JPS60177420A - 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法

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JPS60177420A
JPS60177420A JP3288284A JP3288284A JPS60177420A JP S60177420 A JPS60177420 A JP S60177420A JP 3288284 A JP3288284 A JP 3288284A JP 3288284 A JP3288284 A JP 3288284A JP S60177420 A JPS60177420 A JP S60177420A
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thin film
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film magnetic
coil
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JP3288284A
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Hideo Tanaka
英男 田中
Nobuyuki Hayama
信幸 羽山
Kazuhiko Yamada
一彦 山田
Takao Maruyama
丸山　隆男
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NEC Corp
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NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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    • G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
    • G11B5/3136—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure for reducing the pole-tip-protrusion at the head transducing surface, e.g. caused by thermal expansion of dissimilar materials
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 磁気ディスク装置、磁気テープ装置、フロッピディスク
装置等に用いられる薄膜磁気ヘッドに関する。
（従来技術とその問題点） 近年、磁気ディスク装置の高密度化が着実に向上してい
る。そして尚トランスファーレートを達成するために、
インダクタンスの小さめ薄膜磁気へ、ドが用いられる様
になってきた。例えばＩＢＭ社製３３７０．３３８０磁
気デイスク装置においては薄膜磁気ヘッドが用いられて
おシ、製造技術上５困難な点もあるが商業ベース化され
始めている。
又最近は、ディスク径が小さい（５インチ、３インチ等
）を用いる装置にも使用される様になってきた。しかし
ディスク径が小さくなると、ディスクとへ、ドの相対速
度が小さくなるために、薄膜なるという欠点を有し、Ｎ
ｉＦｅ合金やＮｉＣｏ　合金に見られる磁気抵抗効果を
用いたいわゆるＭＲヘヘラが再生効率の高さから必須の
ものと考えられている。しかし従来のインダクティブ薄
膜磁気ヘッドのコイルＱ周シにはレジストが用いられて
いるため、熱に対して弱いことと同時に熱膨張係数が大
きいという欠点がある。このことは書込み時のコイルの
発熱によυ、このレジストが膨張し、浮揚面側に上部ポ
ールが突出する現象が生じ、クラッシュを生じたシ、ヘ
ッド磁性材料の劣化を生じ、記録再生効率を劣化させる
原因となっていた。
一方ＭＲヘッドは再生機能だけであるので、記録ヘッド
が必要である。目己録と再生を別々のヘッドで行なう場
合、尚密度記録時には記録ヘッドと再生ヘッドとのアジ
マス損失が顕在化し、高密度記録が達成出来ないという
欠点が生じていた。従って記録ヘッドと再生ヘッドの一
体化が必要となるが、従来のインダクティブ薄膜磁気ヘ
ッドの上にＭＲヘヘラを結合させる場合にはコイルまわ
りの段差解消の必要性とＭＲ素子の形成される基板の表
面粗さを非常に小さくする必要性があった。この段差解
消にレジストを用いた場合には前述の欠点が生じ、しか
も５μｍもある、この段差解消はレジストを用いる以外
は非常に困難であシ、実質上、複合型薄膜磁気ヘッドの
作製は出来ないと考えられてきた。
（発明の目的） 本発明の目的は前述の問題点を改善した僅台型薄膜磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
（発明の構成） すなわち本発明はインダクティプ型薄膜磁気ヘッドと磁
気抵抗効果型磁気ヘッドとを結合した複合型薄膜磁気ヘ
ッドにおいて基板の上の下部ポールと絶縁層に囲まれた
コイルと上部ポールよυなるインダクティブ型薄膜磁気
ヘッドと、該磁気ヘッドに、絶縁層を介して磁気抵抗効
果素子と絶縁層とシールド層と保護膜層とを有する磁気
抵抗効果素子気ヘッドを有し、コイルを囲む絶縁層が無
機絶縁層であシ、上部ボールが平担化されていることを
特徴とする複合型薄膜磁気へ、ド、及び前記複合型薄膜
磁気ヘッドの製造方法において、上部ポール形成工程と
無、磯絶縁層に囲まれたコイル形成工程とこの上に無機
絶縁層を形成する工程と該無機絶縁層を平坦に仙岸する
工程と上部ポール形成工程と磁気抵抗効果素子形成工程
とを有することを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッドの製
造方法。
（構成の詳側な説明） 本発明は上述の構成をとることによυ従来の問題点を解
決したものである。
まず従来のインダクティブ薄膜磁気ヘッドに用いられて
いるコイルのまわシのレジスト層のかわシに、Ａｔ２０
８等の無機物を用いることによシ熱膨張によるポールピ
ースの突出がなくなった。又コイルの上の無機絶縁層（
Ａｔ、Ｏ，等）の段差を研摩することによシ解消した。
さらにインダクティブ薄膜磁気ヘッドの上部ポールを平
担圧したことにより、その上に無機絶縁層（ｋｌｔＯｓ
等）の表面あらさによるＭＲヘヘラの特性劣化の問題を
解決することが出来た。
以丁本発明による複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方
法を実施例により説明する。
（実施例１） 第１図及び第２図に、本実施例の製造工程中の断面構造
及び２レールスライダーに本実施例の複合型薄膜磁気ヘ
ッドを適用した場合の概観図をそれぞれ示す。第１図を
用いて、本実施例の製造工程を示す。
まず、基＆１（研摩されたＡｔ、０３膜を含む）の上に
インダクティブ薄膜磁気ヘッドの下部ポール（Ｎ＋−Ｆ
ｅ　、　Ｃｏ−Ｚｒ　、センダスト等）２を被覆し、該
下部ポール２上に無機絶縁層（Ａｔ、０３等）３とリア
ギャップ部（Ｎｉ−Ｆｅ　、　Ｃｏ−Ｚｒ、センダスト
等）５を被覆し、さらに該無機絶縁層（ｊ！ｋｔ、（Ｊ
、等）３の上にコイル４を形成しく第１図の■）、次に
そのコイル４及びリアギャップ５の上に無機絶縁層（ｈ
ｔ、ｏ、等）６をスパッタ法によシ少なくともコイル４
の扁さ以上になる様に被覆する。第１図の■に示す様に
無機絶縁層（Ａｌｔｏｓ　）　６は段差（凹凸）を生じ
、この段差を解消する必要がある。この段差を解消する
ために、第１図の■の状態を研摩によシ、無機絶縁層６
の凹凸状態を除去し、第１図の■に示す様にコイル４０
表面が現われるところまで＠壓する。この状態で表面の
段差が解消式れた状態となる。次にこの表面のリアギャ
ップ５以外の部分に無機絶縁層（Ａｔ、Ｏ，等）７を被
覆し、その上圧上部ポール（Ｎｉ−Ｆｅ　、　Ｃｏ−Ｚ
ｒ、センダスト等）８を被覆する（第１図の■）。第１
図の■の上に無機絶縁層９　（Ａｌｔｏｓ等）を被覆し
、その上にＮｉＦｅ　＋Ｎｉ（：：ｏ合金等よシ成るＭ
ＲＲ子１０を形成する（第１図の■）。この状態におい
ては無機絶縁層９の平面性は非常に良く、表面粗さも小
さく、ＭＲ累壬子１０特性を劣化させることはない。
さらに該ＭＲ素子の上に無機絶縁層（ＡｔｔＯ，等）１
１、シールド層（ＮｉＦｅ合金＊　Ｃｏ　−Ｚ　ｒ合金
、センダスト等）１２及び保護膜層１３　（Ａｚ、ｏ３
等）を被覆し、複合型薄膜磁気へ、ドのトランスデー−
サ部分が出来上る（第１図の■）。第１図の■の状態か
ら、加工・研摩工程を紅て、第２図の（ａ）　、　（ｂ
）Ｋ示す様な２レールスライダー１６に加工・研摩され
る。さらにこれにジンバルアッセイを行ない複合型薄膜
磁気ヘッドが出来上る。
（実施例２） 前記実施例１のトランスデユーサ部の製造工程（第１図
）により作製したウェーハを用いて、フロッピ磁気ディ
スク装置や磁気テープ装置等に適用した場合のヘッドの
構造を第３図の（ａ）’、　（ｂ）に示した。
この場合には磁気ヘッドの構造を球面にするために、ガ
ラスボンディング部１９を必要とする。
このガラスボンティング時に温度が４５０℃近傍まで上
るために、従来のレジスト層ではヘッドを作製すること
が出来ない。
しかし絶縁層Ａｔ、０．等の無機物を用いれば、その温
度に耐えることが出来る。この場合さらに記録ヘッドの
ボール材料にも制御を生じ、従来用いられているＮｉ　
−Ｆｅ膜、さらに試みられつつあるＣｏ−Ｚｒアモルフ
ァス膜等では温度の上昇によシ、軟磁気特性は大幅に劣
化し、実用に供さなくなる。
そこで高温度（５００℃）にも耐えられるセンダスト膜
をポールピース材料として用いれば、ソロ、ビ磁気ディ
スク装置用と使用することが出来る。本発明の複合型薄
膜磁気ヘッドは垂直記録再生用ヘッドとして１吏用出来
ることは１うまでもない。
（発明の効果） 以上の様なヘッド偽造・材料と製造方法を用いることに
より、記録時にコイルの発熱によるポールピース材料の
突出、インダクティプ薄膜磁気ヘッドとＦＴＬＲ素子と
のアジマス損失やＭＲ素子の形成される基板の表面粗さ
く凸凹があると特性が劣化）の問題を解消することが出
来、尚密度記録再生を可能とする複合型薄膜磁気ヘッド
及びその製造方法を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図■〜■は本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの製造工
程を示す概略図、第２図（ａ）　ｔ　（ｂ）は本発明の
ヘッドを適用したリジッド磁気ディスク装置の２レール
スライダーの概観図、第３図（ａ）　Ｉ　（ｂ）は本発
明のヘッドを適用したフロッピ磁気ディスク装置の概略
図。 各図において１は基板、２は下部ボール、３゜６．７，
９．１１は無機絶縁層、４はコイル、５はリアギャップ
部、８は上部ボール、１ｏはＭＲ素子、１２はシールド
層、１３は保護膜層、１４．１５はリード端子、１６は
２レールスライダー、１７．１８は補強用スライダー材
料である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）インダクティブ屋薄膜磁気ヘッドと磁気抵抗効果
    型磁気ヘッドとを結合した複合型薄膜磁気ヘッドにおい
    て基板の上の下部ボールと絶縁層に囲まれたコイルと上
    部ボールよシなるインダクティブ型薄膜磁気ヘッドと、
    該磁気ヘッドに絶縁層を介して磁気抵抗効果素子と絶縁
    層とシールド層と保護膜層とを有する磁気抵抗効果型磁
    気ヘッドを有し、コイルを囲む絶縁層が無機絶縁層であ
    シ上部ボールが平担化されていることを特徴とする複合
    型薄膜磁気ヘラドリ
  2. （２）　複合型薄膜磁気へ、ドの製造方法において、下
    部ボール形成工程とコイル形成工程とこの上に無機絶縁
    層を形成する工程と該無機絶縁層を平坦に研摩する工程
    と上部ボール形成工程と磁気抵抗効果素子形成工程とを
    有することを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッドの製造方
    法。
JP3288284A 1984-02-23 1984-02-23 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 Pending JPS60177420A (ja)

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