JPS6314306A - 磁気デイスク装置用浮上型磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置に係わり、特に性能および信
頼性に優れた浮上型磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

磁気ディスク装置での情報の省き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えばＵＳＰ−３８２３４１
６，特公昭５７−５６９号に示されている様な浮上型磁
気ヘッドが多く使用されている。

この浮上型磁気ヘッドにおいてはスライダーの後端部に
磁気変換ギャップを設は全体は高透磁率の酸化物磁性材
料で構成されている。浮上型磁気ヘッドは、磁気ディス
クが静止している時にはスプリングの力で軽く磁気ディ
スクに接触している。

また磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク
表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作
用する。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディ
スクから離れている。一方磁気ディスクの回転を開始す
る時および止める時には、磁気ヘッドは磁気ディスク上
を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時の接触の状
況を説明すると、回転数を落してきた時にその表面の空
気の流れも次第に遅くなる０そして磁気ヘッドの浮上が
失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝突すると共にそ
の反動でとび上り、またディスク面に落る。この様な運
動を何度か繰シ返した上で、磁気ヘッドはディスク上を
引きずられる様にして停止する。この様な起動、停止時
の衝撃に磁気ヘッドは耐える必要があり、その性能をＣ
３Ｓ性（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏｐ　）と
呼ぶことが多い。この高透磁率酸化物磁性材料であるフ
ェライトで構成された浮上型磁気ヘッドは比較的良好な
耐Ｃ８Ｓ性を示すが飽和磁束密度が小さく、高保磁力の
ディスクに対して充分に記録出来ないという欠点がある
。

すなわち比較的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−Ｚｎフェ
ライトでもＢｓは高々５，５００〜６，０００Ｇ程度で
あシ、Ｂｓ〉８，０ＯＯＧの得られる金属磁性膜を磁気
ギャップ部に配置したものの方が望ましい。

この−例・とじて特開昭５８−１４３１１号に開示され
た様に、フェライトで構成される浮上型磁気ヘッドの磁
気変換ギャップ部のみに高Ｂｓの金属磁性膜を設けた磁
気ヘッドが提案されている。しかしこの例では磁気変換
部に所定の巻線を施した後のインダクタンスが大きく、
そのため共振周波数が低下し高周波での記録再生が不安
定となる欠点がある。この場合インダクタンスの大きい
ことは磁気ヘッド全体が磁性材で構成きれていることに
基くものであることから、低インダクタンスとするため
には磁気回路を小さく構成する必要があり、かかる構成
として磁気コアを非磁性スライダー中に埋設固着した浮
上型磁気ヘッドが米国特許３５６２４４４号に一例とし
て開示されている。また発明者等は特願昭６０−４００
５５号にて磁気コアを非磁性スライダー中に埋設した磁
気ヘッドのさらに望ましい形状について提案した。以上
の点から高保磁力のディスクに対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型磁気ヘッドを得るに
はギャップ部に高Ｂｓの薄膜磁性材を成膜した磁気コア
を非磁性スライダー中に埋設したものが優れており、発
明者等により特開昭６０−１５４１３０号に開示されて
いる。さらに埋設されるべき磁気コアのギャップ部の構
造としてＸ型に斜交したものを特願昭６０−４００６３
号に提案した。しかしながらこのＸ型構造では後に詳述
する様に再生出力が低いという問題点がある。発明者は
この再生出力が低い原因について棟々検討の結果後に詳
述する様にガラスボンディング時に高Ｂｓａｌｌ性膜に
著しい歪を生じ特性が劣化していることに起因すること
が判明した。このため高Ｂｓ磁性膜に生じる内部応力を
緩和するには膜厚を薄くすることで解決出来るが、ギャ
ップ部の構造として特願昭６０−４００６３号に提案し
た構造ではトラック幅と膜厚を任意に独立して選定する
ことが出来ない。従って定められたトラック幅を得るに
はある程度膜厚を厚くしておかねばならないという制約
がある。かかる欠点を解消するギャップ部の構造として
は特開昭６１−３４７０７号明細中第１０図に示された
台形状の構造とする事により可能である。しかしながら
上記明細警笛１０図の構造では磁性膜とフェライト基板
の接合面が磁気ギャップと平行になっているのでいわゆ
る形状効果によ）再生出力の周波数特性にうねりを生じ
好ましぐない。従って磁気ディス、り用の好ましい磁気
ヘッドとして備えるべき１）高保磁力のディスクに対し
て充分な記録が可能で２）低いインダクタンスであり６
）高Ｂｓ磁性膜に極度の歪を生じず高再生出力を示し４
）耐Ｃ８Ｓ性に優れるという点を満すには、°特開昭６
０−１５４１３０号に開示された非磁性スライダー中に
磁スコアを埋設し耐ＣＳＳ性に優れ、インダクタンスを
小さくしかつ磁性膜に著しい応力を生じない様に膜厚を
薄く出来る構造でかつ形状効果を生じない様に構成する
必要があった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は前述した従来技術の欠点を解消し優れた
磁気ディスク用磁気ヘッドを提供することを特徴とする
特に形状効果を生じず耐Ｃ８Ｓ性を改良する事を目的と
する。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため本発明の構成は磁気ギャップ部
を台形状の構造としかつ形状効果を生じない様に高Ｂｓ
膜が成膜される、磁気ギャップと平行部の面粗さを適切
に選ぶことにより実質的に形状効果を生じない様にした
磁気コアを耐Ｃ８Ｓ性に優れた非磁性スライダー中に埋
設同着することを特徴とするものである。以下に実施例
を示し詳述する。

〔実施例〕

〔参考例１〕 磁気コアの構成としてはＭｎ　　Ｚｎ７エライト上に純
Ｆｅあるいはこれに適切な添加物を加えた薄膜を成膜し
たものが望しい。ＡＢｓｙＡを成膜すべき基板材として
は高熱膨張係数の非磁性材料がしばしば用いられる。か
かる高熱膨張係数の非磁性材料としては米国特許４５４
０６３８号に開示されたＭｎ０−Ｎｉ０系セラミツクが
適している。このＭｎＯ：　Ｎｉ０＝５０：５０ｍｏｔ
％で熱膨張係数１３０　Ｘ　１０−７ｄｅｇ−’の基板
およびＢ＋ｏ＝５０００Ｇ　、２．５ＭＨｚの透磁率１
４００のＭｎ　−Ｚｎフェライト基板上に純Ｆｅ膜を成
膜した磁気ヘッドについて比較した。かかる磁気コアは
第７図に８略を示した工程により作製することが出来る
。すなわち第７図（ａ）の基板半対１（Ｉコア）を用意
する。該半対にはＷ形状の溝２をダイシング機で加工す
る。さらに（ｂ）図で同様にもう一方の半対（Ｃコア）
３に溝４を加工する。この後（ａ）図のＩコア半対５上
に純Ｆｅ膜６をスパッタにて成膜する。さらに中間絶縁
膜として５ｉ（ｈ腓７を同様にスパッタにて成膜し次に
純Ｆｅ膜８を成膜した積層構造とした。純Ｆｅ膜として
は細度〉９９．９９９ｗｔ、　％　のものが耐食性に優
れており好ましい。またさらに耐食性を向上させるある
いは透磁率を大きくするためＲｈ　、Ｒｕ　ｒ　Ｎｉ　
＋　Ｍｏ　、Ａｔ、Ｃｒを１０原子チ以下の範囲で含有
させても良い。また中間絶縁層のＳｔ　Ｏｘ膜厚は０．
０２〜０．１μｍが充分に絶縁を維持出来かつ全体の膜
中に占めるＦｅ膜の割合を低下させなく好ましい。

次に５３Ｅ膜された基板９上にガラスを乗せ電気炉中で
加熱しガラス１０を溝内に流入充填する。打着１−いガ
ラスとしては後に述べるスライダー中への磁気コアの埋
設固着時にギャップ寸法の変化が生じない様な高軟化点
のガラスが望ましい。かかるガラスとしては軟化点５９
０℃、熱膨張係数９７Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−’が適し
ており、該物性を有するガラス組成としてはＰｂ０５５
．８　、５ｉＯｚ　５７．１．　Ｋ２Ｏ７，１重ｔ％が
ある０次にガラス１０を充填させたコア面を研削加工し
所定のトラック幅１１を得る。一方牛対のＣコアはＦｅ
膜を成膜せずＩコア（ｅ）図と同一のトラック幅となる
様加工を流した後に（ｆ）図に示すように両射のトラッ
クピッチを合せた後接合され切断し磁気コアを得る。こ
の様に作製した磁気コアの記録媒体対向面は（ロ））図
に示す様に■コア側基板１９およびＣコア側基板１８上
に成膜された純Ｆｅ膜１３．１５はＳｉ　Ｏｘ絶縁Ｎ１
４を介し斜めに斜交しその角度θは６０°である。ギャ
ップ長１６は任意に選ぶことが出来るがトラック幅１７
を所定の寸法（通常１０〜２０μｍ）にするには膜厚を
余υ薄く出来ない０すなわちエコア側基板１９の頂点部
は先端が鋭角なため膜厚を薄くすると頂点と磁気ギャッ
プ間でＦｅ膜が薄くなり磁気コアとしての役割を果さな
い。本参考例では１層尚りの膜厚を５μｍとし０．０５
μｍのＳｉ　０２絶縁層を介して８層積層した。ギャッ
プ長は０．８μｍとしトラック幅を１８μｍに加工した
磁気コアを得た。かかる磁気コアの概観を第８図に示す
。２０は非磁性Ｍｎ　０−Ｎｉ０あるいはＭｎ　−Ｚｎ
フェライト磁性基板（磁極）、２１はＦｅ　８層膜、２
２はガラスを示す。この様にして得られた磁気コアは第
９図に示すスライダー２６中に島けられたスリット中に
埋設され第２のガラスで固着され浮上型磁気ヘッドを得
Ｓ０凸ｆｆ１２４．２５は空気ベアリング面であり、デ
ィスクの回転に伴ない磁気ヘッドの浮上を司どる役割を
果している。スライダー材としてはＣａＴｉＯ３が機械
的特性に優り適している。ＣａＴｉＯ３の熱膨張係数は
１０５〜１１０Ｘ　ＩＦ７ｄｅｇ−’でありビッカース
硬度は８５０　ｋｇ／ｘｊである。このＣａＴｉＯ３ス
ライダー材を用い磁気コアを埋設固着する場合のガラス
と１−では熱膨張係数９１　Ｘ　１００−７ｄｅ”で軟
化点４４６℃程度のものを用い５４０℃でガラスを加熱
し流入させることによりガラス中にクラックを生じない
良好な磁気ヘッドが得られる。以上で得られた磁気ヘッ
ドの再生出力の記録電流特性を第６図に示す。試験条件
は保磁カフ０００ｅのＣｏ−Ｎｉスパッタディスクを用
い浮上量０．３μｍ、ディスクの回転数３６００　ｒｐ
ｍでコイルの巻数は２８ターン、周波数２　、５　ＭＨ
ｚである。曲線１は基板を上記Ｍｎ　−Ｚｎフェライト
とした場合であり、ｋｉｎｏ−ＮｉＯ非磁性酸化物を基
板とした場合の曲線２より大きな再生出力を示している
。従って使用すべき基板材料としてはＭｎ　−Ｚｎフェ
ライトの方が適しており本発明の徊成要件の一つである
。

〔参考例２〕 上記参考例１に述べたごとく基板材としてｉｄＭｎ−Ｚ
ｎフェライトの方が優れるが、一方ω気ギャップ部の構
造としては上記Ｘ型ではＦｅ膜のスパッタ時基板温度が
２００℃以上上昇し被着粒子の配列にやや乱れを生じこ
のため応力が著しく、磁気特性が損われる。磁気コアそ
のものは第８図に示した様に極めて小さく妙・つ複雑な
形状のためＦｅ膜に加わった応力を測定する事は困難で
あるが、基板材料に発生する結晶粒の脱落から応力の著
しい事が容易に推測される。参考例１と同様に作製した
磁気ヘッドで膜厚を変えた場合の結果を第１夛に示す。

磁気ヘッドの寸法はトラック幅１８μｍ、ギャップ長０
．８μｍ、ギャップ深さは８μｍ″？１″ある。

第１表 再生出力の試験条件は参考例１と用−ディスクを用い浮
上量０．３μｍ１回転数３６０Ｏｒｐｍでコイルの巻数
は２８ターンで周波数は２．５ＭＨｚである。

結晶粒の脱落は第８図に示した磁気コアを顕微鏡観察す
ることにより容易に知れる。第１０図に脱落の様子を示
したが図中黒点で示しだ箇所が脱落部でありＦｅ膜と接
する部分に脱落が認められる。

従って第１表に示した様に全体のＦｅ膜厚を２０μｍ以
下とすることによりガラスボンディング時に発生する応
力を小さく出来、再生出力は向上する。

第１衣に示されたごとくさらに膜厚を薄くすると脱落は
失くなりＦｅ膜への応力も一層緩和されるが、Ｘ型構造
では頂点部での膜厚が他のトランク部の膜厚より極度に
薄くなシかえって再生出力が低下するという問題を生じ
る。従って２０μｍ以下の膜厚でＦｅ膜に加わる応力を
減じることが出来るものの、ギャップ部の構造として従
来のＸ型構造以外のものへと変更する必要のあることが
容易に判る。

〔実施例１〕 本発明は＄気ギヤノブと平行である磁極を有する台形型
Ｍｎ　−Ｚｎフェライト基板上にＦｅ膜を成膜し、かつ
成膜される平行部の基板面粗さを形状効果を実質的に生
に、ない様にしたことを特徴とする。

本発明の台形型構造は第１図に示したギャップ部の構造
であり、Ｍｎ　−Ｚｎフェライト基板２８．２９は平行
部ろ０，６１を有しておりその両側は斜めに切除されて
いる。Ｆｅ膜３２．３３は該平行部３０．３１上および
両側の斜め部に成膜されるが、平行部のみに成膜しても
差し支えない。また左右一対のＣ２■コア両方に成膜し
ても良いしあるいはＣ，Ｉコアのみに成膜しても差し支
えない。かかる磁気コアは第２図に示した工程により容
易に作製することが出来る。該工程を概略説明すると以
下である。まずＷ形状の溝３９．４０を加工したｈ’Ｉ
ｎ　−Ｚｎフェライト基板３７．３８を用意する。次に
頂点部を（イ）−（ロ）の点線部屋研摩加工を施し所定
のトラック幅釦を得る。該加工基板４２上にＦｅ膜４１
を成膜する。成膜はＳｉ　０２を介し積層した多層１膜
あるいは単層膜いずれをも採用することが出来る。この
成膜された一対の基板長３．３９は所定のギャップ長Ｇ
ｔを得るため絶縁層をはさみ（図では省略）巻線窓部４
４に置かれたガラス棒４５を加熱流入させ一対の接合を
行なう。本実施例では熱膨張係数９７　Ｘ　１０”’−
’　ｄｅｇ−’　＋軟化点５９０℃のガラス棒を用い７
３０℃に加熱しボンディングを行なった。なおＦｅ膜を
成膜する前の平行部４３は通常実施されている様な完全
な鐘面加工とはせずに面粗さとして平均２００Ａとなる
様に加工した。かかる加工は研摩時の砥粒径、研摩テー
ブル、加圧力等条件を変え比較的容易に得ることが出来
る。また膜厚は一層当り５μｍのものを０．０５μｍの
Ｓｔ　０２層を介しＡＮｆｆｔ層した。純Ｆｅ膜のＢｓ
を測定したところ１９０００Ｇであった。該磁気コアを
第９図に示したＣａＴｉ０３（熱膨張係数１０８　Ｘ　
１０−７ｄｅｇ−’　）スライダー中に熱膨張係数９１
　Ｘ　１　Ｆ’　ｄｅｇ−’　ｒ軟化点４４６℃のガラ
スを用い５４０℃に加熱し埋設固着した。かくして得ら
れた磁気ヘッドのトラック幅は１７μｍ。

ギャップ長０．８μｍ、ギャップ深さは８μｍである。

該磁気ヘッドを参考例２のディスクを用い、参考例２と
同一試験条件で測定した場合の２．５ＭＨｚにおける再
生出力は０．８７ｍＶとＸ型構造で得られたよシ高い値
を示した。

〔実施例２〕 実施例１と同−Ｍｎ　−Ｚｎ　７　ｘライト基板を用い
、同−純Ｆｅ膜を５μｍで２層）り層した。この場合平
行部４３をその面粗さが異なる様に加工を施した。

該成膜基板は実流例１と同一ガラスで接合きれ、さらに
同−Ｃａ　Ｔｉ　０３スライダー中に同一ガラスで固着
した。該磁気ヘッドのギヤツブ部寸法も実施例１と同一
となる様加工しさらに同一条件で再生出力を測定した。

結果は第２表に示すごとく２．５ＭＨｚでの再生出力は
いずれもＸ型構造のものより高い値を示した。

第　　　２　　　表 しかしながら平行部の平均面粗さが４０Ｘの試料では明
像な形状効果が認められ再生出力の周波数特性にうねシ
を生じた。このうねり現象については本来の磁気ギャッ
プと平行なＭｎ　−ＺｎフェライトとＦｅ膜の接合部が
あると生じるとされており、この好しくない効果を避け
るため接合部を斜めにした構造が特開昭６１−３４７０
７．特開昭６０−２２９１０号等に開示されている。し
かしこれらの構造では磁気コア作製が困難であり、かつ
斜めの部位に成膜されたＦｅ膜の磁気特性は必ずしも良
好でないという欠点を生じる。第３図は第２表に示した
磁気ヘッドの再生出力の周波数特性を示したものであり
、曲線３は平行部の平均面粗さ３０久２曲線４は６ＯＡ
の平均面粗さの試料である。この様に３０久の平均面粗
さでは形状効果のため周波数特性にうねりを生じ好まし
く々い。２５０．５ｓｏｉの平均面粗さの試料について
は１３０Ｘと同様うねシは認められなかった。この様に
６０久以上に面粗さを粗くしておくとミクロに眺めると
本来の磁気ギャップと平行なＭｎ　−Ｚｎフェライトと
Ｆｅ膜の接合面が不平行となっており実質的に形状効果
を示さないものと考えられる。しかし余り面粗さを粗く
するとＦｅ膜の厚さの精度が悪くなり好ましくない。該
精度としては１０％以下の不均一が望ましいので平均面
粗さはＦｅ膜厚の１０％以下とする方が好ましい。

〔実施例３〕 本発明の様に磁気コアの接合および該コアをスライダー
中に埋設固着するため２種のガラスを用いる場合、埋設
固着の際両方のガラスの軟化点および熱膨張係数を適切
に選ばないと磁気コアのギャップが埋設固着時に変化し
たりあるいはガラスにクラックを生じたりする。本発明
の様にスライダーとしてＣａＴｉ０ｓ（熱膨張係数１０
５〜１１０×１０７ｄｅｇ”）かつ基板として熱膨張係
数１１０〜１１５　Ｘ　１０−７ｄｅｇ−’　Ｍｎ−Ｚ
ｎフェライトを用いる場合には、スライダーへの埋設固
着の際のガラスとしては熱膨張係数８５〜９５　Ｘ　１
０’−’　ｄｅｇ−’　＋軟化点４３０〜４６０℃のガ
ラスを５４０℃程度で用いることがガラスクラックのな
い固着を行なわしめるに適する事が知れている。しかし
ながらこのガラスを用いる場合磁気コアの接合に用いる
ガラスとしてどの程度の物性のものが好ましいかは明確
でなかった。第６表はスライダーへの埋設固着ガラスと
して熱膨張係数９２　Ｘ　１０−０−７ｄｅ’　、軟化
点４４５℃のガラスを用い５４０℃で固着した場合の結
果であり、磁気コアを得る場合の接合ガラスとして異な
る物性のものを用いている０ 第　　　６　　　表 第３表の結果から判る様に接合ガラスとして熱膨張係数
９７　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−’　＋軟化点５９０℃の
ガラスを用いることＫよりスライダーへの埋設固着時の
ギャップ長の変化もなくかつ接合ガラスにクラックを生
じることもない良好な磁気ヘッドを得ることが出来る。

接合ガラスの軟化点が低すき゛ると埋設固着時と接合ガ
ラスの粘性が低下しギャップ長が変化してしまう。また
接合ガラスの熱膨張係数が合致していないと接合ガラス
に犬さな応力がかが９クラツクを生じる。実施例では熱
、膨張係数９７Ｘ　１００−７ｄｅ　’　＋軟化点５９
０℃のものが良好であったが通常±５％の物性の変動は
許容される。

〔実施例４〕 磁気ディスク用の浮上型ヘッドはたえずディスクとの衝
突を繰り返すのでＣｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏ
ｐ時の信頼性がＭ要である。第４図はスライダー材につ
いてＣ８Ｓテストを行なった場合のディスクを破損に到
らしめる迄の回数とディスクの損傷度を示す。媒体は５
．２５インチのＣｏ−Ｎｉ磁性層のスパッタディスクを
用いた。表面には保護層としてカーボンを約３００Ｘス
パツタリングで形成しである。Ｃ８Ｓテストのサイクル
タイムは第５図に示す通りである。ディスクの損傷度は
第９囚の凸条すなわち空気ベアリング面全面に渡ってデ
ィスク面に傷が発生した場合を１０として評（ｉ！Ｉｌ
ｉ　した。

第４図中１は従来浮上型磁気ヘッドのスライダー材とし
て用いられているＡＬｚＣｈ　　ＴｉＣ，２は本発明の
ＣａＴｉＯ３スライダーを示す。この結果から本発明に
用いたＣａＴｉＯ３は１ｉｃｓｓ性に優れ高い信頼性を
有することが判る。

〔作用〕

以上詳述した様に本発明の磁気ディスク用浮上型迅気ヘ
ッドは高い再生出力を示し、形状効果による再生出力の
周波数特性でのうねりがなくかつＣ８Ｓ時の高い信頼性
を有する磁気ヘッドとして工業上利用価値が極めて太き
い。特にＣｏ　−Ｎｉスパッタディスク等の薄膜媒体を
用いた高記録密度用磁気ディスク装置に用いた場合高出
力、扁信頼性の磁気ヘッドとして有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドのギャップ部の構造を示す
概略図。 ２８　、２９　：　Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板３２．３
３：純Ｆｅ膜 ３０．３１　：基板の平行部 ３５ニドラック幅 第２図は第１図の磁気へンドを得るだめの製造工程概略
。第３図は本発明の磁気ヘッドにおいて基板の平行部の
平均面粗さが異なる場合の再生出力の周波数特性を示す
。第４図は本発明および従来スライダーのＣ８Ｓ試験で
のディスク損傷に到る回数と損傷度を示す０１は従来材
、２は本発明材。第５図はＣ８Ｓ試験のサイクルタイム
を示す。 第６図は記録電流と再生出力の関係を示す図。第７図は
従来のＸ型の磁気コアの製造工程図であり、第８図は得
られた磁気コアの側面図を示す。第９図は磁気コアを埋
設すべきスライダーおよび埋設された状態を示す。第１
０図は従来の磁気コアの基板の結晶粒脱落の様子を示す
。 第　／　図 第、３　図 膚波数（ＭＨｚ　） 凛　２’Ｚ （Ｃ） （ｄ） （ｅ） 第　４　図 相対ＣＳＳ回牧 第　５　図 第　６　図 グ 記録霞度（□Ａ） 第　７　図 第　ε　図 募　ｑ　図 第１Ｏ図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気ギャップと平行でかつ該平行部が記録再生トラ
   ックとなる様に平行部の一方あるいは両側を斜めに切除
   した台形型Ｍｎ−Ｚｎフェライトからなり、該磁極の一
   方あるいは両方に純Ｆｅ膜を成膜しガラスで接合した磁
   気コアをＣａＴｉＯ＿３スライダー中に接合ガラスより
   低軟化点のガラスで埋設固着した事を特徴とする磁気デ
   ィスク装置用浮上型磁気ヘッド。 ２、特許請求範囲記載第１項において純Ｆｅ膜を成膜す
   るＭｎ−Ｚｎフェライトのギャップ部と平行な部分の平
   均面粗さを６０Å以上でかつ純Ｆｅ膜厚の１０％以下と
   した事を特徴とする浮上型磁気ヘッド。 ５、特許請求範囲記載第２項において純Ｆｅあるいはこ
   れに１０原子％以下のＮｉ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ａｌ、
   Ｃｒの内の１元素あるいは２元素以上を添加した純Ｆｅ
   膜を熱膨張係数８５〜９５×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾
   １、軟化点４５０〜４６０℃のガラスを用い熱膨張係数
   １０５〜１１０×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１のＣａＴ
   ｉＯ＿３スライダー中に埋設固着した事を特徴とする浮
   上型磁気ヘッド。 ４、特許請求範囲記載第３項において熱膨張係数９２〜
   １０２×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１、軟化点５６０〜
   ６２０℃のガラスを用いて磁気コアを接合する事を特徴
   とする浮上型磁気ヘッド。 ５、特許請求範囲記載第４項においてＣｏ−Ｎｉ系薄膜
   ディスクを用いた磁気ディスク装置に用いる事を特徴と
   する浮上型磁気ヘッド。