JPH01208711A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は高抗磁力のメタルテープに対応する九めに磁気
コアのギャップ近傍部に高飽和磁束密度の強磁性金属薄
膜を配置した所謂複合型の磁気ヘッドの製造方法に関す
る。

（ｑ　従来の技術 近年、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に使
用され為磁気テープにおいては高密度化が進められてお
り、磁性粉としてＦｅ％　Ｃｏ％Ｎ１等の強磁性金属粉
末を用いた抗磁力の高いメタルテープが使用されるよう
になっている。一方、このメタルテープに記録を行う磁
気ヘッドとしては、例えば特開昭５８−１７５１２２号
公報（０１１ＢＳ／２２）に開示されてい石ように、作
動ギャップの近傍部分を磁気コアとして使用されるフェ
ライトよりも飽和磁化の大きな磁性材料（例エバパーマ
ロイ、センダスト、アモルファス磁性体）で構成した複
合型の磁気ヘッドが提案されており、この複合型の磁気
ヘッドは信頼性、磁気特性、耐摩耗性等の点で優れ之特
性を有する。

次に、この複合型の磁気ヘッドの製造方法について説明
する。

先ず、′？ＩＳ５図に示すようにＭｎ−Ｚｎ系単結晶フ
ェライト等の強磁性酸化物よりなる基板（１）の上面（
１ａ）に斜面（２ａ）を有する傾斜溝（２）を全幅に亘
って複数形成する。

次に第６図に示すように前記基板（１）の上面（１ａ）
全域にセンダスト、アモルファス合金等の強磁性金属薄
膜（３）をスパッタリング等により被着形成する。

次に、第７図に示すように強磁性金属薄膜（３）が被着
された傾斜溝（２）内に高融点ガラス（４）を基板（１
）の上面（１ａ）を覆うように充填する。

次に、前記基板（１）の上面（１ａ）に被着された高融
点ガラス（４）及び強磁性金属簿膜（３）を研削し、Ｉ
￥ｉＩ記基板（１）上面（１ａ）を平面研磨して平滑度
良く面出しを行い第８図に示すように前記傾斜溝（２）
に被着された強磁性金属薄膜（３）を露出させてギャッ
プ形成面（１６）を形成する。

次に、第９図に示すように前記基板（１）の上面（１ａ
）にトラック幅規制溝（５）、巻線溝（６）、ガラス棒
挿入溝（７）を形成す石。

次に、第１０図に示すように第９図に示す基板（１）と
、第８図に示す基板（１）にトラック幅規制溝（５）を
設けた基板（１）′とのギャップ形成面同士を衝き合わ
せる。

次に、前記ガラス棒挿入溝（７）にガラス棒（８）を抑
大し、該ガラス棒（８）を溶融固化することにより前記
側基板（１）（１）’を接合してブロック（９）を形成
する。

尚、前記ガラス棒（８）は前記高融点ガラス（４）より
も低融点である。

次に、前記ブロック（９）を第１０図に示す一点鎖線Ａ
−Ａ’で切断し、テープ摺接面α１をＲ付研磨すること
により第１１図に示すように作動ギャップ１１１）近傍
部に強磁性金属薄膜（３）が被着形成された複合型の磁
気ヘッドが完成する。

しかし乍ら、上述の製造方法の場合、基板（１）の上面
（１ａ）に強磁性金属薄膜（３）をスパッタリング等に
より被着形成すると、この被着形成工程中の温度変化に
より、前記基板（１）と前記強磁性金属薄膜（３）との
間には両者の熱膨張係数の違いから歪が生じ、この歪に
より後の鏡面研磨や溝加工によって＠肥基板（１）にヒ
ビが多数発生したり、強磁性金属薄膜（３）の膜剥れが
起こり、歩留りが悪かった。

そして、トラック幅が３０μｍを起える磁気ヘッドを形
成するために、前記強磁性金属薄膜（３）の膜厚を大き
くした場合、前記歪が増大し上述のヒビや膜剥れが多数
発生した。

ま次、特開昭６１−１５８０１１号公報（（）１１Ｂ５
／１２７）には、上述の歪を緩和するために、第１２図
（ａｌに示すように基板（１）の上面（１ａ）にＡｌや
Ｃｒ等の歪緩和膜ｏｔ−設け、その上に第１２図（ｂｌ
に示すように傾斜溝（２）を形成した後、強磁性金属薄
膜（３）を形成する方法が示されている。

しかし乍ら、この方法では、傾斜溝（２）を加工形成す
る際、ダイヤモンド砥石等によりＡＩやＣｒ等の歪緩和
膜０′２も同時に削り取られるため、砥石の摩耗が大き
くなる。このため第１２図（１）ｌに示す溝ピッチＰが
ばらつき、トラック幅のばらつきが大きくなり別の面で
歩留りが悪くなった。

（／１　発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑みなされたものであり、
トラック幅のバラツキを増大させｂことなく、基板と強
磁性金属薄膜との境界部の内部歪をｆ）ｌｋＡ＆させて
歩留りの悪化を防止した磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることを目的とするものである。

（判　課題を解決するための手段 本発明の磁気ヘッドの製造方法は、強磁性酸化物よりな
る基板の上面に溝を形成した後、前記基板の上面のうち
前記溝の部分だけにマスクスパッタ法等により強磁性金
属薄膜を被着形成することを特徴とする。

（ホ作　用 上記製造方法によれば、基板と強磁性金属薄膜との接触
部分は溝の部分だけになるため、両者の接触面積は小さ
くなり、境界部に生じる内部歪は低減する。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。

第１図は本実施例の磁気ヘッドの製造方法の要部を示す
図である。

先ず、′：５１図ｔａｌに示すようＫＭｎ−Ｚｎ系単結
晶フェライト等の強磁性酸化物よりなる基板（１）の上
面（１ａ）に斜面（２ａ）を有する傾斜溝（２）を全幅
に亘って複数形成する。

次に、第１図（ｂｌに示すようにセンダスト、アモルフ
ァス合金等の強磁性金属薄膜（３）を前記傾斜溝（２）
上にだけスパッタリング等により被着形成する。

この強磁性金属薄膜（３）は、第２図に示すように基板
（１）の上面（１ａ）のうち傾斜溝（２）が形成されて
いない部分Ｏ２の上方にステンレス鋼或いはＮｉ−Ｃ０
合金等の材料からなる“７スクαＪを配置したマスクス
パッタ法等によって形成される。

次に、第１図（Ｃｊに示すように強磁性金属薄膜（３）
が被着された傾斜溝（２）内に基板（１）の上面（１ａ
）を覆うように高融点ガラス（４）を充填する。

以後は従来例の第８図〜第１１図に示した製造方法と同
様にして本実施例の複合型の磁気ヘッドが完成する。

この製造方法によれば、基板（１）と強磁性金属薄膜（
３）との接触面積を大幅に低減出来るため、前記接触面
に生じる内部歪が小さくなり、鏡面研磨加工、トラック
幅規制溝（５）加工、巻線溝（６）加工、ガラス棒挿入
溝（７）加工等により基板（１）にヒビが発生したり、
強磁性金属薄膜（３）が剥離したりするのが大幅に抑え
られる。

！３図は他の実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す図で
ある。

先ず、第３図α）に示すように基板（１）の上面（１ａ
）に断面Ｗ字状の傾斜溝（１４１を形成する。

次に、第３図（’ｂｌ示すように強磁性金属薄膜（３）
を前記傾斜溝圓上にだけマスクスパッタ法等により被着
形成する。

以後は、上述の実施例と同様に前記傾斜溝Ｉ内に晶融点
ガラス（４）を充填し、上方から一点鎖線Ｂ−Ｂ’−ｉ
で研削研磨してトラック幅Ｔを有するギャップ形成面０
６）を形成した後、従来例の第９図に相当する加工を行
い、第３図（Ｃ１に示すように一対の基板（１）（１）
’をガラス接合してブロックｑ５１を形成する。

そして最後に、前記ブロック（１５１を一点鎖線Ｃ−Ｃ
′に沿って切断することにより第４図に示す他の実施例
の複合型の磁気ヘッドが完成する。

この実施例の製造方法によっても上述の実施例と同様に
基板（１）と強磁性金１７１　Ｎ膜＜３）との接触面積
が小さくなるため、内部歪が小さくなり、基板（１）の
ヒビ、強磁性金属薄膜（３）の剥離が抑えられる。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、トラック幅のバラツキを増大させるこ
となく、内部歪による歩留りの悪化を抑え、量産性に優
れた磁気ヘッドの製造方法を提供し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明に係り、第１図及び第２図は
一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す図、第３図は他
の実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す図、第４図は他
の実施例の磁気ヘッドを示す図である。第５図、第６図
、第７図、＠８図、第９図、第１０図及び第１１図は夫
々磁気ヘッドの製造方法を示す図、第１２図は従来の磁
気ヘッドの製造方法を示す図である。 （１）（１）’・・・基板、（２）・・・傾斜溝、（３
）・・・強磁性金属薄膜、０１）・・・作動ギャップ、
圓・・・傾斜溝。 第１ｒ：ｊ！Ｊ Ｃ１ 区 第３図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性酸化物よりなる一対の磁気コア半体を備え
   、該磁気コア半体のうち少なくとも一方の作動ギャップ
   近傍部に強磁性金属薄膜が被着形成された磁気ヘッドの
   製造方法において、強磁性酸化物よりなる基板の上面に
   溝を形成した後、前記基板の上面のうち前記溝の部分だ
   けに強磁性金属薄膜を被着形成することを特徴とする磁
   気ヘッドの製造方法。
2. （２）前記強磁性金属薄膜の被着形成をマスクスパッタ
   法により行うことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッ
   ドの製造方法。