JPS63108510A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS63108510A JPS63108510A JP25616286A JP25616286A JPS63108510A JP S63108510 A JPS63108510 A JP S63108510A JP 25616286 A JP25616286 A JP 25616286A JP 25616286 A JP25616286 A JP 25616286A JP S63108510 A JPS63108510 A JP S63108510A
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- flux density
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は磁気ヘッドに関し、特にコアのギャップ突き
合わせ面に高飽和磁束密度材料を成膜させる、いわゆる
高抗磁力媒体対応ヘッドに関するものである。
合わせ面に高飽和磁束密度材料を成膜させる、いわゆる
高抗磁力媒体対応ヘッドに関するものである。
従来の技術
最近ＶＴＲ用の磁気ヘッドは、例えば８−＋ｇ Ｖ Ｔ
Ｒ等の出現に象徴されるように、高抗磁力のメタルテー
プ等の媒体に対応し得る、高飽和磁束密度のコアを用い
るものが普及し始めている。この種磁気ヘッドは、高密
度記録に供いトラック幅を狭（することが必要である。
Ｒ等の出現に象徴されるように、高抗磁力のメタルテー
プ等の媒体に対応し得る、高飽和磁束密度のコアを用い
るものが普及し始めている。この種磁気ヘッドは、高密
度記録に供いトラック幅を狭（することが必要である。
そこで特開昭６０−１８２５０７号公報に、従来技術と
して紹介されている第７図に示すようなものがある。す
なわち、この磁気ヘッドは、コア半体１，２を強磁性体
のＭｎ −Ｚｎフェライト等とし、磁気ギャップｇの形
成面側に突き出たフェライトの突起部３．４の両側面に
、センダスト合金等の強磁性体金属薄膜５，６を被着形
成させ、ギャップｇ及び突起部分を埋設ガラス７．８に
て保護するものである。
して紹介されている第７図に示すようなものがある。す
なわち、この磁気ヘッドは、コア半体１，２を強磁性体
のＭｎ −Ｚｎフェライト等とし、磁気ギャップｇの形
成面側に突き出たフェライトの突起部３．４の両側面に
、センダスト合金等の強磁性体金属薄膜５，６を被着形
成させ、ギャップｇ及び突起部分を埋設ガラス７．８に
て保護するものである。
ところが上記第７図に示した磁気ヘッドは、ギャップ形
成面の研磨時に、研磨しすぎると強磁性体金属薄膜が摩
滅してしまう問題がある。また逆に研磨不足であれば、
当然トラック幅が広くなりすぎることになる。そこでご
く最近上述の特開昭［１Ｏ−１８２５０７号公報等では
、第８図に示すように、コアのテープ摺接頂面部をフェ
ライ）９．１０で形成し、磁気ギャップｇを形成する而
と、強磁性体金属薄膜５，６の形成面９．ｌＯとが斜交
する構造とし、上記の問題解決を図っている。
成面の研磨時に、研磨しすぎると強磁性体金属薄膜が摩
滅してしまう問題がある。また逆に研磨不足であれば、
当然トラック幅が広くなりすぎることになる。そこでご
く最近上述の特開昭［１Ｏ−１８２５０７号公報等では
、第８図に示すように、コアのテープ摺接頂面部をフェ
ライ）９．１０で形成し、磁気ギャップｇを形成する而
と、強磁性体金属薄膜５，６の形成面９．ｌＯとが斜交
する構造とし、上記の問題解決を図っている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、第８図に示した磁気ヘッドは、センダス
ト合金等の金属薄膜５．６を、ギャップ形成面と斜交す
るようにコア加工して突き合わせする技術が困難であり
、しかも非常に厚い金属薄膜５，６を形成する必要があ
り、製作上解決すべき問題が残されている。ところが第
７図の磁気ヘッドに戻すと、依然として金属薄膜摩滅や
トラック幅が広くなりすぎる問題が未解決となる矛盾が
あった。この発明はこの矛盾を解消させるために提案す
るものである。
ト合金等の金属薄膜５．６を、ギャップ形成面と斜交す
るようにコア加工して突き合わせする技術が困難であり
、しかも非常に厚い金属薄膜５，６を形成する必要があ
り、製作上解決すべき問題が残されている。ところが第
７図の磁気ヘッドに戻すと、依然として金属薄膜摩滅や
トラック幅が広くなりすぎる問題が未解決となる矛盾が
あった。この発明はこの矛盾を解消させるために提案す
るものである。
問題点を解決するための手段
この発明は、コアの突き合わせ面に高飽和磁束密度材料
を付着させて、さらにギャップスペーサ膜を介して突き
合わせ磁気ギャップを形成するものにおいて、高飽和磁
束密度材料付着箇所を、最低記録波長よりも大きな高低
差の粗面とすることにより、高飽和磁束密度材料層を磁
気ギャップ形成面と斜交させなくてもよい構造に設定で
きるようにする技術である。
を付着させて、さらにギャップスペーサ膜を介して突き
合わせ磁気ギャップを形成するものにおいて、高飽和磁
束密度材料付着箇所を、最低記録波長よりも大きな高低
差の粗面とすることにより、高飽和磁束密度材料層を磁
気ギャップ形成面と斜交させなくてもよい構造に設定で
きるようにする技術である。
作用
この発明では、コアの高飽和磁束密度材料を付着させる
付着箇所を粗面に形成するので、高飽和磁束密度材料の
薄膜のコアに付着する強度が増し、磁気ギャップ形成面
研磨時に薄膜が剥がれるのを防止することができる。し
かも磁気ギャップ形成面に対して、付着箇所が粗面とな
るので、両者は、非平行状態に設定されることになり、
付着箇所と薄膜との付着界面が疑似ギャップを形成しな
いので、いわゆる形状効果による特性低下が防止できる
。
付着箇所を粗面に形成するので、高飽和磁束密度材料の
薄膜のコアに付着する強度が増し、磁気ギャップ形成面
研磨時に薄膜が剥がれるのを防止することができる。し
かも磁気ギャップ形成面に対して、付着箇所が粗面とな
るので、両者は、非平行状態に設定されることになり、
付着箇所と薄膜との付着界面が疑似ギャップを形成しな
いので、いわゆる形状効果による特性低下が防止できる
。
実施例
第１図〜第６図は、この発明の一実施例を示す磁気ヘッ
ドの製造ご殊を示すコアブロック又は磁気へラドコアの
斜視図又は平面図である。以下上記図面を参照しなから
一実施例を説明する。まずＭｎ −Ｚｎの単結晶フェラ
イトコアブロック１１．１２を一対準備し、第２図に示
すように従来通りに、巻線係止用外溝１３．１４、巻線
挿通兼閉磁路形成窓用の溝１５、接着ガラス溜め溝五６
、トラック溝１７，１７゜・・・を切削形成しておく。
ドの製造ご殊を示すコアブロック又は磁気へラドコアの
斜視図又は平面図である。以下上記図面を参照しなから
一実施例を説明する。まずＭｎ −Ｚｎの単結晶フェラ
イトコアブロック１１．１２を一対準備し、第２図に示
すように従来通りに、巻線係止用外溝１３．１４、巻線
挿通兼閉磁路形成窓用の溝１５、接着ガラス溜め溝五６
、トラック溝１７，１７゜・・・を切削形成しておく。
つぎに第３図の通りトラック溝１７，１７．・・・に低
融点ガラス１８．１８．・・・を、接着ガラス溜め溝１
６に低融点ガラス１９をモールドし、突き合わせ面上の
土偶部分に位置する磁気ギャップ形成予定部分２０．２
１は、燐酸エツチングを行って、円Ａ部を拡大して示す
第４図のように、最低記録波長λｅよりも大きな振幅ａ
の波形状粗面Ｓを作り、他は鏡面研磨仕上げする。尚、
コアブロックＩ２の磁気ギャップ形成予定部分は図示省
略しているが、第３図と全く同様にして粗面Ｓを形成す
る。その後粗面Ｓ上には、第５図に示すように、Ｆｅ、
Ｓｉ、Ａｌ１を８５％、９．６％、５．４％（ｗｔ％）
の組成とする飽和磁束密度が約１００ＱＱＧａｕｓｓの
センダスト薄膜２２を５μｍ以上の厚さにスパッタリン
グ付着させ、さらに磁気ギャップｇのスペーサとなるＳ
ｉＯ２Ｂ ２３を約ＩｏｏｏＡ積層形成する。それか
ら第６図に示すようにコアブロック１１．１２を突き合
わせしてガラス１８，１８．・・・及びＩ９を加熱によ
り溶着して一体化し、頂頭部を一点鎖線２４で示すよう
に曲面研磨して、細線２５，２５．・・・に沿ってスラ
イスすると、第１図に平面図示するような磁気ヘッドコ
ア２６が得られる。
融点ガラス１８．１８．・・・を、接着ガラス溜め溝１
６に低融点ガラス１９をモールドし、突き合わせ面上の
土偶部分に位置する磁気ギャップ形成予定部分２０．２
１は、燐酸エツチングを行って、円Ａ部を拡大して示す
第４図のように、最低記録波長λｅよりも大きな振幅ａ
の波形状粗面Ｓを作り、他は鏡面研磨仕上げする。尚、
コアブロックＩ２の磁気ギャップ形成予定部分は図示省
略しているが、第３図と全く同様にして粗面Ｓを形成す
る。その後粗面Ｓ上には、第５図に示すように、Ｆｅ、
Ｓｉ、Ａｌ１を８５％、９．６％、５．４％（ｗｔ％）
の組成とする飽和磁束密度が約１００ＱＱＧａｕｓｓの
センダスト薄膜２２を５μｍ以上の厚さにスパッタリン
グ付着させ、さらに磁気ギャップｇのスペーサとなるＳ
ｉＯ２Ｂ ２３を約ＩｏｏｏＡ積層形成する。それか
ら第６図に示すようにコアブロック１１．１２を突き合
わせしてガラス１８，１８．・・・及びＩ９を加熱によ
り溶着して一体化し、頂頭部を一点鎖線２４で示すよう
に曲面研磨して、細線２５，２５．・・・に沿ってスラ
イスすると、第１図に平面図示するような磁気ヘッドコ
ア２６が得られる。
尚上記実施例では、高飽和磁束密度材料としてセンダス
ト合金を示したが、この発明ではその他例えばＦｅ−Ｓ
ｉ合金やＦｅ−旧、Ｆｅ−Ｇｏ等の合金或いは単体金属
としてもよく、又コアの高飽和磁束密度材料付着箇所を
粗面とする場合、酸類によるウェットエツチングに限ら
ず、Ａ文２０３砥粒等によるサンドブラスト等の加工処
理を施しても勿論さしつかえない。
ト合金を示したが、この発明ではその他例えばＦｅ−Ｓ
ｉ合金やＦｅ−旧、Ｆｅ−Ｇｏ等の合金或いは単体金属
としてもよく、又コアの高飽和磁束密度材料付着箇所を
粗面とする場合、酸類によるウェットエツチングに限ら
ず、Ａ文２０３砥粒等によるサンドブラスト等の加工処
理を施しても勿論さしつかえない。
発明の効果
この発明を実施すると、ギャップ形成面研磨時の高飽和
磁束密度材料薄膜剥がれによる磁気ギャップ不良が無く
なり、しかも疑似ギャップ形成も阻止されるので、高周
波特性や再生出力低下等も改善され、量産性向上、信頼
性向上が実現する。
磁束密度材料薄膜剥がれによる磁気ギャップ不良が無く
なり、しかも疑似ギャップ形成も阻止されるので、高周
波特性や再生出力低下等も改善され、量産性向上、信頼
性向上が実現する。
さらに、コアの製作作業は、従来のＶＴＲ用磁気ヘッド
と大差な（、実用性も大である。
と大差な（、実用性も大である。
第１図〜第６図は、この発明の一実施例を示す磁気ヘッ
ドの製造工程を示すコアブロック又は磁気へラドコアの
斜視図又は平面図である。第７図及び第８図は、従来の
高飽和磁束密度材料付着磁気ヘッドコアの要部平面図で
ある。 １１、 １２・・・コア（ブロック）、２２・・・高飽
和磁束密度材料、 ｇ・・・磁気ギャップ、 Ｓ・・・粗面。
ドの製造工程を示すコアブロック又は磁気へラドコアの
斜視図又は平面図である。第７図及び第８図は、従来の
高飽和磁束密度材料付着磁気ヘッドコアの要部平面図で
ある。 １１、 １２・・・コア（ブロック）、２２・・・高飽
和磁束密度材料、 ｇ・・・磁気ギャップ、 Ｓ・・・粗面。
Claims (1)
- コアの突き合わせ面に高飽和磁束密度材料を付着させて
、さらにギャップスペーサ膜を介して突き合わせ磁気ギ
ャップを形成するものにおいて、上記高飽和磁束密度材
料付着箇所を、最低記録波長よりも大きな高低差の粗面
に形成することを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25616286A JPS63108510A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25616286A JPS63108510A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63108510A true JPS63108510A (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=17288766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25616286A Pending JPS63108510A (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63108510A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183407A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁器ヘッド及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-10-27 JP JP25616286A patent/JPS63108510A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183407A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁器ヘッド及びその製造方法 |
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