JPH03181019A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH03181019A JPH03181019A JP31781089A JP31781089A JPH03181019A JP H03181019 A JPH03181019 A JP H03181019A JP 31781089 A JP31781089 A JP 31781089A JP 31781089 A JP31781089 A JP 31781089A JP H03181019 A JPH03181019 A JP H03181019A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置の１つである磁気ディスク装置に
用いられる磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
用いられる磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
最近の磁気ディスク媒体では、高記録密度化の達成のた
め、めっき法、スパッタ法、蒸着法等によって形成され
た磁性薄膜を磁気記録層とする薄膜磁気ディスクが主流
となシつつある。このような薄膜磁気ディスク媒体は磁
気ヘッドと磁気ディスクとの吸着を防止するため、従来
、アルミニウム合金基板等の基体上ＫＮｉ合金めつき層
を形成し、その表面を研磨加工した基板を使用している
。
め、めっき法、スパッタ法、蒸着法等によって形成され
た磁性薄膜を磁気記録層とする薄膜磁気ディスクが主流
となシつつある。このような薄膜磁気ディスク媒体は磁
気ヘッドと磁気ディスクとの吸着を防止するため、従来
、アルミニウム合金基板等の基体上ＫＮｉ合金めつき層
を形成し、その表面を研磨加工した基板を使用している
。
しかしながら、研磨によシ粗面を形成する方法では、研
磨砥粒中の比較的大きな砥粒や研磨時に混入する異物等
によって信号工？−Ｃ）原因となる太い研磨筋を生じ易
く、ディスク全面にわたって一様に適度々粗面を得るこ
とは困難である。さらに機械加工では得られる表面粗さ
が用いる研磨砥粒の大きさによってほぼ決まってしまう
ため、表面粗さを細かく制御することができず、研磨筋
の密度を高めることが困難であった。したがってヘッド
吸着を防ぐには表面粗さを相当大きくする必要があシ、
Ｒ／Ｗ時の信号エラーの発生や磁気ディスクの耐久性の
低下を招く恐れがあった。
磨砥粒中の比較的大きな砥粒や研磨時に混入する異物等
によって信号工？−Ｃ）原因となる太い研磨筋を生じ易
く、ディスク全面にわたって一様に適度々粗面を得るこ
とは困難である。さらに機械加工では得られる表面粗さ
が用いる研磨砥粒の大きさによってほぼ決まってしまう
ため、表面粗さを細かく制御することができず、研磨筋
の密度を高めることが困難であった。したがってヘッド
吸着を防ぐには表面粗さを相当大きくする必要があシ、
Ｒ／Ｗ時の信号エラーの発生や磁気ディスクの耐久性の
低下を招く恐れがあった。
このような課題を解決するために本発明による磁気記録
媒体の製造方法は、アルミニウム基板上に中間層として
無電解Ｎｔ−Ｐ合金層を有し、その上部に形成させるＣ
ｏ合金磁性膜上あるいはその上部に保護層を形成した後
にＡｕ、ＡＰ、Ｐｔ。
媒体の製造方法は、アルミニウム基板上に中間層として
無電解Ｎｔ−Ｐ合金層を有し、その上部に形成させるＣ
ｏ合金磁性膜上あるいはその上部に保護層を形成した後
にＡｕ、ＡＰ、Ｐｔ。
Ｃｕ、Ｐｄ等の貴金属類を微粒子として付着させたもの
である。
である。
本発明による磁気ディスク基板を用いたディスクの表面
粗さ（特に表面の微小突起の高さ、大きさ、形状、密度
等）などの条件は、その磁気ディスクが使用される条件
によってそれぞれ異なる。
粗さ（特に表面の微小突起の高さ、大きさ、形状、密度
等）などの条件は、その磁気ディスクが使用される条件
によってそれぞれ異なる。
ヘッドの種類、構造及び材質、ヘッドの浮上量。
ディスクの回転数、潤滑剤及び保護膜の種類、膜厚など
の条件に応じて磁気ヘッドとの吸着を防止して耐久性に
優れた磁気ディスクを得るための微小突起の高さ、形状
などの条件が選択される。
の条件に応じて磁気ヘッドとの吸着を防止して耐久性に
優れた磁気ディスクを得るための微小突起の高さ、形状
などの条件が選択される。
また、本発明の磁気ディスク基板において用いられる微
粒子は、貴金属微粒子が好ましく、例えば下記のような
方法で付着される。貴金属微粒子付着処理としては、パ
ラジウム、金、銀などの貴金属塩を主として溶解した処
理液に基体を浸漬し、貴金属粒子をｅ、Ｎさせる方法が
好喧しいが、湿式法あるいは乾式法、即ち無電解めっき
、電気めっき、スパッタ、蒸気、イオンブレーティング
、クシスタイオンビーム蒸着等の処理方法でＡｕ、ＡＰ
。
粒子は、貴金属微粒子が好ましく、例えば下記のような
方法で付着される。貴金属微粒子付着処理としては、パ
ラジウム、金、銀などの貴金属塩を主として溶解した処
理液に基体を浸漬し、貴金属粒子をｅ、Ｎさせる方法が
好喧しいが、湿式法あるいは乾式法、即ち無電解めっき
、電気めっき、スパッタ、蒸気、イオンブレーティング
、クシスタイオンビーム蒸着等の処理方法でＡｕ、ＡＰ
。
Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕなどの貴金属を付着させても良い。
処理液を用いた湿式法による貴金属微粒子付着処理方法
としては、プラスチックめっき等の前処理法である活性
化処理方法を転用することができる。これには酸性領域
で行う塩化すず溶液による感受性化処理と塩化パラジウ
ム溶液による活性化処理の２段階活性化処理法、［性領
域で行うすず／パラジウムコロイド触媒溶液と酸・アル
カリ溶液を用いた促進化処理からなる１段階活性化処理
法、アルカリ性領域で行うすず／パラジウム錯体触媒溶
液を用いた１段階活性化処理法、酸性〜中性のいずれで
も行える貴金属塩溶液による活性化処理方法がある。
としては、プラスチックめっき等の前処理法である活性
化処理方法を転用することができる。これには酸性領域
で行う塩化すず溶液による感受性化処理と塩化パラジウ
ム溶液による活性化処理の２段階活性化処理法、［性領
域で行うすず／パラジウムコロイド触媒溶液と酸・アル
カリ溶液を用いた促進化処理からなる１段階活性化処理
法、アルカリ性領域で行うすず／パラジウム錯体触媒溶
液を用いた１段階活性化処理法、酸性〜中性のいずれで
も行える貴金属塩溶液による活性化処理方法がある。
以上の処理方法によって必ずしも本発明の目的とする貴
金属微粒子が付着されて微小突起が形成されるとは限ら
ない。
金属微粒子が付着されて微小突起が形成されるとは限ら
ない。
この処理を行う表面の状態との関係が重要であシ、前処
理として表面改質を行なっておくことが望ましい。表面
改質を行う調整処理には酸処理。
理として表面改質を行なっておくことが望ましい。表面
改質を行う調整処理には酸処理。
アルカリ処理などが用いられる。その後の粗面化処理が
酸性であれば酸処理、アルカリ性であればアルカリ処理
が用いられ、塩酸、硫散、硝酸、有機酸などの各種酸や
アンモニア、苛性ソーダなどの各種アルカリの種類、濃
度、浸漬時間などの調整処理条件は所要の貴金属微粒子
の形態２表面粗さや用いる貴金属微粒子付着処理に応じ
て選定される。
酸性であれば酸処理、アルカリ性であればアルカリ処理
が用いられ、塩酸、硫散、硝酸、有機酸などの各種酸や
アンモニア、苛性ソーダなどの各種アルカリの種類、濃
度、浸漬時間などの調整処理条件は所要の貴金属微粒子
の形態２表面粗さや用いる貴金属微粒子付着処理に応じ
て選定される。
このようにして形成された微粒子上には、保護層、濡滑
層が順次形成されるが、微粒子上に無電解めっきを施せ
ば貴金属微粒子は無電解めっきの触媒作用があるので、
微粒子が成長し、さらに拡大することができ必要に応じ
て適用しうる。
層が順次形成されるが、微粒子上に無電解めっきを施せ
ば貴金属微粒子は無電解めっきの触媒作用があるので、
微粒子が成長し、さらに拡大することができ必要に応じ
て適用しうる。
本発明においては、適度な表面粗さが得られる。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図（ａ）〜（ｃ）は本発明による磁気記録媒体の一
実施例を説明する工程の断面を示したものである。
実施例を説明する工程の断面を示したものである。
同図にｋいて、本実施例に用いられる基板１は、アルミ
ニウム基板２上にＮｉ−Ｐめつき層３を約１５μｍの膜
厚で形成したものを用いる。この基板１を鏡面仕上げ研
磨した後、約５０ＯＡの膜厚でＣｏ−Ｐ磁性層４を形成
させる。次に同図ら）に示すようにこのＣｏ−Ｐ磁性層
４の上面にＮｉ−Ｐめつき層５を約２０ＯＡの膜厚で形
成させる。その後、約３ｗｔ嘩の硫酸溶液に約１分間浸
漬し、水洗いした後、下記表１の処理液組成による処理
液に約５分間浸漬する。これによってＰｄ微粒子６が形
成される。
ニウム基板２上にＮｉ−Ｐめつき層３を約１５μｍの膜
厚で形成したものを用いる。この基板１を鏡面仕上げ研
磨した後、約５０ＯＡの膜厚でＣｏ−Ｐ磁性層４を形成
させる。次に同図ら）に示すようにこのＣｏ−Ｐ磁性層
４の上面にＮｉ−Ｐめつき層５を約２０ＯＡの膜厚で形
成させる。その後、約３ｗｔ嘩の硫酸溶液に約１分間浸
漬し、水洗いした後、下記表１の処理液組成による処理
液に約５分間浸漬する。これによってＰｄ微粒子６が形
成される。
表１
次に同図（ｃ）Ｋ示すようにテトラヒドロキシシラン（
５ｔ（ＯＨ）４）をスピンコード法によシ約５００Ａの
厚さに塗布し、焼成することによシ、保護膜層Ｔが形成
される。そして前記保護膜Ｔ上にフッ素オイル系の潤滑
剤をスピンコートシ、面図（ｃ）に示される潤滑膜層８
を形成させる。
５ｔ（ＯＨ）４）をスピンコード法によシ約５００Ａの
厚さに塗布し、焼成することによシ、保護膜層Ｔが形成
される。そして前記保護膜Ｔ上にフッ素オイル系の潤滑
剤をスピンコートシ、面図（ｃ）に示される潤滑膜層８
を形成させる。
次に本実施例による磁気ディスク媒体の評価結果を下記
表２及び表３に示す。表２はＭｎ−ｚｎ７エライト製ヘ
ッドによる摩擦係数の測定結果を示す。比較のため、従
来媒体の測定結果も示すが、本実施例の媒体は４８Ｈ後
の摩擦係数が小さく、吸着防止効果が顕著である。
表２及び表３に示す。表２はＭｎ−ｚｎ７エライト製ヘ
ッドによる摩擦係数の測定結果を示す。比較のため、従
来媒体の測定結果も示すが、本実施例の媒体は４８Ｈ後
の摩擦係数が小さく、吸着防止効果が顕著である。
表２
なり、同表では従来媒体は、本実施例にＰｄ微粒子を施
さないものである。但し、本実施例は基板を鏡面仕上げ
（ＲａｌＯＡ以下）しているのに対して従来媒体はＲａ
５０〜７０Ａの基板を使用している。
さないものである。但し、本実施例は基板を鏡面仕上げ
（ＲａｌＯＡ以下）しているのに対して従来媒体はＲａ
５０〜７０Ａの基板を使用している。
次に硬度の高いＡｚ−’ｒｔ−ｃ製磁気ヘッドを用いて
約５０００回のＣ８Ｓ試験を行い、耐久性の加速評価を
行なった。Ｃ８Ｓ試験終了後のヘッド摺動部を観察し、
保護膜剥離箇所の総面積を求めて評価した。結果を下記
表３に示す。
約５０００回のＣ８Ｓ試験を行い、耐久性の加速評価を
行なった。Ｃ８Ｓ試験終了後のヘッド摺動部を観察し、
保護膜剥離箇所の総面積を求めて評価した。結果を下記
表３に示す。
表 ３
なお、同表では８インチ媒体を用い、Ｃ８Ｓ位置をＲ＝
８０ ｍｍとして評価した。
８０ ｍｍとして評価した。
本実施例は従来媒体に比べて耐久性の点でも優れている
ことが判明した。筐た、このように本発明の媒体は従来
媒体と比較して磁気ヘッドと吸着した〈＜、シかも耐久
性にも優れていることが判明した。
ことが判明した。筐た、このように本発明の媒体は従来
媒体と比較して磁気ヘッドと吸着した〈＜、シかも耐久
性にも優れていることが判明した。
以上説明したように本発明は磁気記録媒体の磁性膜Ｃｏ
合金上あるいはその上部に保護層を形成した後にＡｕ
、ＡＰ 、 Ｐｔ 、Ｃｕ ｌＰｔなどの貴金属類を微
粒子として付着させることによシ、上部に保護層、潤滑
層を形成した媒体は磁気ヘッドと吸着したくり、シかも
耐久性に優れているなどの極めて優れた効果が得られる
。
合金上あるいはその上部に保護層を形成した後にＡｕ
、ＡＰ 、 Ｐｔ 、Ｃｕ ｌＰｔなどの貴金属類を微
粒子として付着させることによシ、上部に保護層、潤滑
層を形成した媒体は磁気ヘッドと吸着したくり、シかも
耐久性に優れているなどの極めて優れた効果が得られる
。
第１図は本発明の一実施例による工程の断面図である。
１・・・・基板、２・・・・アルミニウム基板、３・・
・・Ｎｉ−Ｐめつき層、４・・・・Ｇｏ −Ｐ磁性層、
５・・・・Ｎｉ−Ｐめつき層、６・・・・Ｐｄ微粒子、
７・・・・保護膜層、８・・・・潤滑膜層。
・・Ｎｉ−Ｐめつき層、４・・・・Ｇｏ −Ｐ磁性層、
５・・・・Ｎｉ−Ｐめつき層、６・・・・Ｐｄ微粒子、
７・・・・保護膜層、８・・・・潤滑膜層。
Claims (1)
- アルミニウム基板上に中間層として無電解Ｎｉ−ｐ合金
層を有し、該無電解Ｎｉ−Ｐ合金層上に磁性膜としてＣ
ｏ合金層を形成してなる磁気記録媒体において、前記Ｃ
ｏ合金層上もしくは該Ｃｏ合金層上に保護膜を形成した
後に貴金属微粒子を付着させることを特徴とした磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31781089A JPH03181019A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31781089A JPH03181019A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181019A true JPH03181019A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18092296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31781089A Pending JPH03181019A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030067030A (ko) * | 2002-02-06 | 2003-08-14 | 엘지전자 주식회사 | 광자기 기록매체 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149827A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Brother Ind Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法 |
| JPH01263932A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-20 | Nec Corp | 磁気記録体の製造方法 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP31781089A patent/JPH03181019A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149827A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Brother Ind Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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