JPH05258293A - 磁気記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板Info
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- JPH05258293A JPH05258293A JP5020162A JP2016293A JPH05258293A JP H05258293 A JPH05258293 A JP H05258293A JP 5020162 A JP5020162 A JP 5020162A JP 2016293 A JP2016293 A JP 2016293A JP H05258293 A JPH05258293 A JP H05258293A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面の少なくとも１部分に表面組織を設け
た、磁気記録媒体に適当に用いることのできる磁気記録
媒体用ガラス基板を提供することである。 【構成】 表面組織を基板の表面に存在する 10nm 未満
の平均直径を有する粒子層から形成する。粒子は、好ま
しくは繊維状構造および 500nm未満の平均長さを有す
る。極めて満足する結果は繊維状粒子についての材料と
してベーマイトを用いて得ることができる。好ましく
は、ベーマイト溶液は、例えばＡu またはＰtの球状貴
金属粒子を含むことができる。
た、磁気記録媒体に適当に用いることのできる磁気記録
媒体用ガラス基板を提供することである。 【構成】 表面組織を基板の表面に存在する 10nm 未満
の平均直径を有する粒子層から形成する。粒子は、好ま
しくは繊維状構造および 500nm未満の平均長さを有す
る。極めて満足する結果は繊維状粒子についての材料と
してベーマイトを用いて得ることができる。好ましく
は、ベーマイト溶液は、例えばＡu またはＰtの球状貴
金属粒子を含むことができる。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は表面の少なくとも１部分に表面組
織を設けた、磁気記録媒体に適当に用いることができる
ガラス基板に関する。また、本発明はかかるガラス基板
を製造する方法に、およびかかるガラス基板を含む磁気
記録媒体に関する。
織を設けた、磁気記録媒体に適当に用いることができる
ガラス基板に関する。また、本発明はかかるガラス基板
を製造する方法に、およびかかるガラス基板を含む磁気
記録媒体に関する。
【０００２】
【背景技術】上述するタイプの記録媒体は、特に、いわ
ゆる、コンピューターの「ハードディスク」に用いられ
ている。このハード ディスクは磁気記録媒体、および
この媒体に情報を記録する、この媒体から情報を読み取
りおよび消去するための磁気ヘッドを含んでいる。上記
ハード ディスクを作動する場合には、磁気媒体は磁気
ヘッドに関して規定速度で回転させる。この回転のため
に、磁気ヘッドは磁気記録媒体から比較的に狭い間隔で
薄い空気層上に配置することができる。最近、用いられ
ているハード ディスクにおいて、上記間隔（フライン
グ高さ（flying height)）は約400nm である。ハード
ディスクが失活した後、磁気媒体の回転を止め、磁気ヘ
ッドを媒体の「規定位置」に載置することができる。ハ
ードディスクが活性化した後、磁気ヘッドをこの場所か
ら取り去る。それ故、非作動状態において、両部分は互
いに接触する。このタイプのハード ディスクは、一般
にＣＳＳ−ディスク（コンタクト−スタート−ストッ
プ）と称せられている。
ゆる、コンピューターの「ハードディスク」に用いられ
ている。このハード ディスクは磁気記録媒体、および
この媒体に情報を記録する、この媒体から情報を読み取
りおよび消去するための磁気ヘッドを含んでいる。上記
ハード ディスクを作動する場合には、磁気媒体は磁気
ヘッドに関して規定速度で回転させる。この回転のため
に、磁気ヘッドは磁気記録媒体から比較的に狭い間隔で
薄い空気層上に配置することができる。最近、用いられ
ているハード ディスクにおいて、上記間隔（フライン
グ高さ（flying height)）は約400nm である。ハード
ディスクが失活した後、磁気媒体の回転を止め、磁気ヘ
ッドを媒体の「規定位置」に載置することができる。ハ
ードディスクが活性化した後、磁気ヘッドをこの場所か
ら取り去る。それ故、非作動状態において、両部分は互
いに接触する。このタイプのハード ディスクは、一般
にＣＳＳ−ディスク（コンタクト−スタート−ストッ
プ）と称せられている。
【０００３】ハード ディスクに用いるための磁気記録
媒体の基板はある程度、矛盾する高い要件に遭遇する。
一方において、上記基板は磁気ヘッドから媒体に、およ
びこの逆に十分な信号輸送するように極めて平滑にする
必要がある。達成できる信号対雑音比は磁気ヘッドと記
録媒体との間の距離に逆比例する。他方において、基板
はよく規定された表面荒さ（表面組織）を示すようにす
る必要がある。この表面組織は磁気ヘッドを媒体に載置
し、または取りはずし、固着するのを防止する役目をす
る。この「固着」は磁気ヘッドおよび／または磁気媒体
に損傷を与える。さらに、不十分な表面荒さを示す基板
の場合には、摩擦に関する問題が磁気ヘッドの取りはず
し、および載置する間に生ずる。
媒体の基板はある程度、矛盾する高い要件に遭遇する。
一方において、上記基板は磁気ヘッドから媒体に、およ
びこの逆に十分な信号輸送するように極めて平滑にする
必要がある。達成できる信号対雑音比は磁気ヘッドと記
録媒体との間の距離に逆比例する。他方において、基板
はよく規定された表面荒さ（表面組織）を示すようにす
る必要がある。この表面組織は磁気ヘッドを媒体に載置
し、または取りはずし、固着するのを防止する役目をす
る。この「固着」は磁気ヘッドおよび／または磁気媒体
に損傷を与える。さらに、不十分な表面荒さを示す基板
の場合には、摩擦に関する問題が磁気ヘッドの取りはず
し、および載置する間に生ずる。
【０００４】本明細書の初めに記載しているタイプのガ
ラス基板は、それ自体、知られている。例えば、米国特
許第4,833,001 号明細書には、磁気記録媒体に使用す
る、ある表面組織を有するガラス基板について記載され
ている。この場合、表面組織は、ガラス基板の表面を弗
化物化合物で化学的に腐食し、次いで、必要に応じて磨
き仕上げ処理することによって与えられている。このよ
うにして、250 μm の基準長さ (reference length) に
わたり測定して 70nm 未満の最大高さＲmax および 50
μm の基準長さにわたり測定して５nm以上の最大高さで
特徴づけられる表面組織を得るようにしている。化学腐
食を介して得られる表面組織の「山」ピーク (“mounta
in” peaks) のピッチは 0.1〜50μm である。本発明
は、特にこの比較的に大きいピッチが高い信号対雑音比
に負の効果を与えることを確めた。
ラス基板は、それ自体、知られている。例えば、米国特
許第4,833,001 号明細書には、磁気記録媒体に使用す
る、ある表面組織を有するガラス基板について記載され
ている。この場合、表面組織は、ガラス基板の表面を弗
化物化合物で化学的に腐食し、次いで、必要に応じて磨
き仕上げ処理することによって与えられている。このよ
うにして、250 μm の基準長さ (reference length) に
わたり測定して 70nm 未満の最大高さＲmax および 50
μm の基準長さにわたり測定して５nm以上の最大高さで
特徴づけられる表面組織を得るようにしている。化学腐
食を介して得られる表面組織の「山」ピーク (“mounta
in” peaks) のピッチは 0.1〜50μm である。本発明
は、特にこの比較的に大きいピッチが高い信号対雑音比
に負の効果を与えることを確めた。
【０００５】
【発明の開示】本発明の目的は、普通の媒体より高い信
号対雑音比を得ることのできる磁気記録媒体についての
表面組織を有する（textured) ガラス基板を提供するこ
とである。特に、本発明は既知のハード ディスクより
小さいフライング高さで作動するハード ディスクにお
いて適当に用いることのできる記録媒体についての表面
組織を有するガラス基板を得るのに指向する。本発明の
他の目的は、上記ガラス基板およびこの基板を含む記録
媒体を簡単に製造する方法を提供することである。
号対雑音比を得ることのできる磁気記録媒体についての
表面組織を有する（textured) ガラス基板を提供するこ
とである。特に、本発明は既知のハード ディスクより
小さいフライング高さで作動するハード ディスクにお
いて適当に用いることのできる記録媒体についての表面
組織を有するガラス基板を得るのに指向する。本発明の
他の目的は、上記ガラス基板およびこの基板を含む記録
媒体を簡単に製造する方法を提供することである。
【０００６】上記目的は本明細書の初めに記載したタイ
プのガラス基板により達成するもので、本発明は表面組
織を基板表面に存在する 10nm 未満の平均直径を有する
粒子の層によって形成したことを特徴とする。
プのガラス基板により達成するもので、本発明は表面組
織を基板表面に存在する 10nm 未満の平均直径を有する
粒子の層によって形成したことを特徴とする。
【０００７】種々のタイプの粒子をガラス基板に適当に
付着することができる。10nm以下の平均直径を有する金
属または金属合金の球状粒子は、原則として、本発明の
範囲内において連続的に用いることができる。しかしな
がら、ある条件下において、上記粒子の使用は、例えば
粒子が金属間拡散 (intermetallic diffusion)によっ
て、最終段階で得られる磁気記録層の磁性に悪影響をも
たらす。しかしながら、この問題は、貴金属粒子を用い
る場合、または例えばＣr の中間層を表面組織層(textu
red layer)と記録層との間に設ける場合には生じないこ
とを確めた。上述する寸法を有する酸性材料の不活性な
球状粒子、例えば酸化アルミニウム、二酸化チタンおよ
び／またはシリカ粒子はこれらの条件下においてより適
当に用いることができる。なぜならば、これらの粒子を
用いる場合に金属間拡散を生じないためである。さら
に、上記酸性粒子は金属粒子よりガラスによく付着する
ことを確めた。粒子は、実質的にガラス基板に単分子層
で存在させる。
付着することができる。10nm以下の平均直径を有する金
属または金属合金の球状粒子は、原則として、本発明の
範囲内において連続的に用いることができる。しかしな
がら、ある条件下において、上記粒子の使用は、例えば
粒子が金属間拡散 (intermetallic diffusion)によっ
て、最終段階で得られる磁気記録層の磁性に悪影響をも
たらす。しかしながら、この問題は、貴金属粒子を用い
る場合、または例えばＣr の中間層を表面組織層(textu
red layer)と記録層との間に設ける場合には生じないこ
とを確めた。上述する寸法を有する酸性材料の不活性な
球状粒子、例えば酸化アルミニウム、二酸化チタンおよ
び／またはシリカ粒子はこれらの条件下においてより適
当に用いることができる。なぜならば、これらの粒子を
用いる場合に金属間拡散を生じないためである。さら
に、上記酸性粒子は金属粒子よりガラスによく付着する
ことを確めた。粒子は、実質的にガラス基板に単分子層
で存在させる。
【０００８】本発明のガラス基板は、表面全体にわたっ
て規則正しい、よく規定された表面荒さを有している。
表面荒さは２つのパラメータ、すなわち、Ｒa およびＲ
maxによって規定することができる。Ｒa は荒い輪郭（r
oughness profile) を通る一直線の基線からかかる輪
郭のピークへのすべての絶対的な間隔の算術平均として
規定している。Ｒmax は10μm の基準長さにわたり測定
した表面の任意の荒い輪郭の最大ピーク対ピーク高さと
して規定している。例えば、粒子により生ずる表面組織
のＲa 値は約10nmの程度である。10μm の基準長さにわ
たって測定した、表面組織のピーク間の高さ（Ｒmax ）
における最大差は30nmである。さらに、ピークのピッチ
は既知の表面組織におけるより小さい。達成された表面
荒さ特性は、原則として、磁気ヘッドを低いフライング
高さで作動するハード ディスクに用いることのできる
磁気記録媒体に用いるのに適当な基板を与える。本発明
においては、表面荒さの上記特性が上述する化学腐食方
法により得ることができないことを確めた。ガラスのか
かる腐食方法は明確な等張性によるものである。その結
果として、特にピーク間の高さにおける意図する最大差
を得ることができない。化学腐食プロセスを用いる場
合、高さにおける上記差は約10μm の基準長さにわたっ
て測定して、約20nmを越えて高くすることができない。
て規則正しい、よく規定された表面荒さを有している。
表面荒さは２つのパラメータ、すなわち、Ｒa およびＲ
maxによって規定することができる。Ｒa は荒い輪郭（r
oughness profile) を通る一直線の基線からかかる輪
郭のピークへのすべての絶対的な間隔の算術平均として
規定している。Ｒmax は10μm の基準長さにわたり測定
した表面の任意の荒い輪郭の最大ピーク対ピーク高さと
して規定している。例えば、粒子により生ずる表面組織
のＲa 値は約10nmの程度である。10μm の基準長さにわ
たって測定した、表面組織のピーク間の高さ（Ｒmax ）
における最大差は30nmである。さらに、ピークのピッチ
は既知の表面組織におけるより小さい。達成された表面
荒さ特性は、原則として、磁気ヘッドを低いフライング
高さで作動するハード ディスクに用いることのできる
磁気記録媒体に用いるのに適当な基板を与える。本発明
においては、表面荒さの上記特性が上述する化学腐食方
法により得ることができないことを確めた。ガラスのか
かる腐食方法は明確な等張性によるものである。その結
果として、特にピーク間の高さにおける意図する最大差
を得ることができない。化学腐食プロセスを用いる場
合、高さにおける上記差は約10μm の基準長さにわたっ
て測定して、約20nmを越えて高くすることができない。
【０００９】本発明のガラス基板の好適例としては、層
が 500nm未満の平均長さの繊維構造を有する粒子を含ん
でいることに特徴を有している。繊維状粒子は球状粒子
よりガラス基板によく付着することを確めた。さらに、
繊維状粒子の直径が10nm未満である場合には、ガラス基
板の表面に意図する表面組織を得ることができる。この
点において、特に、ベーマイト、すなわち、繊維構造を
有する酸化アルミニウム化合物は極めて適当である。平
均繊維長さが 500nm以上である場合には、表面組織の品
質は、特に上記ベーマイト粒子の制御できないクラスタ
ー形成の結果として低下する。ベーマイト粒子の長さお
よび直径は、ベーマイトを作る反応条件により支配され
るために、調整することができる。
が 500nm未満の平均長さの繊維構造を有する粒子を含ん
でいることに特徴を有している。繊維状粒子は球状粒子
よりガラス基板によく付着することを確めた。さらに、
繊維状粒子の直径が10nm未満である場合には、ガラス基
板の表面に意図する表面組織を得ることができる。この
点において、特に、ベーマイト、すなわち、繊維構造を
有する酸化アルミニウム化合物は極めて適当である。平
均繊維長さが 500nm以上である場合には、表面組織の品
質は、特に上記ベーマイト粒子の制御できないクラスタ
ー形成の結果として低下する。ベーマイト粒子の長さお
よび直径は、ベーマイトを作る反応条件により支配され
るために、調整することができる。
【００１０】極めて満足する結果は、10nm以下の平均直
径および 500nm以下の平均長さを有するベーマイト粒子
のみならず、球状の貴金属粒子を含む表面組織層を有す
るガラス基板により得られる。この目的のために適当に
用いることのできる金属粒子は、特にＡu およびＰt で
ある。金属粒子の平均直径は２〜10nmの範囲である。ベ
ーマイトおよび金属の両粒子を用いることによって、Ｒ
a およびＲmax 値を約10nmおよび約50nmのそれぞれに上
げることができる。さらに、ピークの平均ピッチを溶液
中のベーマイト対金属比を変えることによって調節する
ことができる。
径および 500nm以下の平均長さを有するベーマイト粒子
のみならず、球状の貴金属粒子を含む表面組織層を有す
るガラス基板により得られる。この目的のために適当に
用いることのできる金属粒子は、特にＡu およびＰt で
ある。金属粒子の平均直径は２〜10nmの範囲である。ベ
ーマイトおよび金属の両粒子を用いることによって、Ｒ
a およびＲmax 値を約10nmおよび約50nmのそれぞれに上
げることができる。さらに、ピークの平均ピッチを溶液
中のベーマイト対金属比を変えることによって調節する
ことができる。
【００１１】また、本発明は磁気記録媒体に適当に用い
ることのできるガラス基板を製造する方法に関する。こ
の本発明の方法は ａ．ガラス基板の表面を研摩し； ｂ．基板の研摩表面の少なくとも１部分を、好ましくは
繊維構造および500nm 以下の平均長さを有する、10nm未
満の平均直径の粒子のコロイド懸濁液で処理し； ｃ．過剰の懸濁液を基板の表面からゆすいで除去し；お
よび ｄ．基板を乾燥する 各段階からなることを特徴とする。
ることのできるガラス基板を製造する方法に関する。こ
の本発明の方法は ａ．ガラス基板の表面を研摩し； ｂ．基板の研摩表面の少なくとも１部分を、好ましくは
繊維構造および500nm 以下の平均長さを有する、10nm未
満の平均直径の粒子のコロイド懸濁液で処理し； ｃ．過剰の懸濁液を基板の表面からゆすいで除去し；お
よび ｄ．基板を乾燥する 各段階からなることを特徴とする。
【００１２】ガラス基板は既知のようにして機械的に研
摩することができる。次いで、基板を10nm未満の平均直
径を有する粒子のコロイド懸濁液で処理する。基板の全
表面に所望の表面組織とを有するようにする場合には、
基板を上記懸濁液に浸漬するのが有利である。あるい
は、またこの方法は基板の１部分だけに表面組織を設け
るのに用いることができる。後者の場合には、基板の残
留部分をおおい、次いで基板にコロイド溶液を吹付ける
か、または基板をコロイド溶液に浸漬するように行うの
が好ましい。また、溶液は、特にＡu またはＰt の球状
の貴金属粒子を含有するのが好ましい。
摩することができる。次いで、基板を10nm未満の平均直
径を有する粒子のコロイド懸濁液で処理する。基板の全
表面に所望の表面組織とを有するようにする場合には、
基板を上記懸濁液に浸漬するのが有利である。あるい
は、またこの方法は基板の１部分だけに表面組織を設け
るのに用いることができる。後者の場合には、基板の残
留部分をおおい、次いで基板にコロイド溶液を吹付ける
か、または基板をコロイド溶液に浸漬するように行うの
が好ましい。また、溶液は、特にＡu またはＰt の球状
の貴金属粒子を含有するのが好ましい。
【００１３】コロイド溶液を、表面組織を付与すべき基
板の部分に、ある時間にわたって接触させた後、基板
を、例えば水でゆすいで、吸着されない材料を除去する
ことができ、しかる後に基板をイソプロパノールで乾燥
する。必要に応じて、基板を熱処理した基板に対する粒
子の付着性を改善することができる。この処理におい
て、また蒸発し難い任意の残留溶剤を基板から除去する
ことができる。
板の部分に、ある時間にわたって接触させた後、基板
を、例えば水でゆすいで、吸着されない材料を除去する
ことができ、しかる後に基板をイソプロパノールで乾燥
する。必要に応じて、基板を熱処理した基板に対する粒
子の付着性を改善することができる。この処理におい
て、また蒸発し難い任意の残留溶剤を基板から除去する
ことができる。
【００１４】ソーダ石灰は基板材料として用いるのが好
ましい。この材料は極めて平坦に研摩でき、かつ比較的
に簡単に平滑に仕上げることができる。必要に応じて、
このガラス基板は、研摩操作後、硝酸カリウムのような
カリウム塩の溶融体で処理して強化することができる。
ましい。この材料は極めて平坦に研摩でき、かつ比較的
に簡単に平滑に仕上げることができる。必要に応じて、
このガラス基板は、研摩操作後、硝酸カリウムのような
カリウム塩の溶融体で処理して強化することができる。
【００１５】さらに、本発明は本発明のガラス基板を含
む磁気記録媒体に関する。この記録媒体は、ガラス基板
の組織表面に、好ましくは CoPt および／または CoCr
を含む磁気記録層を設けたことに特徴を有している。特
に、多層の形態の記録媒体は、特に垂直記録の可能性の
ために、極めて興味深い。必要に応じて、記録媒体に
は、基板と記録層との間に位置するＣr 中間層を設ける
ことができる。
む磁気記録媒体に関する。この記録媒体は、ガラス基板
の組織表面に、好ましくは CoPt および／または CoCr
を含む磁気記録層を設けたことに特徴を有している。特
に、多層の形態の記録媒体は、特に垂直記録の可能性の
ために、極めて興味深い。必要に応じて、記録媒体に
は、基板と記録層との間に位置するＣr 中間層を設ける
ことができる。
【００１６】
【実施例】次に、本発明を添付図面に基づいて説明す
る。図１は65nmのセクションおよび１mmの厚さを有する
本発明の円盤型−ガラス基板１を示しており、この基板
に同心穴４を設ける。基板はソーダ石灰からなり、その
両側面を機械的に研摩する。これにより、極めて平滑な
表面２および３を形成する。表面の荒さはアトミック
フォース マイクロスコープ（Atomic ForceMicroscop
e) (AFM) により測定した。Ｒa 値は約0.3nm であり、
およびＲmax 値は約５nmであった。次いで、研摩基板を
溶融カリウム塩で処理して化学的に強化した。この処理
において、基板に存在するナトリウム イオンの部分を
カリウムイオンで置き替える。
る。図１は65nmのセクションおよび１mmの厚さを有する
本発明の円盤型−ガラス基板１を示しており、この基板
に同心穴４を設ける。基板はソーダ石灰からなり、その
両側面を機械的に研摩する。これにより、極めて平滑な
表面２および３を形成する。表面の荒さはアトミック
フォース マイクロスコープ（Atomic ForceMicroscop
e) (AFM) により測定した。Ｒa 値は約0.3nm であり、
およびＲmax 値は約５nmであった。次いで、研摩基板を
溶融カリウム塩で処理して化学的に強化した。この処理
において、基板に存在するナトリウム イオンの部分を
カリウムイオンで置き替える。
【００１７】次いで、研摩基板を５重量％のベーマイト
（ベイマル（Baymal) 、デュポンの登録商標、米国特許
第2,915,475 号明細書参照）を含有するコロイド溶液に
数分間浸漬した。次いで、基板を溶液から除去し、脱イ
オン水でゆすぎ、イソプロパノールで乾燥し、250 ℃で
数時間にわたり熱処理した。かように処理した基板の顕
微鏡検査の結果、ガラスは表面全体にわたって両側に表
面組織が形成していることを確めた。使用条件下におい
て、ガラス基板の表面は僅かに負に帯電し、吸収すべき
粒子を僅かに正に帯電し、静電引力により満足な付着性
を得ることができる。これにより、粒子は基板に単分子
層で結合する。ＡＦＭ検査により、表面荒さのＲa 値は
約５nmであり、かつＲmax 値は約22nmであった。
（ベイマル（Baymal) 、デュポンの登録商標、米国特許
第2,915,475 号明細書参照）を含有するコロイド溶液に
数分間浸漬した。次いで、基板を溶液から除去し、脱イ
オン水でゆすぎ、イソプロパノールで乾燥し、250 ℃で
数時間にわたり熱処理した。かように処理した基板の顕
微鏡検査の結果、ガラスは表面全体にわたって両側に表
面組織が形成していることを確めた。使用条件下におい
て、ガラス基板の表面は僅かに負に帯電し、吸収すべき
粒子を僅かに正に帯電し、静電引力により満足な付着性
を得ることができる。これにより、粒子は基板に単分子
層で結合する。ＡＦＭ検査により、表面荒さのＲa 値は
約５nmであり、かつＲmax 値は約22nmであった。
【００１８】多くの他の試験において、多くのパラメー
タ、例えば吸収時間、粒子の濃度および粒子の大きさを
変えた。これらの試験において、吸収時間は最小で10秒
にする必要があること、および粒子大きさは表面荒さの
特性について極めて重要であることを確めた。
タ、例えば吸収時間、粒子の濃度および粒子の大きさを
変えた。これらの試験において、吸収時間は最小で10秒
にする必要があること、および粒子大きさは表面荒さの
特性について極めて重要であることを確めた。
【００１９】他の試験において、ベーマイト溶液を、95
℃の脱イオン水中で 32g／l の最終濃度に加水分解した
アルカリ性酢酸アルミウニム（フルカ(Fluka) 登録商
標) から調製した。脱イオン水中で透析した後、得られ
たコロイド溶液は 5.0のｐＨ値を有していた。ガラス基
板をかかる溶液に４分間わたって浸漬した。付着しない
粒子を水でゆすぎ落とし、イソプロパノールで乾燥し、
および 250℃で熱処理した後、かように処理した基板を
ＡＦＭで検査した。これらの条件下で、粒子の小さい大
きいは最初の試験におけるより小さいＲa 表面荒さ値を
有してた。
℃の脱イオン水中で 32g／l の最終濃度に加水分解した
アルカリ性酢酸アルミウニム（フルカ(Fluka) 登録商
標) から調製した。脱イオン水中で透析した後、得られ
たコロイド溶液は 5.0のｐＨ値を有していた。ガラス基
板をかかる溶液に４分間わたって浸漬した。付着しない
粒子を水でゆすぎ落とし、イソプロパノールで乾燥し、
および 250℃で熱処理した後、かように処理した基板を
ＡＦＭで検査した。これらの条件下で、粒子の小さい大
きいは最初の試験におけるより小さいＲa 表面荒さ値を
有してた。
【００２０】ある条件下で、約10nmのＲa 値および約50
nmのＲmax 値を有する表面荒さを得ることが望まれる。
ベーマイトのみを用いる試験においては、これらの表面
荒さ値を得ることができなく、および純粋ベーマイトの
Ｒa 値は３〜６nmの範囲およびＲmax 値は10〜30nmの範
囲であることを確めた。反応条件を変えてベーマイト粒
子を大きくすることは成功しなかった。しかしながら、
ベーマイト溶液に球状の貴金属粒子を含有する場合に
は、意図するＲa およびＲmax 値を得ることができた。
かかる粒子は、貴金属塩、例えばＡu およびＰt 塩の現
場還元によりコロイド ベーマイト溶液において生成す
ることができた。ベーマイトとの組合わせにおいて、こ
のプロセスにおいて形成した球状Ａu またはＰt 粒子は
極めて安定なコロイド溶液を生成する。ベーマイトを含
まない場合には、金属は濃灰色沈澱物として堆積した。
nmのＲmax 値を有する表面荒さを得ることが望まれる。
ベーマイトのみを用いる試験においては、これらの表面
荒さ値を得ることができなく、および純粋ベーマイトの
Ｒa 値は３〜６nmの範囲およびＲmax 値は10〜30nmの範
囲であることを確めた。反応条件を変えてベーマイト粒
子を大きくすることは成功しなかった。しかしながら、
ベーマイト溶液に球状の貴金属粒子を含有する場合に
は、意図するＲa およびＲmax 値を得ることができた。
かかる粒子は、貴金属塩、例えばＡu およびＰt 塩の現
場還元によりコロイド ベーマイト溶液において生成す
ることができた。ベーマイトとの組合わせにおいて、こ
のプロセスにおいて形成した球状Ａu またはＰt 粒子は
極めて安定なコロイド溶液を生成する。ベーマイトを含
まない場合には、金属は濃灰色沈澱物として堆積した。
【００２１】多くの試験において、コロイド溶液を脱イ
オン水におけるベーマイト（２〜６重量％）から作っ
た。この場合、アルカリ性酢酸アルミニウム、アルミニ
ウム−tert−ブトキシドまたはアルミニウム−イソ−プ
ロポキシドを高められた温度で攪拌しながら加水分解し
た。かようにして得たコロイド溶液を濾過した後、溶液
に所望量の H2Pt Cl6 を添加した。ジメチルアミンボラ
ン (DMAB) により、上記Ｐt 化合物は溶液中で２〜20nm
の範囲の平均直径を有する球状Ｐt 粒子に還元した。Ａ
u 化合物は匹敵する条件下で還元して５〜100nm の範囲
の平均直径を有する球状Ａu 粒子を生成した。
オン水におけるベーマイト（２〜６重量％）から作っ
た。この場合、アルカリ性酢酸アルミニウム、アルミニ
ウム−tert−ブトキシドまたはアルミニウム−イソ−プ
ロポキシドを高められた温度で攪拌しながら加水分解し
た。かようにして得たコロイド溶液を濾過した後、溶液
に所望量の H2Pt Cl6 を添加した。ジメチルアミンボラ
ン (DMAB) により、上記Ｐt 化合物は溶液中で２〜20nm
の範囲の平均直径を有する球状Ｐt 粒子に還元した。Ａ
u 化合物は匹敵する条件下で還元して５〜100nm の範囲
の平均直径を有する球状Ａu 粒子を生成した。
【００２２】ガラス基板には、ベーマイト溶液について
上述すると同様にＰt ／ベーマイト溶液の表面組織が付
与された。ＡＦＭ検査により、かように処理した基板の
表面荒さは、反応条件により影響されるけれども、８〜
12の範囲のＲa 値および40〜60の範囲のＲmax の特性を
有していた。
上述すると同様にＰt ／ベーマイト溶液の表面組織が付
与された。ＡＦＭ検査により、かように処理した基板の
表面荒さは、反応条件により影響されるけれども、８〜
12の範囲のＲa 値および40〜60の範囲のＲmax の特性を
有していた。
【００２３】図２は本発明の上記ガラス基板の変形例を
示している。この変形例において、同心穴14を有する化
学的に強化したソーダ石灰基板11の一面を研摩した。次
いで、研摩表面の中心部分をマスクでおおい、しかる後
に表面の残りの部分に、上述するＰt を含有するまたは
含有しないいずれかのコロイド ベーマイト溶液を吹付
けた。吸収しない粒子をある時間経過した後にゆすぎ落
とし、しかる後に基板をイソフロパノールで乾燥し、熱
処理を施した。最後に、マスクを除去した。このように
して、表面荒さを示した外縁12を有する表面組織を有す
るガラス基板を得た。これに対して、基板の中心部分13
は実質的になめらかであった。
示している。この変形例において、同心穴14を有する化
学的に強化したソーダ石灰基板11の一面を研摩した。次
いで、研摩表面の中心部分をマスクでおおい、しかる後
に表面の残りの部分に、上述するＰt を含有するまたは
含有しないいずれかのコロイド ベーマイト溶液を吹付
けた。吸収しない粒子をある時間経過した後にゆすぎ落
とし、しかる後に基板をイソフロパノールで乾燥し、熱
処理を施した。最後に、マスクを除去した。このように
して、表面荒さを示した外縁12を有する表面組織を有す
るガラス基板を得た。これに対して、基板の中心部分13
は実質的になめらかであった。
【００２４】図３は上述するガラス基板を含む本発明に
おける磁気記録媒体の断面を示している。ガラス基板21
には上述するようにして得た繊維状粒子層からなる表面
組織22を設ける。この繊維状粒子層に磁気記録層23を多
層形態で被覆する。必要に応じて、Ｃr 中間層を記録層
と基板との間に設けることができる。必要に応じて、磁
気層には潤滑層24を設けることができる。所望の表面荒
さによって、この記録媒体は、媒体上の磁気ヘッドのフ
ライング高さが極めて小さいハード ディスクに用いる
ことができる。
おける磁気記録媒体の断面を示している。ガラス基板21
には上述するようにして得た繊維状粒子層からなる表面
組織22を設ける。この繊維状粒子層に磁気記録層23を多
層形態で被覆する。必要に応じて、Ｃr 中間層を記録層
と基板との間に設けることができる。必要に応じて、磁
気層には潤滑層24を設けることができる。所望の表面荒
さによって、この記録媒体は、媒体上の磁気ヘッドのフ
ライング高さが極めて小さいハード ディスクに用いる
ことができる。
【図１】磁気記録媒体に用いる本発明のガラス基板の斜
視図である。
視図である。
【図２】図１に示す本発明のガラス基板の変形構造の斜
視図である。
視図である。
【図３】本発明のガラス基板を含む磁気記録媒体の断面
図である。
図である。
１，21 ガラス基板 ２，３ 平滑な表面 ４，14 同心穴 11 化学的に強化したソーダ石灰基板 12 外縁 13 中心部分 22 表面組織 23 磁気記録層 24 潤滑層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アドレアス マルティヌス テオドールス ポールス ファン デル プッテン オランダ国 5621 ベー アー アインド ーフェン フルーネヴァウツウェッハ１ (72)発明者 イェルク ブランブリンク オランダ国 5621 ベー アー アインド ーフェン フルーネヴァウツウェッハ１
Claims (9)
- 【請求項１】 表面の少なくとも１部分に表面組織を設
けた磁気記録媒体に適当に用いることのできる磁気記録
媒体用ガラス基板において、上記表面組織を基板の表面
に存在する10nm未満の平均直径を有する粒子層により形
成したことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項２】 層が、平均長さが 500nm未満の繊維状構
造を有する粒子を含む請求項１記載のガラス基板。 - 【請求項３】 ベーマイトを繊維状粒子について用いた
請求項２記載のガラス基板。 - 【請求項４】 層が、好ましくはＡu またはＰt の貴金
属粒子を含む請求項３記載のガラス基板。 - 【請求項５】 磁気記録媒体に適当に用いることのでき
るガラス基板を製造する方法において、 ａ．ガラス基板の表面を研摩し； ｂ．基板の研摩表面の少なくとも１部分を、好ましくは
繊維構造および500nm 以下の平均長さを有する、10nm未
満の平均直径の粒子のコロイド懸濁液で処理し； ｃ．過剰の懸濁液を基板の表面からゆすいで除去し；お
よび ｄ．基板を乾燥する各段階からなることを特徴とする磁
気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項６】 コロイド懸濁液は、好ましくはＡu また
はＰt の球状貴金属粒子を含む請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 基板を乾燥した後、基板を熱処理する請
求項５または６記載の方法。 - 【請求項８】 基板は、研摩する前に、溶融カリウム塩
の溶液中で処理して強化するシリカガラスからなる請求
項５〜７のいずれか一つの項記載の方法。 - 【請求項９】 好ましくは CoCr および／または CoPt
を含む磁気記録層をガラス基板の組織表面に設けたこと
を特徴とする請求項１，２，３または４に記載するガラ
ス基板を含む磁気記録媒体。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP92200380 | 1992-02-11 | ||
| NL92203254:5 | 1992-10-22 | ||
| EP92203254 | 1992-10-22 | ||
| NL92200380:1 | 1992-10-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258293A true JPH05258293A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=26131269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5020162A Pending JPH05258293A (ja) | 1992-02-11 | 1993-02-08 | 磁気記録媒体用ガラス基板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0555906A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05258293A (ja) |
| KR (1) | KR930018477A (ja) |
| TW (1) | TW253965B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100708280B1 (ko) * | 2001-05-08 | 2007-04-17 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체의 제조 방법 |
| JP2013020670A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Kobe Steel Ltd | 磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6142724A (ja) * | 1984-08-03 | 1986-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
-
1993
- 1993-02-03 EP EP93200266A patent/EP0555906A1/en not_active Withdrawn
- 1993-02-08 KR KR1019930001653A patent/KR930018477A/ko not_active Application Discontinuation
- 1993-02-08 JP JP5020162A patent/JPH05258293A/ja active Pending
- 1993-02-23 TW TW082101275A patent/TW253965B/zh active
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100708280B1 (ko) * | 2001-05-08 | 2007-04-17 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체의 제조 방법 |
| US7258893B2 (en) | 2001-05-08 | 2007-08-21 | Fujitsu Limited | Method of fabricating a magnetic recording medium |
| JP2013020670A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Kobe Steel Ltd | 磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930018477A (ko) | 1993-09-22 |
| EP0555906A1 (en) | 1993-08-18 |
| TW253965B (ja) | 1995-08-11 |
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