JPS62293516A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
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- JPS62293516A JPS62293516A JP13762086A JP13762086A JPS62293516A JP S62293516 A JPS62293516 A JP S62293516A JP 13762086 A JP13762086 A JP 13762086A JP 13762086 A JP13762086 A JP 13762086A JP S62293516 A JPS62293516 A JP S62293516A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、コンビス−ター等の磁気記憶装置に用いられ
る磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
る磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
無電解メッキの前処理は、従来、脱脂、エツチング（酸
洗）、活性化の３工程によって行われてきた。脱脂、エ
ツチング（酸洗）の工程は、メッキ被膜を密着性よく均
一に形成するのに重要な工程であり、金属基板上へ無電
解メッキ被膜を形成する場合、次の活性化工程を省略す
る場合もあるガラス、プラスチック、セラミック等の絶
縁体に無電解メッキを行う場合は、該基板上に金ｒ４パ
ラジウム等の触媒核を形成する必要があり、一般ニ、塩
化第一スズ溶液に浸漬することで、スズの２価イオンを
吸着させるセンシタイジング工程、この後、塩化パラジ
ウム等の溶液に浸漬することで Ｓｎ２＋ ＋
Ｐｄ２＋ −＋ Ｓｎ４＋ ＋ Ｐｄ’の反応によ
り、基板表面にパラジウム金属を触媒核として形成され
るアクティベイティング（活性化）工程がある。
洗）、活性化の３工程によって行われてきた。脱脂、エ
ツチング（酸洗）の工程は、メッキ被膜を密着性よく均
一に形成するのに重要な工程であり、金属基板上へ無電
解メッキ被膜を形成する場合、次の活性化工程を省略す
る場合もあるガラス、プラスチック、セラミック等の絶
縁体に無電解メッキを行う場合は、該基板上に金ｒ４パ
ラジウム等の触媒核を形成する必要があり、一般ニ、塩
化第一スズ溶液に浸漬することで、スズの２価イオンを
吸着させるセンシタイジング工程、この後、塩化パラジ
ウム等の溶液に浸漬することで Ｓｎ２＋ ＋
Ｐｄ２＋ −＋ Ｓｎ４＋ ＋ Ｐｄ’の反応によ
り、基板表面にパラジウム金属を触媒核として形成され
るアクティベイティング（活性化）工程がある。
従来は、このような前処理工程を通して、非磁性基板上
に無電解メッキによって磁性膜を形成していた。
に無電解メッキによって磁性膜を形成していた。
こうして得られた磁性膜の特性は、保持力Ｈａ（以下Ｈ
ａと略す）、残留磁束密度Ｂｒ、膜厚δで表わすことが
できる。
ａと略す）、残留磁束密度Ｂｒ、膜厚δで表わすことが
できる。
代表的な磁気記憶装置である、ハードディスクドライブ
の場合、ヘッドの特性が一定であると、記録密度α（Ｈ
Ｃ／Ｂｒ・δ）１／Ｉ 出 力α （Ｈｃ−Ｂｒ・δ）１／２で表わされ
る。
の場合、ヘッドの特性が一定であると、記録密度α（Ｈ
Ｃ／Ｂｒ・δ）１／Ｉ 出 力α （Ｈｃ−Ｂｒ・δ）１／２で表わされ
る。
ハードディスクドライブ装置の場合、要求される記録密
度、記録再生速度等によって、磁気媒体に要求される特
性も異なっており、要求特性に合致した磁気特性をもつ
磁気記録媒体が使用されている。
度、記録再生速度等によって、磁気媒体に要求される特
性も異なっており、要求特性に合致した磁気特性をもつ
磁気記録媒体が使用されている。
磁気記憶装置の特性によって、磁気記録媒体に要求され
る特性は変ってくる。
る特性は変ってくる。
磁性膜の磁気特性は、無電解メッキ被膜の場合、メッキ
液組成に依存しており、興なりた磁気特性をもつ磁気記
録媒体を製造するためには、新しい無電解メッキを開発
する必要がある。また、製造工程ニおいては、磁気特性
の種類によってメッキ液を交換したり、メッキ槽を増設
したりする必要が生じていた。
液組成に依存しており、興なりた磁気特性をもつ磁気記
録媒体を製造するためには、新しい無電解メッキを開発
する必要がある。また、製造工程ニおいては、磁気特性
の種類によってメッキ液を交換したり、メッキ槽を増設
したりする必要が生じていた。
本発明は、非磁性基板を、２価の鉄イオンと３価の鉄イ
オンのどちらか一方、あるいはその両方が溶解している
水溶液に浸漬した後、コバルトイオン、あるいは、コバ
ルトイオンとニッケルイオンを含んだ無電解メッキ液の
中へ浸漬することにより九該基板上に磁性膜を形成する
ことによって、異なった磁気特性をもつ磁気記録体を製
造する方法に関している。
オンのどちらか一方、あるいはその両方が溶解している
水溶液に浸漬した後、コバルトイオン、あるいは、コバ
ルトイオンとニッケルイオンを含んだ無電解メッキ液の
中へ浸漬することにより九該基板上に磁性膜を形成する
ことによって、異なった磁気特性をもつ磁気記録体を製
造する方法に関している。
基板を鉄イオンを含む水溶液中に浸漬することにより、
基板上に、鉄が水酸化物イオンとして吸着し、基板の活
性状態を変化させ、磁性メッキの初期析出過程に影響を
及ぼすと考えられる。このため、同じ無電解メッキ液で
形成された磁性膜でありながら、鉄の水酸化物イオンが
吸着した基板に基或された磁性膜と鉄の水酸化物イオン
が吸着していない基板に形成された磁性膜と磁気特性が
異なると考えられる。
基板上に、鉄が水酸化物イオンとして吸着し、基板の活
性状態を変化させ、磁性メッキの初期析出過程に影響を
及ぼすと考えられる。このため、同じ無電解メッキ液で
形成された磁性膜でありながら、鉄の水酸化物イオンが
吸着した基板に基或された磁性膜と鉄の水酸化物イオン
が吸着していない基板に形成された磁性膜と磁気特性が
異なると考えられる。
以上よ″す、２価及び３価の鉄イオンを圧成させる鉄化
合物は、水に溶解し、水酸化物イオンを形成するもので
あれば何でも良いが、例えば、硫酸第一鉄、硫酸第２鉄
、塩化第一鉄、塩化第２鉄。
合物は、水に溶解し、水酸化物イオンを形成するもので
あれば何でも良いが、例えば、硫酸第一鉄、硫酸第２鉄
、塩化第一鉄、塩化第２鉄。
硝酸第１鉄、硝酸第２鉄等がある。
これらの濃度は、要求する磁気特性によって変ってくる
が、いづれも１×１０″″１ｍＯβ 以上になると、Ｈ
ｃの変化はみとめられなかった。
が、いづれも１×１０″″１ｍＯβ 以上になると、Ｈ
ｃの変化はみとめられなかった。
以下に実施例を用いて詳細に説明する。
〔実施例１〕
アルミの薄板にニッケルーリンの無電解メッキ膜を５μ
ｍ形成し非磁性基板を作った。これを硫酸第１鉄の水溶
液に１分間浸漬し、以下の組成の無電解メッキ液に浸漬
することで、非磁性基板上にＪ厚７００Ｘの磁性膜を形
成した７ 硫酸コバルト ０．０８ ｍａｌ１７個硫
Ｍ二ｙケル ［ｌＬｏ ２ ｍｏｌ／１酒石
酸ナトリウム ０．１５ ｍａｌｌ、／ｉ。
ｍ形成し非磁性基板を作った。これを硫酸第１鉄の水溶
液に１分間浸漬し、以下の組成の無電解メッキ液に浸漬
することで、非磁性基板上にＪ厚７００Ｘの磁性膜を形
成した７ 硫酸コバルト ０．０８ ｍａｌ１７個硫
Ｍ二ｙケル ［ｌＬｏ ２ ｍｏｌ／１酒石
酸ナトリウム ０．１５ ｍａｌｌ、／ｉ。
リンゴ酸ナトリウム （Ｌ ６０ ｍａｌｌ、／ｆ
ｌ。
ｌ。
硫酸アンモニウム α０５ ｍａｌｌｆｌ。
ホウ酸 ０．２０ ｍｏｌ／１次並リ
ン次子リン酸ナトリウム １６ ｍｏｌｔ／λＰＨ（Ｕ
ａＯＨで調整） 第１図は、硫酸第１鉄の水溶液の濃度がＯｍａｌｌＬ
から１ ｍｏｌ、Ａの時の、磁性膜のもつ保磁力Ｈａを
示した図である。硫酸第１鉄の濃度がｏ、 ５ｍｏｎ／
ｆＬを越えるとＨｃの変化はみられなかった。
ン次子リン酸ナトリウム １６ ｍｏｌｔ／λＰＨ（Ｕ
ａＯＨで調整） 第１図は、硫酸第１鉄の水溶液の濃度がＯｍａｌｌＬ
から１ ｍｏｌ、Ａの時の、磁性膜のもつ保磁力Ｈａを
示した図である。硫酸第１鉄の濃度がｏ、 ５ｍｏｎ／
ｆＬを越えるとＨｃの変化はみられなかった。
〔実施例２〕
実施例１と同様にアルミのＭ膜にニッケル・リンの無電
解メッキ膜を５μｍ形成し、非磁性基板を作った。これ
を 水溶液に１分間浸漬し、実施例１と゛同一の組成の無電
解メッキ液に浸漬することで、非磁性基板上に膜厚７０
０Ｘの磁性膜を形成した。
解メッキ膜を５μｍ形成し、非磁性基板を作った。これ
を 水溶液に１分間浸漬し、実施例１と゛同一の組成の無電
解メッキ液に浸漬することで、非磁性基板上に膜厚７０
０Ｘの磁性膜を形成した。
第２図は堤化華１＃！Ｌ
の水溶液の濃度がＯｎｏλ／２から１ ｍｏｂ／ｉ−の
時の磁性膜のもつ保磁力Ｈａを示した図である。
時の磁性膜のもつ保磁力Ｈａを示した図である。
の濃度がα５ ｍｏｌ／Ｘを越えるとＨａの変化はそれ
以上みられなかった。
以上みられなかった。
以上の実施例かられかるように、本発明の２価の鉄イオ
ン、３価の鉄イオンのどちらか一方、あるいはその両方
が溶解している水溶液に浸漬することによって、磁性メ
ッキ液の組成を変えることな（、Ｈａを変えることがで
きた。
ン、３価の鉄イオンのどちらか一方、あるいはその両方
が溶解している水溶液に浸漬することによって、磁性メ
ッキ液の組成を変えることな（、Ｈａを変えることがで
きた。
これによって、巣なりた磁気特性をもつ磁気媒体を製造
するために仁新しい無電解メッキ液を開発する必要はな
くなり、また、製造工程において磁気特性の種類により
、メッキ液を交換したり、メッキ槽を増設したりする必
要がなくなりた。
するために仁新しい無電解メッキ液を開発する必要はな
くなり、また、製造工程において磁気特性の種類により
、メッキ液を交換したり、メッキ槽を増設したりする必
要がなくなりた。
第１図は、前浸漬する硫酸第１鉄水溶液の濃度とＨａの
関係図。 第２図は、前浸漬する塩化第１鉄水溶液濃度と１（ｃの
関係図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 看、５ａｖ ）（ｃ翅し滓鰻
関係図。 第２図は、前浸漬する塩化第１鉄水溶液濃度と１（ｃの
関係図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 看、５ａｖ ）（ｃ翅し滓鰻
Claims (1)
- 非磁性基板を、２価の鉄イオンと３価の鉄イオンのど
ちらか一方、あるいはその両方が溶解している水溶液に
浸漬した後、コバルトイオンあるいは、コバルトイオン
とニッケルイオンを含んだ無電解メッキ液の中へ浸漬す
ることにより、該基板上に磁性膜を形成することを特徴
とする磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13762086A JPS62293516A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13762086A JPS62293516A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293516A true JPS62293516A (ja) | 1987-12-21 |
Family
ID=15202930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13762086A Pending JPS62293516A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62293516A (ja) |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP13762086A patent/JPS62293516A/ja active Pending
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