ）で
エラー測定を行った。エラーは出力ドロップアウト（平
均の６０％以下）を数えた。
また、それと比較するため、メッキを施さないだけであ
とはすべて上記のものと同じものと、材質は地金４Ｎ相
当の高純度品（Ｍｇ３．５％、 ｌｅｅ３２ｐｐｍ 、
３ ｉ ｌｐｐｍ＋、 Ｍｎ ４ｐｐｍ、 Ｃｕ ３
ｐｐｍ、丁１１ｐｐｍ）のもので、メッキを施さないで
あとはすべて上記のものと同じものとの２種類を別に作
り、エラー測定を行った。
とはすべて上記のものと同じものと、材質は地金４Ｎ相
当の高純度品（Ｍｇ３．５％、 ｌｅｅ３２ｐｐｍ 、
３ ｉ ｌｐｐｍ＋、 Ｍｎ ４ｐｐｍ、 Ｃｕ ３
ｐｐｍ、丁１１ｐｐｍ）のもので、メッキを施さないで
あとはすべて上記のものと同じものとの２種類を別に作
り、エラー測定を行った。
これらを各々５枚ずつ製作してテストしたところ、結果
は次の表の通りであった。
は次の表の通りであった。
以上のように、たとえ材質が金属間化合物の多いものを
用いてアルマイトしても、メッキで穴をうめれば高価な
高純度品のものと何ら変わりがないことがわかる。
用いてアルマイトしても、メッキで穴をうめれば高価な
高純度品のものと何ら変わりがないことがわかる。
また、そのメッキがついているところの断面図を第１図
に示す。ここで、１はアルミニウム基板、２はアルマイ
ト層、３はメッキ部でこれらを約１ｏｏｏ倍に拡大した
図である。他の位置を調べると、ビット部以外にもメッ
キが成長した所もあり、上記円盤の場合、外周側がより
銅が付着しているが、少なくともビット部はすべて銅で
うまっていることが観察できた。
に示す。ここで、１はアルミニウム基板、２はアルマイ
ト層、３はメッキ部でこれらを約１ｏｏｏ倍に拡大した
図である。他の位置を調べると、ビット部以外にもメッ
キが成長した所もあり、上記円盤の場合、外周側がより
銅が付着しているが、少なくともビット部はすべて銅で
うまっていることが観察できた。
［発明の効果］
本発明により、低価格で加工性のよい低純度のアルミ合
金を用いて、アルマイト下地膜のエラー欠陥原因となる
ピットのない磁気ディスク基板が作成できた。
金を用いて、アルマイト下地膜のエラー欠陥原因となる
ピットのない磁気ディスク基板が作成できた。
第１図はアルマイト上にメッキをした基板の研摩前のも
のの断面図である。 島
のの断面図である。 島
Claims (1)
- アルミニウムまたはアルミニウム合金にアルマイト処理
した基板を使用した磁気ディスクにおいて、アルマイト
膜上の凹部に付着され、まわりのアルマイト面を同一面
になるよう平滑に研摩された非磁性金属の電解メッキ層
と、その上に形成した薄膜磁性媒体とを有し、実質的に
出力ドロップアウトのないことを特徴とする磁気ディス
ク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60015056A JPS61175920A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気デイスク基板 |
| DE19853534578 DE3534578A1 (de) | 1985-01-29 | 1985-09-27 | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60015056A JPS61175920A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気デイスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61175920A true JPS61175920A (ja) | 1986-08-07 |
Family
ID=11878177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60015056A Pending JPS61175920A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気デイスク基板 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61175920A (ja) |
| DE (1) | DE3534578A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5421307A (en) * | 1977-07-19 | 1979-02-17 | Fujitsu Ltd | Magnetic recording medium and production of the same |
| JPS5772307A (en) * | 1980-10-23 | 1982-05-06 | Natl Res Inst For Metals | Alloy film material for magneticstorage and manufacture of the same |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3886852A (en) * | 1972-12-18 | 1975-06-03 | Salvador J Acosta | Roof jack structure |
| DE2451276C2 (de) * | 1974-10-29 | 1982-12-30 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung starrer magnetischer Aufzeichnungsträger |
-
1985
- 1985-01-29 JP JP60015056A patent/JPS61175920A/ja active Pending
- 1985-09-27 DE DE19853534578 patent/DE3534578A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5421307A (en) * | 1977-07-19 | 1979-02-17 | Fujitsu Ltd | Magnetic recording medium and production of the same |
| JPS5772307A (en) * | 1980-10-23 | 1982-05-06 | Natl Res Inst For Metals | Alloy film material for magneticstorage and manufacture of the same |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0833983B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1996-03-29 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3534578A1 (de) | 1986-07-31 |
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