JPS63134668A - 磁性めつき液 - Google Patents
磁性めつき液Info
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- JPS63134668A JPS63134668A JP28159686A JP28159686A JPS63134668A JP S63134668 A JPS63134668 A JP S63134668A JP 28159686 A JP28159686 A JP 28159686A JP 28159686 A JP28159686 A JP 28159686A JP S63134668 A JPS63134668 A JP S63134668A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/48—Coating with alloys
- C23C18/50—Coating with alloys with alloys based on iron, cobalt or nickel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔に梁上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク装置等に用いられる磁性媒体を
製造する磁性めっき液に関する。
製造する磁性めっき液に関する。
磁気ディスク装置は、高記憶容量と高速アクセスを特色
として、コンビエータの外部記憶装置に用いられている
。又、磁気ディスク装置に用いられている磁性媒体は、
従来ｒ−７エライトのような磁性粒子を非磁性基板上に
塗布することにより製造されてきた。ところが近年の磁
気ディスク装置の高容量化側向により、連続薄膜磁性媒
体が用いられ、その製造方法には大祉安定生産が可能な
無［解めっき法が用いられている。しかし、連続Ｍ膜磁
性媒体の磁性層は、コバルト、ニッケルを主成分とする
ため、純水や塩素イオンや硫酸イオンにより腐食しやす
い。そこで腐食を防ぐために、けい素化合物のような絶
縁物をスピンコードする方法やスパッタリングする方法
が行なわれてきた。
として、コンビエータの外部記憶装置に用いられている
。又、磁気ディスク装置に用いられている磁性媒体は、
従来ｒ−７エライトのような磁性粒子を非磁性基板上に
塗布することにより製造されてきた。ところが近年の磁
気ディスク装置の高容量化側向により、連続薄膜磁性媒
体が用いられ、その製造方法には大祉安定生産が可能な
無［解めっき法が用いられている。しかし、連続Ｍ膜磁
性媒体の磁性層は、コバルト、ニッケルを主成分とする
ため、純水や塩素イオンや硫酸イオンにより腐食しやす
い。そこで腐食を防ぐために、けい素化合物のような絶
縁物をスピンコードする方法やスパッタリングする方法
が行なわれてきた。
しかしながら従来の技術では、絶縁層をスピンコード法
やスパッタリング法で形成させても、その膜厚を数１ｏ
ｏｏＸ以上にしなければ、ピンホールが発生し腐食を防
ぐことができない。又、絶縁層を数１ｏｏｏ１以上形成
させると、磁気記録の再生時に、磁気ヘッドと磁性層と
の間の浮上社が大きくなり、出力低下等の電磁変換特性
の劣化が起こるという問題点を有する。又、従来のコバ
ルト、ニッケル系の磁性媒体は、高線記録密度、例えば
１５ＫＩＦＣ工以上で記録再生した場合、磁性媒体から
発生するノイズ出力成分が大きくなり、ＳＮ比が悪くな
るという問題点を有する。
やスパッタリング法で形成させても、その膜厚を数１ｏ
ｏｏＸ以上にしなければ、ピンホールが発生し腐食を防
ぐことができない。又、絶縁層を数１ｏｏｏ１以上形成
させると、磁気記録の再生時に、磁気ヘッドと磁性層と
の間の浮上社が大きくなり、出力低下等の電磁変換特性
の劣化が起こるという問題点を有する。又、従来のコバ
ルト、ニッケル系の磁性媒体は、高線記録密度、例えば
１５ＫＩＦＣ工以上で記録再生した場合、磁性媒体から
発生するノイズ出力成分が大きくなり、ＳＮ比が悪くな
るという問題点を有する。
本発明は、以上の問題点を解決するものでその目的とす
るところは、磁性媒体自身の純水や塩素イオンや硫酸イ
オンに対する耐食性を向上させ、高記録密度で記録再生
可能な磁性層を形成可能な磁性めっき液を作るものであ
る。
るところは、磁性媒体自身の純水や塩素イオンや硫酸イ
オンに対する耐食性を向上させ、高記録密度で記録再生
可能な磁性層を形成可能な磁性めっき液を作るものであ
る。
本発明の磁性めっき液は、コバルト塩、又はコバルト塩
及びニッケル塩、そしてこれらの金属塩と錯体な形成す
る化合物、金属塩を還元する遷元剤とＰＨ調整剤を含む
水溶液に、レニウム塩と亜鉛塩を同時に添加することを
特徴とする。
及びニッケル塩、そしてこれらの金属塩と錯体な形成す
る化合物、金属塩を還元する遷元剤とＰＨ調整剤を含む
水溶液に、レニウム塩と亜鉛塩を同時に添加することを
特徴とする。
本発明で用いられるレニウム塩の詳しい鋤きは不明であ
るが、金属表面波？ＩｆＩ協会、第６９回学術講演大会
要旨集、２Ａ−１１にあるようにコバルトレニウム金属
は、めっき析出状態で固溶体を形成しているという発表
が行なわれており、この固溶体が耐食性向上に影響を与
えていると考えられる。又、本発明で用いられる亜鉛塩
は、すでに発明者により媒体ノイズを下げＳＮ比を向上
させる働きがあることが知られている。そこで本発明は
、耐食性が良く、媒体ＳＮ比が良好な磁性媒体を提供す
ることについて述べたものである。
るが、金属表面波？ＩｆＩ協会、第６９回学術講演大会
要旨集、２Ａ−１１にあるようにコバルトレニウム金属
は、めっき析出状態で固溶体を形成しているという発表
が行なわれており、この固溶体が耐食性向上に影響を与
えていると考えられる。又、本発明で用いられる亜鉛塩
は、すでに発明者により媒体ノイズを下げＳＮ比を向上
させる働きがあることが知られている。そこで本発明は
、耐食性が良く、媒体ＳＮ比が良好な磁性媒体を提供す
ることについて述べたものである。
次に、本発明の実施例を用いて詳細に説明する〔比較例
１〕 鏡面加工した非磁性基板上に、第１表に示すコバルト−
リン、又は、コバルト−ニッケルーリン無電解磁性めっ
き液で磁性層を５００Ｘ析出させ、その上に保護膜を形
成させ、試料ＡやＢの磁性媒体を製造した。
１〕 鏡面加工した非磁性基板上に、第１表に示すコバルト−
リン、又は、コバルト−ニッケルーリン無電解磁性めっ
き液で磁性層を５００Ｘ析出させ、その上に保護膜を形
成させ、試料ＡやＢの磁性媒体を製造した。
〔比較例２〕
比較例１と同様の非磁性基板上に、第２表に示すコバル
ト−ニッケルー亜鉛−リン、又ハ、コバルト−ニッケル
ーレニウム−リンｍ 電Ｆｎ ！ 性、！／）つき液で
磁性層を５００′ｊ−析出させ、その上に保護膜を形成
させ、試料ＣやＤの磁性媒体を製造した第 ２ 表 〔実施例〕 比較例１と同様の非磁性基板上に、第３表に示すコバル
ト−レニウム−亜鉛−リン、又ハ、コバルト−ニッケル
ーレニウム−亜鉛−リンｍ −ｇ 解ａ性めっき液で磁
性層を５００＾析出させ、その上に保護瞑を形成させ、
試料１〜１２の磁性媒体を製造した。
ト−ニッケルー亜鉛−リン、又ハ、コバルト−ニッケル
ーレニウム−リンｍ 電Ｆｎ ！ 性、！／）つき液で
磁性層を５００′ｊ−析出させ、その上に保護膜を形成
させ、試料ＣやＤの磁性媒体を製造した第 ２ 表 〔実施例〕 比較例１と同様の非磁性基板上に、第３表に示すコバル
ト−レニウム−亜鉛−リン、又ハ、コバルト−ニッケル
ーレニウム−亜鉛−リンｍ −ｇ 解ａ性めっき液で磁
性層を５００＾析出させ、その上に保護瞑を形成させ、
試料１〜１２の磁性媒体を製造した。
以上の比較例及び実施例の磁性媒体を、純水や２容量パ
ーセントの塩酸水溶液や５容量パーセントの硫酸水溶液
にＯから２０分間浸漬し、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）
により残留磁化の変化を規格化して第１図、第２図、第
３図に示したゆさらにそれらの磁性媒体を、ギャップ長
が１８μｍ、浮上ｆｆｉカｃｔ３μｍ、ターン数４４の
マンガン−亜鉛−フェライトヘッド、アデルフィー社製
サーテイファイヤ−とヒエ−レットバラカード社製スペ
クトラムアナライザーにより、１５ＫＩＦＣＩに対応す
る信号を書き込み電流４０ｍＡｐ−ｐで記録再生したと
きの媒体ＳＮ比を測定した。その結果は第４表に示す。
ーセントの塩酸水溶液や５容量パーセントの硫酸水溶液
にＯから２０分間浸漬し、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）
により残留磁化の変化を規格化して第１図、第２図、第
３図に示したゆさらにそれらの磁性媒体を、ギャップ長
が１８μｍ、浮上ｆｆｉカｃｔ３μｍ、ターン数４４の
マンガン−亜鉛−フェライトヘッド、アデルフィー社製
サーテイファイヤ−とヒエ−レットバラカード社製スペ
クトラムアナライザーにより、１５ＫＩＦＣＩに対応す
る信号を書き込み電流４０ｍＡｐ−ｐで記録再生したと
きの媒体ＳＮ比を測定した。その結果は第４表に示す。
第 ４ 表
第１図から第３図まで示すように、磁性めりき液にレニ
ウム塩を添加すると、純水や塩酸や硫酸に対する耐食性
が向上された磁性めっき層を析出させることができた。
ウム塩を添加すると、純水や塩酸や硫酸に対する耐食性
が向上された磁性めっき層を析出させることができた。
又、第４表に示すように、磁性めっき液に亜鉛塩を添加
すると、媒体ＳＮ比の良好な磁性めっき層を析出させる
ことができた。
すると、媒体ＳＮ比の良好な磁性めっき層を析出させる
ことができた。
以上のように、コバルト塩やコバルト塩及びニッケル塩
を用いる無電解めっき液にレニウム塩と亜鉛塩を同時に
添加することで、耐食性が向上し、ＳＮ比が良好になっ
た。
を用いる無電解めっき液にレニウム塩と亜鉛塩を同時に
添加することで、耐食性が向上し、ＳＮ比が良好になっ
た。
以上述べたように本発明によれば、コバルト塩、又は、
コバルト塩及びニッケル塩、そしてこれらの金１４塩と
錯体な形成する化合物、金属塩を還元する遷元剤、ＰＨ
調整剤を含む水溶液に、レニウム塩と亜鉛塩を同時に添
加することで、その磁性めっき層の純水や塩酸や硫酸に
対する耐食性が向上し、又、ＳＮ比が良くなるという効
果を有する。
コバルト塩及びニッケル塩、そしてこれらの金１４塩と
錯体な形成する化合物、金属塩を還元する遷元剤、ＰＨ
調整剤を含む水溶液に、レニウム塩と亜鉛塩を同時に添
加することで、その磁性めっき層の純水や塩酸や硫酸に
対する耐食性が向上し、又、ＳＮ比が良くなるという効
果を有する。
第１図、第２図、第３図は、比較例や実施例の試料をそ
れぞれ純水や２容址パーセントの塩酸や５容量パーセン
トの硫酸に浸漬したときの、浸漬時間と規格化した残留
磁化との関係を表わす図である。 以 上 出願人 セイコーエブンン株式会社 代理人 弁理士最上務（他１名） 茎 １ 因 ￥ Ｌ１コ
れぞれ純水や２容址パーセントの塩酸や５容量パーセン
トの硫酸に浸漬したときの、浸漬時間と規格化した残留
磁化との関係を表わす図である。 以 上 出願人 セイコーエブンン株式会社 代理人 弁理士最上務（他１名） 茎 １ 因 ￥ Ｌ１コ
Claims (2)
- （１）コバルト塩、又はコバルト塩及びニッケル塩、そ
してこれらの金属塩と錯体を形成する化合物、金属塩を
遷元する遷元剤とＰＨ調整剤を含む水溶液に、レニウム
塩と亜鉛塩を同時に添加することを特徴とする磁性めっ
き液。 - （２）コバルト塩、又はコバルト塩及びニッケル塩と一
体を形成する化合物が、酒石酸であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁性めつき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28159686A JPS63134668A (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 磁性めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28159686A JPS63134668A (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 磁性めつき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63134668A true JPS63134668A (ja) | 1988-06-07 |
Family
ID=17641350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28159686A Pending JPS63134668A (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 磁性めつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63134668A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338473A (en) * | 1989-12-08 | 1994-08-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous beta cobaltous hydroxide and method for making |
-
1986
- 1986-11-26 JP JP28159686A patent/JPS63134668A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338473A (en) * | 1989-12-08 | 1994-08-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous beta cobaltous hydroxide and method for making |
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