JPS6370925A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6370925A JPS6370925A JP61216806A JP21680686A JPS6370925A JP S6370925 A JPS6370925 A JP S6370925A JP 61216806 A JP61216806 A JP 61216806A JP 21680686 A JP21680686 A JP 21680686A JP S6370925 A JPS6370925 A JP S6370925A
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Landscapes
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- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、カセットテープ、フロッピーディスク、ハー
ドディスク等として使用される磁気記録媒体を製造する
方法に関するものである。
ドディスク等として使用される磁気記録媒体を製造する
方法に関するものである。
［従来技術］
第２図は、従来一般に知られているこの種の磁気記録媒
体の構造を示している。この図では、アルミニウム等の
金属製、或いはプラスチック製の基板ａの表面に非磁性
層すが形成され、その上に磁性層Ｃが形成されている。
体の構造を示している。この図では、アルミニウム等の
金属製、或いはプラスチック製の基板ａの表面に非磁性
層すが形成され、その上に磁性層Ｃが形成されている。
この非磁性層すの表面に磁性層Ｃを形成させる方法の１
つとして無電解メッキ法がよく知られている。この方法
というのは、基板ａの表面に非磁性層すが形成された材
料を無電解メッキ浴に浸漬し、非磁性層す上に磁性粒子
を析出させることにより磁性層Ｃを形成させるものであ
る。
つとして無電解メッキ法がよく知られている。この方法
というのは、基板ａの表面に非磁性層すが形成された材
料を無電解メッキ浴に浸漬し、非磁性層す上に磁性粒子
を析出させることにより磁性層Ｃを形成させるものであ
る。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで上述の如く、無電解メッキ法により非磁性層の
表面に磁性層を形成させる場合、初期段階の析出過程で
は細かい磁性粒子が析出するが、ある程度析出が進行す
るとメッキ浴の析出活性化エネルギーが低下する。第３
図はこのことを説明するため図示したものであるが、例
えば、Ｎ１−Ｐの非磁性層の上にＧｏ−Ｐの磁性層を形
成させる場合、［Ｃ０Ｘｎ］”−１Ｈ２ＰＯ２−を含む
液組成の無電解メッキ浴を用いたとすれば、初期段階の
析出過程では第３図中実線で示したように高い活性化エ
ネルギーを示すが、析出が進行すると非磁性層がＣｏ−
Ｐの磁性粒子で覆われ、今度は磁性粒子上に磁性粒子が
析出することになり、そのため同図中破線で示したよう
に活性化エネルギーが低下する。そこで磁性粒子の析出
及び結晶成長スピードは活性化エネルギーに支配される
ため、後に析出してくる磁性粒子の結晶粒径が段々と大
きなものとなっていく。つまるところ磁性層の表層側で
は第４図に示したように、大きな粒径の磁性粒子が析出
された結晶構造となる。このことが磁気記録媒体として
の保磁力を低下させる原因となっていた。
表面に磁性層を形成させる場合、初期段階の析出過程で
は細かい磁性粒子が析出するが、ある程度析出が進行す
るとメッキ浴の析出活性化エネルギーが低下する。第３
図はこのことを説明するため図示したものであるが、例
えば、Ｎ１−Ｐの非磁性層の上にＧｏ−Ｐの磁性層を形
成させる場合、［Ｃ０Ｘｎ］”−１Ｈ２ＰＯ２−を含む
液組成の無電解メッキ浴を用いたとすれば、初期段階の
析出過程では第３図中実線で示したように高い活性化エ
ネルギーを示すが、析出が進行すると非磁性層がＣｏ−
Ｐの磁性粒子で覆われ、今度は磁性粒子上に磁性粒子が
析出することになり、そのため同図中破線で示したよう
に活性化エネルギーが低下する。そこで磁性粒子の析出
及び結晶成長スピードは活性化エネルギーに支配される
ため、後に析出してくる磁性粒子の結晶粒径が段々と大
きなものとなっていく。つまるところ磁性層の表層側で
は第４図に示したように、大きな粒径の磁性粒子が析出
された結晶構造となる。このことが磁気記録媒体として
の保磁力を低下させる原因となっていた。
［発明の目的］
本発明は、このような従来欠点に鑑みて為されたもので
あり、その目的とするところは、高い保磁力をもつ、磁
気記録特性に優れた磁気記録媒体を製造することにある
。
あり、その目的とするところは、高い保磁力をもつ、磁
気記録特性に優れた磁気記録媒体を製造することにある
。
［問題点を解決するための手段］
この目的を達成するため本発明は、無電解メッキ浴中で
非磁性層の表面に初期析出段階の（４性粒子を析出させ
る第１の工程と、該第１の工程により形成された初期析
出磁性粒子をエツチングして該磁性粒子の粒径をさらに
小さくする第２の工程と、再度無電解メッキ浴中で前記
第２の工程により小径化された磁性粒子上に定常析出段
階の磁性粒子を析出させる第３の工程とにより磁気記録
媒体を製造することを要旨とするものでおる。
非磁性層の表面に初期析出段階の（４性粒子を析出させ
る第１の工程と、該第１の工程により形成された初期析
出磁性粒子をエツチングして該磁性粒子の粒径をさらに
小さくする第２の工程と、再度無電解メッキ浴中で前記
第２の工程により小径化された磁性粒子上に定常析出段
階の磁性粒子を析出させる第３の工程とにより磁気記録
媒体を製造することを要旨とするものでおる。
［実施例］
以下に本発明の一実施例を図面を参照して説明する。ま
ず本発明は、第１図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）に示したよ
うに３つの工程からなる。その中で第１の工程は、非磁
性層の表面に無電解メッキにより初期析出段階の磁性粒
子を析出させるものである（第１図（ａ））。この実施
例ではＮ１−Ｐの非磁性層の表面にＣｏ−Ｐの磁性層を
形成させることを想定し、次表に示される液組成の無電
解メッキ浴を用いている。この無電解メッキ浴の液温と
しては約８０℃、浸漬時間は約５秒〜１分程度としてい
る。
ず本発明は、第１図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）に示したよ
うに３つの工程からなる。その中で第１の工程は、非磁
性層の表面に無電解メッキにより初期析出段階の磁性粒
子を析出させるものである（第１図（ａ））。この実施
例ではＮ１−Ｐの非磁性層の表面にＣｏ−Ｐの磁性層を
形成させることを想定し、次表に示される液組成の無電
解メッキ浴を用いている。この無電解メッキ浴の液温と
しては約８０℃、浸漬時間は約５秒〜１分程度としてい
る。
表１
（水１２当り）
硫酸コバルト７水和物 １５ｇ次亜リン酸
ナトリウム１水和物 ２０ＣＩ酒石酸カリウムナト
リウム ２００ｇ硫酸アンモニウム
８０ｇ水酸化ナトリウム（ｐＨ調整用）ｐＨ１０
，０この第１の工程により非磁性層の表面に初期析出段
階の磁性粒子を析出させた材料は、次に第２の工程とし
て、エツチング液に浸漬される。この実施例では６規定
の硝酸をエツチング浴として用い、浸漬時間は約５秒〜
１分程度としている。この第２の工程により、非磁性層
表面の初期析出段階の結晶粒子がエツチングされ、その
粒径が小さくなる（第１図（ｂ））。
ナトリウム１水和物 ２０ＣＩ酒石酸カリウムナト
リウム ２００ｇ硫酸アンモニウム
８０ｇ水酸化ナトリウム（ｐＨ調整用）ｐＨ１０
，０この第１の工程により非磁性層の表面に初期析出段
階の磁性粒子を析出させた材料は、次に第２の工程とし
て、エツチング液に浸漬される。この実施例では６規定
の硝酸をエツチング浴として用い、浸漬時間は約５秒〜
１分程度としている。この第２の工程により、非磁性層
表面の初期析出段階の結晶粒子がエツチングされ、その
粒径が小さくなる（第１図（ｂ））。
このエツチング浴から取り出された材料は、次に第３の
工程として前記した無電解メッキ浴に再度浸漬し、定常
析出段階の磁性粒子を析出させる（第１図〈Ｃ〉）。こ
の場合も液温としては約８０℃、浸漬時間は約１０秒〜
１分程度としている。
工程として前記した無電解メッキ浴に再度浸漬し、定常
析出段階の磁性粒子を析出させる（第１図〈Ｃ〉）。こ
の場合も液温としては約８０℃、浸漬時間は約１０秒〜
１分程度としている。
このようにしてＮ１−Ｐの非磁性層の表面にＧ。
−Ｐの磁性層を所定の厚さに析出形成させる。
しかして本発明方法によれば、第１の無電解メッキ工程
で非磁性層の表面に析出された結晶粒子が第２のエツチ
ング工程でエツチングされてその粒径が小さくなるため
に、次に第３の無電解メッキ工程では、その粒径の小さ
くなった結晶粒子の上に逐次結晶粒子が析出されていく
ことになる。
で非磁性層の表面に析出された結晶粒子が第２のエツチ
ング工程でエツチングされてその粒径が小さくなるため
に、次に第３の無電解メッキ工程では、その粒径の小さ
くなった結晶粒子の上に逐次結晶粒子が析出されていく
ことになる。
そのため元の結晶粒子が細かい分、その上に析出される
結晶粒子の粒径も小さなものとなる。したがって本発明
方法によって得られた磁気記録媒体は、従来方法のよう
に一段階で初期の厚ざまで磁性結晶粒子を析出させる（
第４図参照）に比べて格段に結晶粒径の細かな緻密な結
晶構造のものが得られる。この結果磁性層を所定の厚さ
に析出形成した場合本発明方法によれば、保磁力が１０
００エルステツドの値を示し、従来方法（保磁力８ＯＯ
エルステッド）に較べ、保磁力が大幅に向上することが
判った。なあ、飽和磁化や角型比は本発明方法と従来方
法とで優劣は生じなかった。こられの特性は磁性粒子の
粒径と関係しないものと思われる。
結晶粒子の粒径も小さなものとなる。したがって本発明
方法によって得られた磁気記録媒体は、従来方法のよう
に一段階で初期の厚ざまで磁性結晶粒子を析出させる（
第４図参照）に比べて格段に結晶粒径の細かな緻密な結
晶構造のものが得られる。この結果磁性層を所定の厚さ
に析出形成した場合本発明方法によれば、保磁力が１０
００エルステツドの値を示し、従来方法（保磁力８ＯＯ
エルステッド）に較べ、保磁力が大幅に向上することが
判った。なあ、飽和磁化や角型比は本発明方法と従来方
法とで優劣は生じなかった。こられの特性は磁性粒子の
粒径と関係しないものと思われる。
［発明の効果］
以上実施例について説明したように本発明は、非磁性層
の表面に無電解メッキによって析出させた初期段階の磁
性結晶粒子をエツチングにより一旦微細化し、しかる後
その上に定常段階の磁性結晶粒子を無電解メッキにより
析出させることによって磁性層の結晶構造を微細なもの
としたものであるから、従来にない高い保持力の磁気記
録媒体が得られる。
の表面に無電解メッキによって析出させた初期段階の磁
性結晶粒子をエツチングにより一旦微細化し、しかる後
その上に定常段階の磁性結晶粒子を無電解メッキにより
析出させることによって磁性層の結晶構造を微細なもの
としたものであるから、従来にない高い保持力の磁気記
録媒体が得られる。
第１図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）は本発明方法による磁気
記録媒体の製造工程を説明するための図、第２図は従来
一般的に知られる磁気記録媒体の構造を説明するための
図、第３図は無電解メッキ法にお【ブる析出活性化エネ
ルギー特性を説明するための図、第４図は従来方法によ
って得られる磁気記録媒体の要部の断面構造図である。
記録媒体の製造工程を説明するための図、第２図は従来
一般的に知られる磁気記録媒体の構造を説明するための
図、第３図は無電解メッキ法にお【ブる析出活性化エネ
ルギー特性を説明するための図、第４図は従来方法によ
って得られる磁気記録媒体の要部の断面構造図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 無電解メッキ浴中で非磁性層の表面に初期析出段階の
磁性粒子を析出させる第１の工程と、該第１の工程によ
り形成された初期析出磁性粒子をエッチングして該磁性
粒子の粒径をさらに小さくする第２の工程と、 再度無電解メッキ浴中で前記第２の工程により小径化さ
れた磁性粒子上に定常析出段階の磁性粒子を析出させる
第３の工程 とからなることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216806A JPS6370925A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216806A JPS6370925A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370925A true JPS6370925A (ja) | 1988-03-31 |
Family
ID=16694180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61216806A Pending JPS6370925A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6370925A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7859792B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-12-28 | Tdk Corporation | Magnetic head with a recording element including a non-magnetic film and a magnetic pole film of an electrode and plated film formed in a depression of the magnetic pole film |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP61216806A patent/JPS6370925A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7859792B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-12-28 | Tdk Corporation | Magnetic head with a recording element including a non-magnetic film and a magnetic pole film of an electrode and plated film formed in a depression of the magnetic pole film |
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