JPS61280009A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は記録および再生用磁気ヘッドに係り、特に金属
磁性体を用いたＶＴＲ用磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

従来より、磁気へラドコアを構成する磁性材料として金
属磁性体を用いた磁気ヘッドが使用されている。金属磁
性体を用いた磁気ヘッドは、素材の飽和磁束密度が高く
、高保磁力を有するメタルテープに対しても十分記録可
能なものが得られ、かつ摺動雑音が低いという優れた特
性を有する。

しかし、金属磁性体は比抵抗が低く、渦電流損失が大き
いため、一般に使用されるヘッド形状でのコア厚さでは
、従来の高透磁率フェライト材料に比ベビデオ周波数領
域での実効透磁率が低くなるという欠点がある。

最近では上記問題を解決するために、トラック幅の厚み
を有する金属磁性体と耐摩耗性に優れた保護材とを組み
合わせた磁気ヘッドが提案されている（特開昭５６−１
２４１１２号公報、実公昭５７−１３８１１９号公報）
。

この種の磁気ヘッドは、第１図に示すように磁気回路を
構成する金属磁性体１０の両側面に保護材１１．１１’
が設けられている。ここで、図中１２は非磁性材を介し
た作動ギャップ、１３はコイル巻線用窓である。またこ
のような磁気へラドコアは第２図のような工程で複合ブ
ロックが作られる。第２図（ａ）は保護林１１の上にト
ラック幅に等しい厚みの金属磁性体１０が蒸着あるいは
スパッタリング法によって形元成され、もう一方の保護
材１１′を金属磁性体１０の面で接合して、第２図（ｂ
）に示すような複合ブロック１４を得る。この時の接合
材としては樹脂ガラス、ロー材等がある。

一方、コア材の金属磁性体に対して保護材は耐摩耗性、
熱膨張係数、加工性等を適当に設定したガラス、セラミ
ック等の電導性の低い材料の中から選ばれる。

一方、磁気記録の高密度化の進展にともなって信号の記
録再生を行なうトラック幅の狭小化が進み、近年ではＶ
ＴＲ用磁気ヘッドのトラック幅は約３０μｍと極めて小
さいものとなっている。このような小さいトラック幅を
有する磁気ヘッドにおいては、ヘッドコアの厚さＴ、が
トラック幅１゜と等しい場合にはへラドコアの磁気抵抗
が大きくなってしまうため、第３図に示したように、作
動ギャップ近傍に切欠部１５，１５’　を設けて、ヘッ
ドコアの厚みを減じてトラック幅ｔＷとし、その他の部
分はへラドコアの厚さＴ、をトラック幅１、よりも大と
することにより、磁気抵抗を減じて磁気ヘッドの再生感
度を増加させることが一般に行なわれている。また、こ
れは磁気ヘッドのテープ摺動面の面積を増加させるため
、耐摩耗性の高上にも効果がある。

このようなヘッドコアの厚さよりもトラック幅を減じた
磁気ヘッド（以後狭トラツクヘッドと称する）を金属磁
性体を用いて製造する場合には、例えば第４図のように
複合ブロック上±に機械加工によりトラック幅規制溝１
６，１６’　を設け、これによりトラック幅を所定の寸
法に加工する。

しかしこの場合には、出来上がった磁気ヘッドのトラッ
ク幅の寸法精度が悪くなるかあるいは寸法精度を維持す
るために多大の時間を費やし、量産性に欠けるという問
題がある。また、溝加工時の加工応力により金属磁性体
の磁気特性が劣化することも考えられる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は前記従来の欠点を解消し、金属磁性体と
保護材を組み合わせた磁気ヘッドにおいてトラック幅精
度が高く、耐摩耗性に優れ、がっ、加工歩留りの優れた
狭トラツク磁気ヘッドを提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は、金属磁性体の主磁路形成面を２個の保護基板
ではさんだ磁気ヘッドにおいて、第１の保護基板面には
連続する２個の浅溝を設け、該溝に金属磁性体を充填し
、第２の保護基板面には磁気ヘッドのトラック幅と等し
い厚みを有する金属磁性体を形成し、コアの厚さよりも
トラック幅を減じた形状となるように構成した磁気ヘッ
ドである。

〔発明の実施例〕

具体的な一例を第５図（ａ）に示す。すなわち。

第一の保護材１１の基板面に連続する２個の浅溝を形成
し、該浅溝に金属磁性体１０を充填してなり、第２の保
護材１１′の基板面にも金属磁性体１０′が形成され、
トラック幅は第２の保護基板面に形成された金属磁性体
１０′の厚みによって規定され、かつ、コアの厚さより
も小さくなっている。第１の保護材と第２の保護材が接
合された複合ブロックは、磁気気コア半休１８．１８’
に分割され、少なくとも一方のコア半休にコイル巻線溝
１３を形成して後、作動ギャップ突き合わせ面に非磁性
ギャップ材を介してコア半休↓炙。

１８’　を接合して磁気へラドコアを得る。第５図（ｂ
）はテープ摺動面の構造を示す、前記浅溝の両端には傾
斜を設け、該浅溝に充填された金属磁性体１０の端縁と
作動ギャップ１２が平行部を持たないようにしである。

また、磁気コアの作動ギャップ突き合わせ部は第２の保
護基板面に形成された金属磁性体のみで構成される。

第６図は本発明の磁気ヘッドを製造する工程の第１の実
施例を示す。工程順を示す（イ）等はそれぞれ第６図の
（イ）等に対応する。

（イ）磁気ヘッドの一方の側面を形成する第１の保護基
板２０を用意する。該保護基板は、非磁性セラミック材
からなり、幅ａはコア幅で約３ｍ＋鳳。

長さｂはコア高さで約２．５ｍ厘（２個取りの長さが示
しである）、厚みＣはコア厚みの半分で約１１、それぞ
れ加工代を含めた寸法である。上面２１はもう一方の保
護基板（後述）との接合面となる。接合面２１に金属磁
性体を充填するための連続する２個の浅溝２２および２
２′が形成される。浅溝２２および２２′は磁気ヘッド
のトラック幅よりも深く形成される。この時、前記浅溝
２２および２２′の両端部に傾斜を設け、該浅溝に充填
された金属磁性体の端縁と作動ギャップが平行部を持た
ないようアジマス損失を与え、金属磁性体端部が疑似ギ
ャップとして作動しないようにしている。傾斜部の角度
θは３０°〜６０°の範囲とした。溝の加工は、砥石ま
たはマスクエツチングにより行なわれる。

（ロ）次に、上記溝２２および２２′に金属磁性体。

例えばセンダストあるいは各種の非晶質磁性合金の膜２
３を蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成技術によ
って形成する。

（ハ）次に、上記の磁性膜２３形成工程で生じた余分の
金属磁性体を研削、研摩等によって除去し、接合面を形
成する。この時、金属磁性体膜２３の厚みはトラック幅
よりも大きくし、接合面は保護基板面が現われるように
する。

（ニ）次に、もう一方の第２の保護基板２０′の基板面
２１′にも金属磁性体２３′を形成する。

この時、金属磁性体膜２３′の厚みはト？ツタ幅ｔにほ
ぼ等しくなる。

（ホ）次に、前記金属磁性体２３′の上部にガラス２４
をスパッタリング等の手段によって設ける。

（へ）次に、保護基板２０と２０′を重ね合わせ、加圧
しながら加熱して接合体２５を形成する。

（ト）次に、上記接合体又旦を中央で分割し１組のコア
ブロック半休２６．２６’を形成して後、再び突き合わ
せて接合するギャップ突き合わせ面２７．２７’　を鏡
面研磨する。

（チ）次に、少なくとも一方のギャップ突き合わせ面に
コイル巻線用の溝２８を形成する。その後。

ギャップ突き合わせ面２７．２７’　に非磁性ギャップ
膜をスパッタ法により規定の厚さだけ形成する。この場
合、磁気へラドコアの前部突き合わせ部にはＳｉＯ□等
の高融点ガラスを、後部、突き合わせ部には接合材とな
る低融点ガラスを形成するとよい。

（す）次に、２個のコアブロック２６．２６’　を突き
合わせて、加熱しながら加圧して接合し、磁気ヘッドコ
アブロック２９を形成する。この時補強材として、窓の
一部にもガラスを充填することにより接合強度を高める
ことができる。

ＣＲ）次に１点線部で切断して（ヌ）に示すような一個
の磁気へラドコア３０を得る。

（ｒｖ）次に、（ｌン）に示すようにコア幅Ｔ（約１５
０〜２５０Ｐｍ）に切断して、ヘッドコアチップ３１を
得る。

本発明によれば、第２の保護基板の上に堆積された金属
磁性体の膜厚がトラック幅となるため、トラック幅精度
が向上する。さらに、トラック幅規制溝等の機械加工が
不要となることから、加工応力により金属磁性体の磁気
特性が劣化することもない。

一方、金属磁性体膜は単層膜でもよく、絶縁膜を中間に
挾んで多層膜にしてもよい。

また、第１の保護基板上に形成される第１の金属磁性体
と第２の保護基板上に形成される第２の金属磁性体とは
同一の磁性材料でもよく、また異なる磁性材料でもよい
。

〔発明の効果〕

本発明によれば、磁気ヘッドの形状を有する金属磁性体
の側面を２個の保護基板で挾んだ磁気ヘッドにおいて、
第１の保護基板面には連続する２個の浅溝を設け、該溝
に第１の金属磁性体を充填し、第２の保護基板面に形成
された第２の金属磁性体の膜厚がトラック幅となり、コ
アの厚さよりもトラック幅を減じた形状となるように構
成された構造を有するため、トラック幅精度の高い狭ト
ラツク磁気ヘッドが容易に得られ、ヘッド加工歩留りが
向上する。また、トラック帽規制用の溝が不要となり、
溝加工時の加工応力により金属磁性体の磁気特性が劣化
することもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気ヘッドの構造を示す斜視図。 第２図（ａ）、（ｂ）は従来の磁気ヘッドの作製法を示
すブロック斜視図、第３図は狭トラツクヘッドの説明図
、第４図は従来の複合ブロックより狭トラツクヘッドを
製造する方法を示す工程図、第５図は本発明の磁気ヘッ
ドの一例を示すコア斜視図、第６図（イ）〜（ル）は本
発明の磁気ヘッド製造工程を説明するための斜視図およ
び平面図である。 １０．１０’　、２３，２３’・・・・・・金属磁性体
。 １１．１１’　、２０．２０’・・・保護基板、２２゜
Ｖ−１口　　　　　　　茅２目 ″＃−６日 第４口 （又） （Ｊレノ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、金属磁性体の主磁路形成面を２個の保護基板で挾ん
   だ残気ヘッドにおいて、第１の保護基板面に少なくとも
   １個の浅溝を設け、該浅溝に第１の金属磁性体を充填し
   てなり、第２の保護基板面にトラック幅にほ等しい厚み
   の第２の金属磁性体を形成し、かつ磁気コアの作動ギャ
   ップ突き合わせ部は前記第２の金属磁性体のみで構成し
   たことを特徴とする磁気ヘッド。 ２、前記第１の保護基板の浅溝の端部が傾斜しており、
   該浅溝に設けられた前記第１の金属磁性体の端縁が作動
   ギャップと平行部を持たない、ことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 ３、前記第１の金属磁性体と第２の金属磁性体は同一の
   磁性体材料からなることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項または第２項に記載の磁気ヘッド。 ４、前記第１の金属磁性体と第２の金属磁性体は異なる
   磁性材料であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   または第２項に記載の磁気ヘッド。