JPS6139235A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6139235A JPS6139235A JP16004284A JP16004284A JPS6139235A JP S6139235 A JPS6139235 A JP S6139235A JP 16004284 A JP16004284 A JP 16004284A JP 16004284 A JP16004284 A JP 16004284A JP S6139235 A JPS6139235 A JP S6139235A
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- Japan
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- plating
- film
- electroless
- magnetic
- magnetic film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録体の製造方法に関する。
従来の技術及び問題点
磁気ディスクまたは磁気ドラムを用いた記録装置は、磁
気ディスクまたは磁気ドラムを高速で回転させ、その表
面に書き込み用または読み出し用ヘッドを接触させる力
・、或いは空隙をもって対向させることｋよ少記録の書
き込みまたは読み出しを行なう。このとｅａｉ性薄膜と
ヘッドとの間の空隙が狭いほど記録密度が増加するため
に、できるだけヒの空隙を狭くすることが必要である。
気ディスクまたは磁気ドラムを高速で回転させ、その表
面に書き込み用または読み出し用ヘッドを接触させる力
・、或いは空隙をもって対向させることｋよ少記録の書
き込みまたは読み出しを行なう。このとｅａｉ性薄膜と
ヘッドとの間の空隙が狭いほど記録密度が増加するため
に、できるだけヒの空隙を狭くすることが必要である。
し力・シ、仁のように磁性ｆＩＩ展とヘッドの空隙を狭
くすると両者が接触する確率が高くなシ、磁性ＷＩＦＩ
４部分が短時間で消耗してしまう。この問題を解決する
ために磁性薄膜上に機械的強度の高い非磁性の保護皮膜
を形成する方法が知られておシ、例えば蒸着やスパッタ
リングによりＳｌｏｇ、Ｃｒ雪ｏ＄。
くすると両者が接触する確率が高くなシ、磁性ＷＩＦＩ
４部分が短時間で消耗してしまう。この問題を解決する
ために磁性薄膜上に機械的強度の高い非磁性の保護皮膜
を形成する方法が知られておシ、例えば蒸着やスパッタ
リングによりＳｌｏｇ、Ｃｒ雪ｏ＄。
ＡｊｓＯｓ 勢の皮膜を形成する方法、電気メツキ法に
よりロジウムやりｐ７−岬の皮膜を形成する方法などが
夾施されている。
よりロジウムやりｐ７−岬の皮膜を形成する方法などが
夾施されている。
電気メッキによ多形成されたワジウム皮膜は優れた保護
効果を示すが、通常の！ジウムメッキ浴は、強酸性溶液
のため、磁性記録薄膜やその下地の非磁性メッキ皮膜に
ピンホールなどの欠陥があるとメッキ液が浸透し、素材
が腐食し、また磁性記録薄膜が局部的に溶解されて磁性
薄膜に欠陥を生ずることがある。このような問題を解決
する方法として、磁性＊＊と田ジウムメッキ及模との間
に他の金属のメッキを施す方法が知られている（特開［
５２−８６８０２’）。
効果を示すが、通常の！ジウムメッキ浴は、強酸性溶液
のため、磁性記録薄膜やその下地の非磁性メッキ皮膜に
ピンホールなどの欠陥があるとメッキ液が浸透し、素材
が腐食し、また磁性記録薄膜が局部的に溶解されて磁性
薄膜に欠陥を生ずることがある。このような問題を解決
する方法として、磁性＊＊と田ジウムメッキ及模との間
に他の金属のメッキを施す方法が知られている（特開［
５２−８６８０２’）。
しかし上記した方法は、メッキ工程が一工程増えること
、また中間層により記録密度の低下があることなどのた
めに好ましくなく、加えて、電気メッキは、均一電着性
が劣るために、ディスクやドラムの外周付近はメッキ皮
膜が厚く中心付近は薄くなシ、回転がスムーズに行なわ
れないという欠点がある。
、また中間層により記録密度の低下があることなどのた
めに好ましくなく、加えて、電気メッキは、均一電着性
が劣るために、ディスクやドラムの外周付近はメッキ皮
膜が厚く中心付近は薄くなシ、回転がスムーズに行なわ
れないという欠点がある。
本発明者は、上記した点に鑑みて、種々研究を重ねた結
果、磁性皮膜を活性化し、弱酸性〜アルカリ性の無電解
メッキ液を用いて磁性皮膜上に直接保護皮膜を形成させ
ることにより、問題点を解決できることを見出した。
果、磁性皮膜を活性化し、弱酸性〜アルカリ性の無電解
メッキ液を用いて磁性皮膜上に直接保護皮膜を形成させ
ることにより、問題点を解決できることを見出した。
即ち、本発明は、素材上に形成した磁性記録皮膜を触媒
溶液により活性化し、無電解ロジウムメッキまたは無電
解ルテニウムメッキを行なうことを特徴とする磁気記録
体の製造方法に係る。
溶液により活性化し、無電解ロジウムメッキまたは無電
解ルテニウムメッキを行なうことを特徴とする磁気記録
体の製造方法に係る。
本発明で使用する磁性記録皮膜とは、通常の無電解メツ
苧法により得られたＣｏ −Ｎｉ −Ｐ合金皮膜または
Ｃｏ −Ｐ合金皮膜である。この磁性記録皮膜を得るた
めの方法は、特に限定されるものではないが例えにアル
ミニウム素材の場合には以下のような工程により得られ
る。
苧法により得られたＣｏ −Ｎｉ −Ｐ合金皮膜または
Ｃｏ −Ｐ合金皮膜である。この磁性記録皮膜を得るた
めの方法は、特に限定されるものではないが例えにアル
ミニウム素材の場合には以下のような工程により得られ
る。
１）脱脂洗浄・・・・・・・・・アル宜ニウム素材が腐
食しないような脱脂、剤溶液に浸漬後、水洗する。脱脂
剤溶液として通常は、硫酸または有機酸と界面活性剤と
の混合溶液を用いる。
食しないような脱脂、剤溶液に浸漬後、水洗する。脱脂
剤溶液として通常は、硫酸または有機酸と界面活性剤と
の混合溶液を用いる。
２）亜鉛置換・・・・・曲酸化亜鉛と水酸化ナトリウム
を主体とする溶液にアルミニウム素材を浸漬し、アルミ
ニウム表面に亜鉛の薄膜を形成させる。
を主体とする溶液にアルミニウム素材を浸漬し、アルミ
ニウム表面に亜鉛の薄膜を形成させる。
より均一−１１ｍ鉛薄膜を形成させるために、亜鉛置換
後、硝酸浸漬を行ない、再度亜鉛置換を行なうことなど
は公知技術に従って行なう。
後、硝酸浸漬を行ない、再度亜鉛置換を行なうことなど
は公知技術に従って行なう。
８）非磁性メッキ・・・・・・・・・亜鉛ＷｉＦｓ上に
無電解ニッケルーリンメッキまたは無電解鋼メッキ等に
より非磁性のメッキ皮膜を形成させる。この場合無電解
ニッケルーリンメッキ皮膜は、非磁性とするためにリン
含有率を約１２〜１８−程度とする。
無電解ニッケルーリンメッキまたは無電解鋼メッキ等に
より非磁性のメッキ皮膜を形成させる。この場合無電解
ニッケルーリンメッキ皮膜は、非磁性とするためにリン
含有率を約１２〜１８−程度とする。
４）磁性皮膜の形成・・・・・・・・・非磁性メッキ皮
膜の上に無電解メッキ法によりＣｏ −Ｐ合金またはＣ
ｏ−Ｎ１＝Ｐ合金皮膜を形成させる。使用するメッキ液
は公知のものでよい。
膜の上に無電解メッキ法によりＣｏ −Ｐ合金またはＣ
ｏ−Ｎ１＝Ｐ合金皮膜を形成させる。使用するメッキ液
は公知のものでよい。
このような方法により磁性記録皮膜が得られるが、本発
明に使用する磁性記録皮膜は上記した工程忙よるものに
限られず、また素材もアル１ニウムに限定されず非磁性
のものであれば使用できる。
明に使用する磁性記録皮膜は上記した工程忙よるものに
限られず、また素材もアル１ニウムに限定されず非磁性
のものであれば使用できる。
本発明方法では、まず磁性皮膜を触媒溶液により活性化
する。これは、素材上に磁性皮膜を形成させたものを触
媒溶液に５０〜６０℃で８０秒〜１０分間浸漬す石こと
によって行なう。触媒溶液としては、塩化ロジウム、塩
化ルテニウム、塩化金、塩化パラジウムまたは種化白金
の０．１〜２０ｇ／ｌ。
する。これは、素材上に磁性皮膜を形成させたものを触
媒溶液に５０〜６０℃で８０秒〜１０分間浸漬す石こと
によって行なう。触媒溶液としては、塩化ロジウム、塩
化ルテニウム、塩化金、塩化パラジウムまたは種化白金
の０．１〜２０ｇ／ｌ。
好ましくは８〜５／ｉ／ｌの′溶液に触媒物質を溶解さ
せるために、必要に応じてＨｃｌ （８６−）を１〜２
０ｃｃ７１程度添加したものを用いる。触媒溶液に浸漬
することにより、次の無電解ロジウムメッキまたは無電
解ルテニウムメッキに対して活性となシ、また表面が粗
化されて、該メッキ皮膜の密着が良好となる。
せるために、必要に応じてＨｃｌ （８６−）を１〜２
０ｃｃ７１程度添加したものを用いる。触媒溶液に浸漬
することにより、次の無電解ロジウムメッキまたは無電
解ルテニウムメッキに対して活性となシ、また表面が粗
化されて、該メッキ皮膜の密着が良好となる。
次に保護皮膜としての無電解ロジウムメッキまたは無電
解ルテニウムメッキを行なう。メッキ液は、通常のもの
でよく弱酸性〜アルカリ性、好ましくはｐＨ８〜１２程
度のものを用いる。使用できるメッキ液の例を第１表に
示すがこれに限定されるものではない。メッキ温度等の
条件は、メッキ液の種類に応じた適当なものとする。メ
ッキ皮膜の厚さは、０．０８〜Ｂｐｍ 、好ましくは０
．１〜０．５ ＃ｆｉである。
解ルテニウムメッキを行なう。メッキ液は、通常のもの
でよく弱酸性〜アルカリ性、好ましくはｐＨ８〜１２程
度のものを用いる。使用できるメッキ液の例を第１表に
示すがこれに限定されるものではない。メッキ温度等の
条件は、メッキ液の種類に応じた適当なものとする。メ
ッキ皮膜の厚さは、０．０８〜Ｂｐｍ 、好ましくは０
．１〜０．５ ＃ｆｉである。
第１表
発明の効果
■ 磁性皮膜と保護皮膜の間に中間層が必要ないので、
記録密度の低下が少ない。
記録密度の低下が少ない。
■ 弱酸性〜アルカリ性のメッキ液を使用するので磁性
皮膜、素材等の腐食がない。
皮膜、素材等の腐食がない。
■ 無電解メッキにより保護皮膜を形成させるので均一
電着性に優れている。
電着性に優れている。
■ 得られるロジウム皮膜及びルテニウム皮ｓｉｔ、耐
食性及び耐摩耗性に優れている。
食性及び耐摩耗性に優れている。
次に実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
直径１８．８ｃｍのアル１＝ウム素地（Ｊｌｓ−Ａ−５
０１２＞のディスクに次に示す工程の処理を行ない磁気
記録体を製造した。
０１２＞のディスクに次に示す工程の処理を行ない磁気
記録体を製造した。
アルミニウム素材
↓
脱脂処理
酸性脱脂液：アルクリーン５Ｏ−４
（奥野製薬工業■製）
５６°０，８分浸漬
↓
亜鉛置換処理
亜鉛置換液：アープ８０２
（米国、アライドキーライト社製）
２６℃、４５秒浸漬
↓
硝酸浸漬
６８チ硝酸８００ｍ１／１
２５℃、１分浸漬
↓
亜鉛置換処理
亜鉛置換液：アープ８０２
（米国、アテイドキーライト社＃）
２５’０．２０秒浸漬
↓
無電解ニッケルーリンメッキ
無電解ニッケルーリンメッキ液：トプニコロンＰ−１８
（奥野製薬工業■製） ９０℃、メッキ時間１２０分 磁性メッキ 無電解Ｃｏ −Ｐメッキ液：ディスクラッド６０１（米
国、アライドキーライト社製）７７°Ｃ１メツキ時間８
分 ↓ 塩化ロジウム液浸漬 塩化ロジウム８ｇ／ｌ、塩酸（８６チ）５ｃｃ／ｊｆ２
５℃、２分浸漬 ヘキサアンミンロジウム塩化物錯体１１／１２０チアン
モニア水 ｌＢｒｎ１／１８０％ヒドラジンヒ
トラード １ｇ／４６０℃、メッキ時間８０分 得られた磁気記録体の表面は、均一であり、ロジウムメ
ッキ皮膜の膜厚は、０．１８μｍ〜０．２１μｍの範囲
内にあり、優れた均一電着性を示した。
（奥野製薬工業■製） ９０℃、メッキ時間１２０分 磁性メッキ 無電解Ｃｏ −Ｐメッキ液：ディスクラッド６０１（米
国、アライドキーライト社製）７７°Ｃ１メツキ時間８
分 ↓ 塩化ロジウム液浸漬 塩化ロジウム８ｇ／ｌ、塩酸（８６チ）５ｃｃ／ｊｆ２
５℃、２分浸漬 ヘキサアンミンロジウム塩化物錯体１１／１２０チアン
モニア水 ｌＢｒｎ１／１８０％ヒドラジンヒ
トラード １ｇ／４６０℃、メッキ時間８０分 得られた磁気記録体の表面は、均一であり、ロジウムメ
ッキ皮膜の膜厚は、０．１８μｍ〜０．２１μｍの範囲
内にあり、優れた均一電着性を示した。
（以 上）
Claims (1)
- （１）素材上に形成した磁性記録皮膜を触媒溶液により
活性化し、無電解ロジウムメッキまたは無電解ルテニウ
ムメッキを行なうことを特徴とする磁気記録体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16004284A JPS6139235A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16004284A JPS6139235A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139235A true JPS6139235A (ja) | 1986-02-25 |
| JPH0373932B2 JPH0373932B2 (ja) | 1991-11-25 |
Family
ID=15706669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16004284A Granted JPS6139235A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139235A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017104090A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | オリンパス株式会社 | 光学ユニット及び内視鏡 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP16004284A patent/JPS6139235A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017104090A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | オリンパス株式会社 | 光学ユニット及び内視鏡 |
| JPWO2017104090A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2018-10-04 | オリンパス株式会社 | 光学ユニット及び内視鏡 |
| US11280994B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-03-22 | Olympus Corporation | Optical unit and endoscope |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0373932B2 (ja) | 1991-11-25 |
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