JPS59218615A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はＶＴＲ等の磁気ヘッドに係り、特に２つの磁気
ヘッドが所定の間隔を有し、保護基板内に一体化して形
成された磁気ヘッドおよびその製造方法を提供するもの
である。例えば、スローモーション、早送り、スチール
再生に適した磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

一般にスローモーション、早送す、スチール再生をそな
えたＶＴＲ用の多機能型磁気ヘッド装置は回転ドラム装
置を構成するシリンダー上に、記録および再生もしくは
消去用の複数個の磁気ヘッドを配置して構成される。と
ころがこのような磁気ヘッド装置は記録トラックと再生
ヘッドの互換をとる必要上複数個の磁気ヘッドが互いに
適正な位置を数ミクロンの精度で取りつけられる必要が
ある。

したがって、磁気ヘッドの個数が増えるに従って、シリ
ンダー上への磁気ヘッドの設置は高い精度と多大な組み
立て時間を必要とする。

従来、ヘリカルスキャン型ビデオテープレコーダ（ＶＴ
Ｒ）として第１図に示すものが知られている。第１図の
ＶＴＲにおいては、シリンダー１０に磁気ヘッド１２，
１３．１４の３個が取り付けられる。それぞれの磁気ヘ
ッドは第１図（ａ）。

（ｂ）、　（Ｃ）にテープ対接面を示すように、その作
動ギャップがそれぞれ逆向きの角度の傾斜をもったもの
が配置される。磁気ヘッド１２と１３はシリンダー１０
の回転軸の回転中心に対して１８０°の角度位置に配置
されるとともに、磁気ヘッド１３と１４は円周上で所定
の距離ｔの間隔を置き正確に取りつけられる。記録は磁
気ヘッド１２．１３で行なわれ、第２図に示す磁気テー
プ１１に１５゜１６のように、その長手方向に対して所
定角度傾斜した記録トラックが互いに逆向きのアジマス
で形成される。通常の再生時には記録トラック１５゜１
６を磁気ヘッド１２．１３で再び走査しビデオ信号を再
生している。しかし、フィルドスチル再生の時には符号
１７をヘッド軌跡とするため、一方の磁気ヘッドは同一
アジマスの左再生信号を得ることができるが、次に来る
１８０°位置にある磁気ヘッドを走査したときは異なっ
たアジマスのためアジマス損失により再生信号が得られ
ない。

そのため、記録トラック１７上を複数回走査してもヘッ
ド１２の再生信号しか得られない。そこで、ダブルアジ
マスと称するＶＴＲではヘッド１２と同一アジマスを有
する補助ヘッド１４がヘッド（主ヘッド）１３と所定の
間隔ｔをもって設けられ、ヘッド１３とヘッド１４を切
り換えるように構成されている。そこで、フィールドス
チル再生時には、ヘッド１２と同じアジマスのヘッド１
４により記録トラック１５上をヘッド軌跡１７で示すよ
うに複数回走査して、ノイズの々い再生信号を得ている
。

しかしながら、これら個々の複数の磁気ヘッドは相対位
置を数ミクロン以内の精度でシリンダー上に接着剤で固
定することは高度な熟練を必要とする。

サラニ、スローモーション再生用磁気ヘッドの場合には
画質を向上させるために磁気ヘッドをさらに増すように
なっている。

したがって、これを解消するために主ヘッドと補助ヘッ
ドを一体化し調整の数を減すことが望ましい。

上記に述べた磁気へラドコアは、現在コアを構成する磁
性材料としてフェライトを用いたものが実用化されてい
る。

フェライト材よりなる磁気ヘッドは、高透磁率を有し再
生能率が高く、また耐摩耗性にも優れているためＶＴＦ
Ｌ用ビデオヘッドとして広く用いられている。しかし、
最近ではＶＴＲの高性能化、小型軽量化の要請にともな
い、磁気テープの保磁力が従来の５００〜６００エルス
テツド（酸化物テープ）から１２００〜１５００エルス
テツド（メタルテープ）に移行しつつある。このように
磁気テープの保磁力が高くなると従来のフェライト（飽
和磁束密度約５０００ガウス）では記録が不十分となる
。一方、磁気ヘッドコア材を構成する他の磁性体として
、センダスト（Ｆｅ−Ｎｔ−８ｉ合金）あるいは非晶質
磁性合金のような金属磁性体を用いた磁気ヘッドは、素
材の飽和磁束密度がフェライトより高く、前記昼保磁カ
メタルテープに対しても十分記録可能なものが得られ、
かっ摺動雑音が低いという優れた特性を有する。しかし
、一般に使用されるヘッド形状でのコア厚さではビデオ
周波数領域での実効透磁率がフェライトより低く、従っ
て再生能率は低くなる。さらに最大の問題点として耐摩
耗性に劣るという欠点がある。

最近では上記問題を解決するために、トラック幅の厚み
を有する金属磁性体と耐摩耗性に優れた保護材とを組み
合せた磁気ヘッドが提案されている。例えば、第３図に
示すように磁気回路を構成した金属磁性体２０の両側面
に保護材２１．２１’が設けられている。ここで、図中
２２は非磁性材を介したギャップ、２３はコイル巻線用
窓である。

このような磁気へラドコアは第４図のような工程で接合
ブロックが作られる。すなわち、保護材２１の上にトラ
ック幅に等しい厚みの金属磁性体２０が蒸着あるいはス
パッタリング法によって形成され、もう一方の保護材２
１′を金属磁性体２０の面２４で接合されている。この
時の接合材としては樹脂、ガラス、ロー材等がある。一
方、コア材の金属磁性体に対して保護材は耐摩耗性、熱
膨張係数、加工性等を適当に設定したガラス、セラミッ
ク等の電導性の低い材料の中から選ばれる。しかし、こ
れら保護材を金属磁性体と組み合せて接合する場合、前
記、樹脂、ガラス、ロー材を用いると、一方が接合され
易くもう一方が接合され難いという欠点を持っている。

例えば、樹脂は比較的容易に接合可能であるが、精度や
湿度に対して信頼に欠け、またテープ走行中に表面に樹
脂がしみ出してしまうという最大の欠点をもっている。

一方、ガラスは保護材との接合強度は強いが金属との接
合強度が弱い。またロー材はその逆である。というよう
にどちらも異種材料の接合に対して一長一短があわ十分
満足するものではない。

たとえ中間膜を介して接合されてもその接合強度は弱く
、加工中にはく離してしまうというような問題が起り、
加工歩留りが悪という欠点がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来の欠点を゛解消するために近
接して配置された２個の磁気ヘッドを一体化し、これに
適した磁気ヘッド構造およびその製造方法を提供するこ
とにある。さらに、薄膜形成技術によってギャップ部の
接合工程を有しない磁気ヘッドであって加工工程におい
て機械的強度が高く、量産性に優れた磁気ヘッドを提供
することにある。

〔発明の概要〕

本発明を達成するためには磁性体の膜厚をトラック幅と
し磁気コアの形状を有する磁性体の主磁路形成面が保護
基板の溝内に形成されてなる。磁性体は高密度記録に適
した高飽和磁束密度の金属（９） 磁性体が用いられ、スパッタリング、蒸着等の薄膜形成
技術によって形成される。まだ、本発明は作動ギャップ
を形成するための接合技術を不用とした構造となってい
る。そのため狭ギャップを精度よく容易に得るととがで
きる。磁気コアを保護基板の溝内に形成することによっ
て機械加工的強度が増し、加工中に磁性体膜のはく離の
問題がなくヘッド加工工程が容易となる。また、磁気コ
アが溝に埋め込まれ、側部に保護材があるため、別の保
護材と接合する場合に、接合され易い保護材を選ぶこと
によって保護材どうしで接合できる構造となっているた
め接合強度を高めることができる。

他の本発明は保護基板に隣接して設けられた溝に磁性体
膜で形成され、作動ギャップが互いに逆方向の傾斜を有
するように２個の磁気へラドコアを並列に一体化してな
る。また、必要に応じて、加工工程の順序、方法をかえ
ることによって同一方向のアジマスを有する２個の磁気
ヘッドコアを形成することができる。このようにするこ
とによ（１０） つてシリンダーへ２個のヘッドを別々に配置するよ如、
取り付は精度が高まり、かつ繁雑な作業が不用となる。

分離して設けられた溝は個々に深さをかえることができ
、これに磁性体を充填することによって独立して任意の
コア幅およびトラック幅を有する磁気へラドコアを得る
ことができる。

例えば、再生時に記録トラックと同一アジマスの磁気ヘ
ッドに切り換えた時に記録トラック幅を十分走査できる
ように磁気ヘッドの幅を広くしておくことによって雑音
の少ない再生信号を得ることができる。他の利点は上記
１個の磁気ヘッドについて述べたものと同様である。

前記磁性体は従来のフェライトよりも飽和磁束密度が高
く且つ磁歪がＯ附近の高透磁率材料であれば何でもよい
が、代表的なものとしては周知のｐｅ−８ｉ合金、Ｆｅ
−Ａｔ−ｆ３ｉ合金（センダスト系合金）、Ｎｒ−Ｆｅ
合金（パーマロイ系合金）および各種の高透磁率非晶質
合金等を挙げることができる。また、例えばＳ　ｊ　０
２　、　Ａｌ２Ｏ５のような非磁性体からなる厚さ３０
人〜５００人の非磁性（１１） 体層と前記高飽和磁束密度磁性体層とを交互に積層した
磁性体でもよい。壕だ、異種類の磁性体を中間層として
積層してもよい。前記保護基板は非磁性材料で前記磁性
体より耐摩耗性のある材料であれば何でもよいが、磁性
体との熱膨張係数の近いもの、耐熱性等によって選ばれ
、代表的なものとしては非磁性フェライト（例えば、Ｚ
ｎＯ・Ｆｅ２０３）、セラミック（例えば、チタン酸バ
リウム、フオトセラム、Ａ　ｌｘ　Ｏｓ等）、ガラス等
が挙けられる。作動ギャップ形成材は０．１〜０．５μ
ｍ程度のｓｉｏ、。

Ａ＾０３．ガラス等の非磁性材料が用いられる。

〔発明の実施例〕

以下実施例によって磁気ヘッド構造の特徴およびその製
造方法を詳細に説明する。

第５図は本発明の第１の実施例の磁気ヘッドの構造を示
す斜視図である。３０．３１は磁気へラドコアとなる金
属磁性体膜である。該磁性体膜は一方の保護基板３２に
形成された溝内に形成される。３３はもう一方の保護基
板であり、両保護基板のほぼ中心部に磁性体膜が配置さ
れる。３４は（１２） 磁気ヘッドの作動ギャップである。磁性体膜３０は一方
のコア半休で作動ギャップ３４を形成した稜、もう一方
の磁性体膜３１が形成されて磁気回路を構成する。３５
はコイル巻線用窓である。該コイル巻線用窓は保護基板
３２．３３に磁性体膜を形成する前に設けてもよく、最
後に設けてもよい。

第６図は作動ギャップ３４および３４′が互いに逆方向
の傾斜を有するように２個の磁気へラドコアを保護基板
３２に隣接して設けられた溝に形成し一体化した構造を
有する。２個の磁気コアは磁性体膜３０．３０’が同時
に形成され、互いに逆向きの傾斜面に作動ギャップ３４
および３４′を形成した稜磁性体膜３１．３１’が形成
されて、それぞれ磁気回路を構成する。３５．３５’は
２個の磁気へラドコアのコイル巻線用窓である。第７図
、第８図、第９図は第６図に示す磁気ヘッド斜視図の記
録媒体対向面平面図を示す。第７図は保護基板３２に同
じ深さの溝を形成し、２個の磁気へラドコアのトラック
幅ｔを同一にした構造を（１３） 示す。

第８図は一方の磁気へラドコアを形成する溝の深さをか
え同一保護基板３２に異なるトラック幅ｔおよびｔ′の
磁気ヘッドコアを形成した構造を示す。第９図は２個の
磁気へラドコアを同一保護基板の溝内に並列に形成して
なる磁気ヘッドにおいて、作動ギャップが同一方向に傾
斜して形成された構造を示す。それぞれに付記した符号
は第６図と同一である。

以下本発明の前記磁気ヘッドの種々の製造方法を実施例
によって詳細に説明する。

本発明の第１の製造方法の各工程の説明図を第１０図（
イ）〜（イ）に示す。

Ｉ）、第１０図（イ）は非磁性材料よりなる保護基板４
０を用意する。実際の製造工程では複数の磁気へラドコ
アが製造できる大きな保護基板とするが、ここでは、１
個の磁気ヘッドコアを形成する保護基板について示す。

第１０図（イ）において、幅ａはコア幅方向、長さｂは
コア高さ方向、厚みＣはコア厚み方向を示す。なお、ｃ
、ａ面は媒体対向面（１４） としである。上面４１は鏡面研摩しておくとよい。

（以下、第１０図（イ）、第１０図（ロ）等に対応する
工程を工程（イ）、工程（ロ）等とする。）１１）、工
程（ロ）は前記（イ）の保護基板４０に第１の溝４２を
形成する工程である。該第１の溝は深さを規定のトラッ
ク幅程度とし、若干深くしておく、例えば２８μｍのト
ラック幅を形成する場合３０〜３５μｍとするとよい。

幅は少なくともコア半休幅よ如広くしておく、例えばコ
ア幅を３鰭とする場合、１．７〜２鰭にすればよい。

１１１）、工程（ハ）は前記形成溝４２に磁性体を充填
する工程である。磁性体４３はスパッタリングによって
前記第１の溝４２が埋まる程度に被着した。なお、磁性
体は溝の深さを全部埋める必要はなくトラック幅の厚み
だけ被着してもよい。

１ｖ）、工程に）は溝以外の面に被着された余分な磁性
体を除去する工程である。例えば、磁性体をトラック幅
となる厚みだけ残して保護基板面４１が表われるまで研
削あるいは研摩を行なう。このようにすることによって
一方の磁気コア半体４３が第（１５） １の溝の中に形成される。

■）、工程（ホ）は工程ＩＶＩを終了した保護基板にも
う一方の磁気コア半休を形成するための第２の溝４５を
形成する工程である。該第２の溝は少なくともすでに形
成された前記一方の磁気コア半休となる磁性体で第２の
溝の側面が形成されるようにする。

第２の溝４５の幅はコア幅を、例えば３闘とした時前記
磁気コアの半体の幅１．．５　ｍを残して隣に幅１．５
■、溝の深さ３０へ３５μｍの第２の溝を形成した。こ
の時少なくとも一方の磁性体側の側面の傾斜角θは磁気
ヘッドのアジマス角θに和尚する角度とする。次に、作
動ギャップ形成する非磁性体膜を傾斜面を含む全面に被
着する。溝の加工は磁性体膜側の側面作動ギャップ形成
面とするために、≠４０００以上のダイヤモンド砥粒か
らなるレジンボンドもしくはメタルボンド砥石が用いら
れる。

ｖｌ）、工程（へ）は前記第２の溝４５にもう一方の磁
気コア半休となる磁性体４４を被着する工程である。

■１１）、工程（ト）は前記磁性体４４の余分の部分を
除去（１６） する工程である。除去法は研削あるいは研摩によって保
護基板面４１および一方の磁性体面４３が表われるまで
行なわれる。このようにしてトラック幅ｔの磁性体部が
形成され、作動ギャップ４６が接合せずに形成される。

したがって、精度のよい狭ギャップが容易に得られる。

ｖｉ＋＋　＞、工程（イ）は必要に応じて他の保護材４
７を設ける工程であり、コイル巻線用窓４８を設ける工
程である。保護材４７が非磁性のバルク材なら、表面に
ガラス膜を形成して加熱、加圧しながら接合される。こ
の場合、磁性体と保護材が接合されにくい材料であって
も、保護材４０と４７で接合部を形成できるので接合強
度を高めることができる。

また、薄膜形成技術によって堆積してもよい。

コイル巻線用窓は超音波加工によって形成することがで
きる。ただし、この工程は工程（イ）においてあらかじ
めコイル巻線用窓を形成した保護基板を用いてもよい。

このようにして得られた磁気へラドコアは第５図に示し
た構造となる。

本発明の第２の製造方法の各工程の説明図を第（１７） １１図（イ）〜（ヌ）に示す。基本的な製造方法は前記
第１０図と同じである。特に異なる部分は同一保護基板
に作動ギャップの傾斜方向が逆向きの２個の磁気へラド
コアを隣接して並列に形成するところにある。

■）工程（イ）は保護材、例えば非磁性体からなる保護
基板４０を形成する工程である。該保護基板は少なくと
も２個の磁気へラドコア（主コアと補助コア）が形成で
きる大きさとする。上面４１は平坦性の良い鏡面研摩さ
れていると後工程が容易である。この工程で２個の磁気
へラドコアが形成されるギャップ形成部分にあらかじめ
コイル巻線用の窓を形成しておくことができる（図中の
点線部、４９．４９’　）。

■）工程（ロ）は一方の磁気コア半休を形成するための
第１の溝４２．４２’を形成する工程である。

該第１の溝４２．４２’は共に保護基板の中央寄りに形
成される。中央部に残される保護基板の突出部５００幅
は０．０５〜０．１　ｔｍ程度とする。これは２個磁気
へラドコアの配置距離によっても異な（１８） るが、突出部５００幅を広くすると、２個の磁気へラド
コアの作動ギャップの距離を近づけなければならない場
合、保陣基板の中央部側に形成される磁気コア半休の幅
を細くしなければならなくなり、ヘッド効率を低減させ
ることになる。

劃　工程（ハ）は前記工程■）で形成された第１の溝４
２．４２’に磁性体４３を充填する工程である。

■）工程に）は前記工程側で充填された磁性体のうち余
分な部分を除去する工程である。ここで前記磁性体は４
３．４３’に分離される。

■）工程（ホ）は前記磁性体４３．４３’の両側部に所
要の間隔ｔを残して互いに逆向きの傾斜面θ。

θ′を有する第２の溝４５．４５’を形成する工程であ
る。溝の深さは少なくとも前記第１の溝４２．４２’と
同等もしくは若干深くしておく。

■）工程（へ）は、前記工程■）で形成された基板の磁
性体４３．４３’の少なくとも前記傾斜面に所要の厚さ
の非磁性材料５１を形成してギャップ規制膜とする工程
である。

■）工程（ト）は、前記工程■）を終了した彼、前記第
（１９） ２の溝４５，４．５’にもう一方の磁性体４４を充填ス
る工程である。このようにして、一方の磁気へラドコア
部は磁性体４３と４４が作動ギャップとなる非磁性膜４
６を中間に介す構造となり、同様にしてもう一方の磁気
ヘッドコア部は磁性体４３′と４４が非磁性膜４６を中
間に介す構造となる。

■）工程（イ）は前記工程（ト）で得られた基板の表面
の余分な磁性体を除去しトラック幅ｔおよびｔ′を形成
する工程である。該工程において磁性体の除去は研削あ
るいは研摩によって行なわれ、保護基板の表面が現われ
るまで行なうことによって、磁性体膜４４が４４．４４
’に分離され、２個の磁気へラドコアが保護基板４０の
溝内に形成される。

このとき作動ギャップは４６．４６’　となり、互いに
逆向きの傾斜面θ、θ′を有するダブルアジマスヘッド
となる。

■）工程（す）はコイル巻線溝４８．４８’を設ける工
程である。また、工程昨）は上部保護基板４７をガラス
あるいは樹脂等で接合後コイル巻線溝４８゜（２０） ４８′を設ける工程である。加工は超音波加工機によっ
て行なわれる。なお、工程（イ）であらかじめコイル巻
線溝を設けておけば工程（ＩＪ）、　（、りは省略する
ことができる。本発明によって得られる磁気ヘッドは第
６図にその斜視図を示す。詳細には第７図、第８図に記
録媒体対向面を示すような形状となる。すなわち、第７
図は２個の磁気へラドコアのトラック幅ｔが同一とした
ものであｐ、第８図は２個の磁気ヘッドコアのトラック
幅をｔおよびｔ′と異ならしめたものである。

次に本発明の他の実施例における磁気ヘッドの製造工程
を第１２図（イ）〜に）に示す。本発明は同一保護基板
に同一方向のアジマスを有する２個の磁気コアを並列に
形成した磁気ヘッドを示す。

工程（イ）において第１の溝を形成する工程で溝の形成
順序をかえることによって達成される。例えば第１１図
に対応して説明すると、第１の溝４２は一方の磁気コア
の内側の磁気コア半休を形成する溝であり、溝４５′は
もう一方の磁気コアの外側の磁気コア半休を形成するた
めの溝となる。

（２１） 工程（ロ）において磁性体４３．４４’を充填し、研削
、研摩を行なう工程である。

工程（ハ）は第２の溝４５．４２’を形成する工程で６
る。溝４５．４２’は少なくとも磁性体側の側面が所要
のアジマスだけ傾斜面を持つように形成する。溝４５は
一方の磁気コアの外側の磁気コア半休を形成するための
溝であり、溝４２′はもう一方の磁気コアの内側の磁気
コア半休を形成するだめの溝である。このように加工さ
れた保護基板の上面に非磁性ギャップ材を形成する。

工程に）は前記第２の溝４５．４２’に磁性体を充填し
、余分の磁性体を除去することによって所要のトラック
幅ｔを得る工程である。このようにして作動ギャップ４
６．４６’が同一方向のアジマス有する磁気ヘッド素子
を得ることができる。

以下前記第１１図（ＩＪ）およびい）の工程によって磁
気へラドコアを得る。

なお、本発明の溝加工法は他にイオンエツチング、化学
エツチング等の薄膜加工技術を用いても可能である。

（２２） 〔発明の効果〕 上述した本発明によれば、 （１）　　スローモーション、フィールドメチルモーシ
ョン等の多機能Ｖ　Ｔ　Ｒ，適した磁気ヘッドである、
（２）保護基板の溝内に磁気ヘッドの主磁路形成面が埋
め込まれた構造となっているため磁性体膜のはく離、接
着不良等の問題がなく機械的強度の高い磁気ヘッドであ
る、 （３）磁気コア素子部が薄膜形成技術によって形成され
、作動ギャップを形成するための接合技術を不用とする
ため狭ギヤツプ形成精度が高い等構造的利点があり優れ
たヘッド性能が得られる。

（４）保護基板に溝を形成し、該溝を利用して磁気ヘッ
ドを製造することにより、一体型磁気ヘッド構造で、１
）、任意のダブルアジマスヘッドが得られる。１１）、
トラック幅を任意にかえることができる。１１１）、２
種類のトラック幅の磁気ヘッドが得られる等の大きな利
点があり、その製造も容易である。

【図面の簡単な説明】

（２３） 第１図、第２図はダブルアジマス付ＶＴＲの説明図、第
３図は従来の磁気ヘッドの構造を示す斜視図、第４図は
第３図の磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図、第５図は
本発明の磁気ヘッドの一例を示すコア斜視図、第６図、
第７図、第８図、第９図は本発明の他の一例を示す磁気
へラドコアの斜視図およびテープ対接面平面図、第１０
図（イ）〜（イ）は本発明の磁気ヘッド製造工程を説明
するための斜視図、第１１図（イ）〜←）は本発明の他
の磁気ヘッド製造工程を説明するだめの斜視図、第１２
図（イ）〜に）は本発明の磁気ヘッド製造工程を説明す
るための斜視図である。 ３０．３０’　、３１．３１’・・・磁性体、３２．３
３・・・保護材、３４．３４’・・・作動ギャップ、３
５゜３５′・・・コイル巻線用窓、ｔ、ｔ’・・・トラ
ック幅、４０・・・保護基板、４３．４３’　、４４．
４４’・・・磁性体、４２．４２’・・・第１の溝、４
．５．４５’・・・第２の溝、４６．４６’・・・作動
ギャップ、θ。 θ′・・・アジマス角、ｔ・・・２個の磁気ヘッドの作
動ギャップ間隔。 （２４） ８５ 第１頁の続き ０発　明　者　斉藤法利 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発　明　者　工藤實弘 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ＝８８−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁性体の膜厚をトラック幅とし磁気コアの形状を有
   する磁性体の主磁路形成面が保護基板の溝内に形成され
   てなることを特徴とする磁気ヘッド。 ２、保護基板に隣接して設けられた溝に磁性体膜で形成
   され、作動ギャップが互いに逆方向の傾斜を有するよう
   に２個の磁気へラドコアを並列に一体化してなることを
   特徴とする磁気ヘッド。 ３、前記作動ギャップが互いに同一方向の傾斜を有する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気ヘッ
   ド。 ４、前記２個の磁気へラドコアのトラック幅を互に異な
   らしめたことを特徴とする特許請求の範囲第２項もしく
   は第３項記載の磁気ヘッド。 ５．１）、保護基板の上面に第１の溝を形成する工程、
   ：１）、前記第１の溝に磁性体を充填する工程、＋＋＋
   ＋、前記磁性体の余分の部分を除去する工程、ＩＶ）、
   前記磁性体の側部に少なくとも該磁性体の側部に所要ア
   ジマス角だけ傾斜した側面を有する第２の溝を形成する
   工程、■）、前記績２の溝の少なくとも磁性体側面に所
   要の作動ギャップを形成するだめの非磁性膜を形成する
   工程、ｖＤ、前記第２の溝に前記非磁性膜を介して磁性
   体を充填する工程、ｖｌｌ）、前記磁性体の余分の部分
   を除去し、所要のトラック幅を形成する工程、Ｖ＋＋１
   ＋、コイル巻線用窓を形成する工程をそれぞれ具備する
   ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 ６、Ｉ）、非磁性基板の上面に中央部に突出部を残して
   隣接した２個の第１の溝を形成する工程、■）、前記第
   １の溝に磁性体を充填する工程、■）、前記磁性体の余
   部の部分を除去する工程、■）、前記それぞれの磁性体
   の一方の側部に少なくとも該磁性体の側部に所要のアジ
   マス角だけ傾斜した側面を有し、２個の傾斜部間隔が所
   要の距離を設けて第２の溝を形成する工程、■）、前記
   第２の少なくとも磁性体側面に所要の作動ギャップを形
   成するだめの非磁性膜を形成する工程、■）前記第２の
   溝に前記非磁性膜を介して磁性体を充填する工程、■）
   、前記磁性体の余分の部分を除去し、所要のトラック幅
   を形成する工程、■）、コイル巻線用窓を形成する工程
   をそれぞれ具備することを特徴とする磁気ヘッドの製造
   方法。