JPS63263613A - 磁気ヘツドコア - Google Patents
磁気ヘツドコアInfo
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- JPS63263613A JPS63263613A JP9719287A JP9719287A JPS63263613A JP S63263613 A JPS63263613 A JP S63263613A JP 9719287 A JP9719287 A JP 9719287A JP 9719287 A JP9719287 A JP 9719287A JP S63263613 A JPS63263613 A JP S63263613A
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Links
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気ディスクや磁気カード、磁気テープなどの
磁気記録媒体に対する情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドのコアに関する。
磁気記録媒体に対する情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドのコアに関する。
[従来の技術]
磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えばUSP−382341
6に示されている様な浮上型ヘッドが多く使用されてい
る。この浮上型ヘッドは、スライダーと該スライダーの
後端部に取り付けられた磁気コアとを備える。通常のコ
アは、磁気記録媒体に対面する部位にギャップ部を有す
ると共に、中央に窓孔を備える。そして、この窓孔を通
して巻線がコアに巻き付けられる。通常のコアは、I型
半割体とC型半割体とをガラスで接着して成る。C型半
割体は、接合される側に凹部を有し、それ故に外観がC
字形に類似した形状である。■型半割体は、略々直方体
形状であり、それ故に1字に類似した形状である。C型
半割体とI型半割体とを接合すると、C型半割体の上記
凹部が巻線挿通用の窓孔を形成する。
られる磁気ヘッドとしては例えばUSP−382341
6に示されている様な浮上型ヘッドが多く使用されてい
る。この浮上型ヘッドは、スライダーと該スライダーの
後端部に取り付けられた磁気コアとを備える。通常のコ
アは、磁気記録媒体に対面する部位にギャップ部を有す
ると共に、中央に窓孔を備える。そして、この窓孔を通
して巻線がコアに巻き付けられる。通常のコアは、I型
半割体とC型半割体とをガラスで接着して成る。C型半
割体は、接合される側に凹部を有し、それ故に外観がC
字形に類似した形状である。■型半割体は、略々直方体
形状であり、それ故に1字に類似した形状である。C型
半割体とI型半割体とを接合すると、C型半割体の上記
凹部が巻線挿通用の窓孔を形成する。
浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触している。
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触している。
また磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク
表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作
用する。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディ
スクから離れている。一方磁気ディスクの回転をスター
トする時及びストップする時には、磁気ヘッドは磁気デ
ィスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時の
接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にその
表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッド
の浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝突する
と共にその反動でとび上り、またディスク面に落る。こ
の様な運動を何度が繰り返した上で、磁気ヘッドはディ
スク上を引きずられる様にして停止する。この様な起動
、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必要があり、その
性能をCSS性(Contact 5tart 5to
p)と呼ぶことが多い。
表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作
用する。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディ
スクから離れている。一方磁気ディスクの回転をスター
トする時及びストップする時には、磁気ヘッドは磁気デ
ィスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時の
接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にその
表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッド
の浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝突する
と共にその反動でとび上り、またディスク面に落る。こ
の様な運動を何度が繰り返した上で、磁気ヘッドはディ
スク上を引きずられる様にして停止する。この様な起動
、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必要があり、その
性能をCSS性(Contact 5tart 5to
p)と呼ぶことが多い。
高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成された
磁気コアは比較的良好な耐CSS性を示すが、飽和磁束
密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対して充分に記録
出来ないという欠点がある。すなわち比較的飽和磁束密
度Bsの高いMn−Znフェライト(酸化マンガンと酸
化亜鉛を含むフェライト)でもBsは高々5,500〜
6.0OOG程度であり、Bs≧8000Gの得られる
金属磁性膜を磁気ギャップ部に配置したものの方が望ま
しい、この−例としてフェライトで構成されるコアギャ
ップ部にのみ高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気
ヘッドが知られている。この磁性薄膜としてはセンダス
ト合金がしばしば用いられる。このセンダスト膜は、ス
パッタリングなどの成膜法によって形成される。
磁気コアは比較的良好な耐CSS性を示すが、飽和磁束
密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対して充分に記録
出来ないという欠点がある。すなわち比較的飽和磁束密
度Bsの高いMn−Znフェライト(酸化マンガンと酸
化亜鉛を含むフェライト)でもBsは高々5,500〜
6.0OOG程度であり、Bs≧8000Gの得られる
金属磁性膜を磁気ギャップ部に配置したものの方が望ま
しい、この−例としてフェライトで構成されるコアギャ
ップ部にのみ高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気
ヘッドが知られている。この磁性薄膜としてはセンダス
ト合金がしばしば用いられる。このセンダスト膜は、ス
パッタリングなどの成膜法によって形成される。
ギャップ部における半割体の形状として、ギャップ部と
垂直な断面において台形となるようにしたものが知られ
ている。即ち、半割体のギャップ面の両脇の部分を斜め
にカットした形状に半割体が形作られているものである
。ギャップ部における半割体の形状を台形とすることの
利点は次の通りである。即ち、この半割体のギャップ部
の形状が三角形であると、三角形の頂点同志が向き合っ
た、それ故にギャップ部の平面視形状がX型となったコ
アとなるのであるが、このようなX型のコアでは、三角
形の頂点部分でのセンダスト膜の膜厚が他の部分での膜
厚よりも極度に薄くなり、このために再生出力が低下す
るようになり易い、これに対し、台形状であると、半割
体の互いに向き合う頂点部分(第6図のlla、12a
の部分)が平行面となり、この部分でのセンダスト膜厚
が減少せず、再生出力が低下しにくいあである。
垂直な断面において台形となるようにしたものが知られ
ている。即ち、半割体のギャップ面の両脇の部分を斜め
にカットした形状に半割体が形作られているものである
。ギャップ部における半割体の形状を台形とすることの
利点は次の通りである。即ち、この半割体のギャップ部
の形状が三角形であると、三角形の頂点同志が向き合っ
た、それ故にギャップ部の平面視形状がX型となったコ
アとなるのであるが、このようなX型のコアでは、三角
形の頂点部分でのセンダスト膜の膜厚が他の部分での膜
厚よりも極度に薄くなり、このために再生出力が低下す
るようになり易い、これに対し、台形状であると、半割
体の互いに向き合う頂点部分(第6図のlla、12a
の部分)が平行面となり、この部分でのセンダスト膜厚
が減少せず、再生出力が低下しにくいあである。
[発明が解決しようとする問題点]
このような台形ギャップ部を有する半割体を連結したコ
アについて注意深く検討したところ、上記の台形の上辺
に相当する部分と斜辺に相当する部分との交角θは、当
該コアを装着した磁気ヘッドの特性に著しい影響を与え
ることが認められた。
アについて注意深く検討したところ、上記の台形の上辺
に相当する部分と斜辺に相当する部分との交角θは、当
該コアを装着した磁気ヘッドの特性に著しい影響を与え
ることが認められた。
[問題点を解決するための手段]
本発明の磁気ヘッドのコアはたがいに接合されてコアを
形成するMn−Znフェライトよりなる半割体を備えて
いる。一方の第1の半割体は、他方の第2の半割体に接
合された際に巻線挿通用窓孔を形成するための凹部を有
する。そして、第1及び第2の半割体の接合部の一端に
は磁気ギャップが形成される。また、第1及び第2の半
割体のうち少なくとも一方の半割体のギャップ面にはセ
ンダスト膜が設けられる0、各半割体は磁気ギャップの
両側を斜めに切除した台形に形作られており、この台形
は、上辺に相当する部分と斜辺に相当する部分との交角
が40’〜70’の範囲にある。−゛ [作用] 本発明者等が種々の検討を重ねたところ、上記の角度θ
を40″〜70″とすることにより、記録再生特性と共
にオーバーライド特性が向上することが認められた。
形成するMn−Znフェライトよりなる半割体を備えて
いる。一方の第1の半割体は、他方の第2の半割体に接
合された際に巻線挿通用窓孔を形成するための凹部を有
する。そして、第1及び第2の半割体の接合部の一端に
は磁気ギャップが形成される。また、第1及び第2の半
割体のうち少なくとも一方の半割体のギャップ面にはセ
ンダスト膜が設けられる0、各半割体は磁気ギャップの
両側を斜めに切除した台形に形作られており、この台形
は、上辺に相当する部分と斜辺に相当する部分との交角
が40’〜70’の範囲にある。−゛ [作用] 本発明者等が種々の検討を重ねたところ、上記の角度θ
を40″〜70″とすることにより、記録再生特性と共
にオーバーライド特性が向上することが認められた。
[実施例コ
以下本発明の好ましい態様について詳細に説明する。
第1図は本発明の好ましい態様に係る磁気ヘッドのコア
の斜視図、第2図はコアを装着した磁気ヘッドの斜視図
、第3図はギャップ部の平面図である。第4図は本発明
゛のコアの製造方法を示す。
の斜視図、第2図はコアを装着した磁気ヘッドの斜視図
、第3図はギャップ部の平面図である。第4図は本発明
゛のコアの製造方法を示す。
まず、本発明に係る磁気ヘッドの構成について説明する
。
。
第2図のように、磁気ヘッド1は非磁性スライダー2と
コア3とを備えている。コア3はスライダー2の2本の
空気ベアリング面4.5の一方の面4に形成されたスリ
ット6中に、ガラス等でモールド固定されている。7は
巻線を示す。
コア3とを備えている。コア3はスライダー2の2本の
空気ベアリング面4.5の一方の面4に形成されたスリ
ット6中に、ガラス等でモールド固定されている。7は
巻線を示す。
コア3は、第1.3図のように、第1の半割体11と第
2の半割体12とを有する。第1の半割体11は、凹部
13を有するC型半割体であり、第2の半割体12は直
方体状の丁型半割体である。半割体11.12の接合側
の面にはセンダストll114.15がスパッタリング
法により被着されており、このセンダスト膜14.15
を有する面同志がガラス16を介して接合される。コア
3の接合面のうち一方は磁気ギャップ17となりており
、ギャップ面と垂直な断面形状が台形となる。即ち、コ
アの幅(厚さ)Tcよりもギャップ部の幅Twが小さく
、かつTwの幅の部分(台形の上辺部分)11a、12
aの両脇の部分を斜めにカットして台形の斜辺に相当す
る部分11b1tic、12b、12cが形作られてい
る。上辺部分11a、12aとこの斜辺部分ttb。
2の半割体12とを有する。第1の半割体11は、凹部
13を有するC型半割体であり、第2の半割体12は直
方体状の丁型半割体である。半割体11.12の接合側
の面にはセンダストll114.15がスパッタリング
法により被着されており、このセンダスト膜14.15
を有する面同志がガラス16を介して接合される。コア
3の接合面のうち一方は磁気ギャップ17となりており
、ギャップ面と垂直な断面形状が台形となる。即ち、コ
アの幅(厚さ)Tcよりもギャップ部の幅Twが小さく
、かつTwの幅の部分(台形の上辺部分)11a、12
aの両脇の部分を斜めにカットして台形の斜辺に相当す
る部分11b1tic、12b、12cが形作られてい
る。上辺部分11a、12aとこの斜辺部分ttb。
11c、12b、12cとがなす交角θは20゜〜50
°である。第3図の寸法Gはギャップの間隔を示す。
°である。第3図の寸法Gはギャップの間隔を示す。
センダスト膜14,15は1層のみでも良いが、透磁率
の周波数特性を改善するために例えば5i(h層のよう
な絶縁層を介して2層もしくはそれ以上の多層積層構造
としても良い。
の周波数特性を改善するために例えば5i(h層のよう
な絶縁層を介して2層もしくはそれ以上の多層積層構造
としても良い。
センダスト膜は図示のように接合面の全体に設けても良
いが、C型及びI型半割体の一方にのみ設けても良い。
いが、C型及びI型半割体の一方にのみ設けても良い。
さらに、C型及びI型半割体の一方又は双方の半割体の
ギャップ部にのみ設けても良い。ギャップ部においては
、好ましくはセンダスト膜は図示の通り台形の上辺11
a、12aと斜辺flb、lie、12b、12cの双
方の部分に成膜するが、12a、12b、12c上のみ
でも良い。
ギャップ部にのみ設けても良い。ギャップ部においては
、好ましくはセンダスト膜は図示の通り台形の上辺11
a、12aと斜辺flb、lie、12b、12cの双
方の部分に成膜するが、12a、12b、12c上のみ
でも良い。
センダスト膜の好ましい組成は重量%でAjl14〜8
%、Si8〜11%、Fe81〜88%である。高透磁
率を得る目的でA15〜7%、Si8.5〜10%、F
e83〜86.5%が好ましい。センダスト膜は、合計
の厚さが1〜10μm程度とするのが好適である。中間
絶縁層の5i(h膜厚は0.02〜O,Iμmが充分に
絶縁を維持出来かつ全体の膜中に占めるFe−Alt−
3t膜の割合を低下させなく好ましい。
%、Si8〜11%、Fe81〜88%である。高透磁
率を得る目的でA15〜7%、Si8.5〜10%、F
e83〜86.5%が好ましい。センダスト膜は、合計
の厚さが1〜10μm程度とするのが好適である。中間
絶縁層の5i(h膜厚は0.02〜O,Iμmが充分に
絶縁を維持出来かつ全体の膜中に占めるFe−Alt−
3t膜の割合を低下させなく好ましい。
半割体11.12の望ましい材質は酸化マンガンと酸化
亜鉛よりなるMn−Znフェライトであり、熱膨張係数
は105〜115x 10−’ deg″″Iである。
亜鉛よりなるMn−Znフェライトであり、熱膨張係数
は105〜115x 10−’ deg″″Iである。
半割体11.12同志を結合するガラスは、磁気コアを
スライダーに固定するのに使用されるガラスよりも高軟
化点のものが望ましい。具体的にはかかるガラスとして
は軟化点450℃以上、熱膨張係数150xlO−’d
eg−’以下が適しており、該物性を示すガラス組成と
しては、Pb055.8.5i(h 37.1、に20
7.1重量%が挙げられる。
スライダーに固定するのに使用されるガラスよりも高軟
化点のものが望ましい。具体的にはかかるガラスとして
は軟化点450℃以上、熱膨張係数150xlO−’d
eg−’以下が適しており、該物性を示すガラス組成と
しては、Pb055.8.5i(h 37.1、に20
7.1重量%が挙げられる。
スライダー材としてはCaTjOgが機拭的特性に優れ
適している。 CaTi0aの熱膨張係数は105〜
11QxlO””deg−でありビッカース硬度は85
0kg/mrn”である。このCaTiOsスライダー
材を用い磁気コアを埋設固定する場合のガラスとしては
熱膨張係数91 x 10.−7deg −’で軟化点
446℃程度のものを用い540℃でガラスを加熱流入
させることにより、ガラス中にクラックを生じない良好
な磁気ヘッドが得られる。
適している。 CaTi0aの熱膨張係数は105〜
11QxlO””deg−でありビッカース硬度は85
0kg/mrn”である。このCaTiOsスライダー
材を用い磁気コアを埋設固定する場合のガラスとしては
熱膨張係数91 x 10.−7deg −’で軟化点
446℃程度のものを用い540℃でガラスを加熱流入
させることにより、ガラス中にクラックを生じない良好
な磁気ヘッドが得られる。
本発明では、角度θを20°〜50°とりわけ25°〜
40°とすることにより特性が向上する、即ち、種々の
研究の結果、角度θが20°〜50°の範囲でオーバー
ライド特性(0/W特性)が著しく向上することが認め
られた。この理由については次のよ、うに推察される。
40°とすることにより特性が向上する、即ち、種々の
研究の結果、角度θが20°〜50°の範囲でオーバー
ライド特性(0/W特性)が著しく向上することが認め
られた。この理由については次のよ、うに推察される。
角度θが20°よりも大きいと、ギャップ近傍における
、ギヤツブG以外の部分で第1及び第2の半割体にまた
がるコアの漏れ磁束が多くなり、このため本来のギャッ
プ部での記録磁界が小さくなり0/W特性が低下する。
、ギヤツブG以外の部分で第1及び第2の半割体にまた
がるコアの漏れ磁束が多くなり、このため本来のギャッ
プ部での記録磁界が小さくなり0/W特性が低下する。
また、角度θが50°よりも小さい場合には、コア基材
たるフェライトの表面に存在する加工歪(例えば表面の
微小な凹凸)の影響が大きくなり、実買的な磁路幅が小
さくなり、磁気抵抗が大きくなって再生出力が低下する
。
たるフェライトの表面に存在する加工歪(例えば表面の
微小な凹凸)の影響が大きくなり、実買的な磁路幅が小
さくなり、磁気抵抗が大きくなって再生出力が低下する
。
かかる磁気コアは第4図(a)〜(e)に示した工程に
より容易に作製することが出来る。該工程を概略説明す
ると以下である。まずW形状の溝39.40を加工した
Mn−Znフェライト基板37.38を用意”する0次
に頂点部を(C)図のc−c ’の点線部まで研磨加工
を程し所定のトラック幅T胃を得る。該加工基板42上
にFe−/lj!−Si膜41を成膜する。成膜は5i
02を介し積層した多層膜あるいは単層膜いずれをも採
用することが出来る。この成膜された一対の基板37.
38は所定のギャップ長Gを得るための絶縁層をはさみ
(図では省略)、巻線窓孔部44に置かれたポンディン
グガラス棒45を加熱流入させる事により一対の接合を
行なう、この後接合ブロックは所定の厚さになる様切断
され磁気コアを得る。
より容易に作製することが出来る。該工程を概略説明す
ると以下である。まずW形状の溝39.40を加工した
Mn−Znフェライト基板37.38を用意”する0次
に頂点部を(C)図のc−c ’の点線部まで研磨加工
を程し所定のトラック幅T胃を得る。該加工基板42上
にFe−/lj!−Si膜41を成膜する。成膜は5i
02を介し積層した多層膜あるいは単層膜いずれをも採
用することが出来る。この成膜された一対の基板37.
38は所定のギャップ長Gを得るための絶縁層をはさみ
(図では省略)、巻線窓孔部44に置かれたポンディン
グガラス棒45を加熱流入させる事により一対の接合を
行なう、この後接合ブロックは所定の厚さになる様切断
され磁気コアを得る。
具体的な実施例を次に説明する。
例1:
第4図に示した手順に従って第1図に示すコアを製造し
た。このコアの大きさ及び構成は次の通りである。
た。このコアの大きさ及び構成は次の通りである。
半割体の材質: Mn−ZnフェライトF1120
s : MnO: Zn0=55 : 30 : 1
5モル比 半割体の大きさ: 第1図に記入の通り。
s : MnO: Zn0=55 : 30 : 1
5モル比 半割体の大きさ: 第1図に記入の通り。
センダスト膜組成: Fe 85wt%Ai 6
wt% St 9 wt% ギャップ部における センダスト膜の厚さ’ 3 u m (BIm −11
000G。
wt% St 9 wt% ギャップ部における センダスト膜の厚さ’ 3 u m (BIm −11
000G。
μ5MHz−1500,)
ギャップ部の構成: 第3図に示した台形形状であり、
寸法は下記 の通り。
寸法は下記 の通り。
G:0.6μm
Tw:15μm
Tc : 150μm
ボンディングガラス: PbO55,8wt%510
23フ、1+$t% に20 7.1wt% 軟化点 590℃ 熱膨張係数 9jX 10−’deg −’ このコアに、21ターンの巻線を施し、次いでCaTi
O3製のスライダに装着した。装着した状態の斜視図は
第2図の通りであり、寸法は同図に記入されている。
23フ、1+$t% に20 7.1wt% 軟化点 590℃ 熱膨張係数 9jX 10−’deg −’ このコアに、21ターンの巻線を施し、次いでCaTi
O3製のスライダに装着した。装着した状態の斜視図は
第2図の通りであり、寸法は同図に記入されている。
この磁気ヘッドのオーバーライド特性を測定した。なお
、測定条件は次の通りである。
、測定条件は次の通りである。
ディスク: Co−Ni20at%、厚さ9
00A スパッタディスク Hcs++8000e ディスク回転数: 3600rpm浮上量=
0.3μm 1F−2,5MHzで記録し、次に2F−2,5MHz
で記録した。その後、再生出力の周波数成分を測定し、
次式に従ってオーバーライド −特性を算出する。
00A スパッタディスク Hcs++8000e ディスク回転数: 3600rpm浮上量=
0.3μm 1F−2,5MHzで記録し、次に2F−2,5MHz
で記録した。その後、再生出力の周波数成分を測定し、
次式に従ってオーバーライド −特性を算出する。
0/W=−20jlOg (t F信号72F信号)′
角度θを種々変更して測定した結果を第5図に示す。
角度θを種々変更して測定した結果を第5図に示す。
また、2.5MHzで記録し、2.5MHzで読み出し
た場合の再生出力の測定結果を第6図に示す、なお、再
生出力は波形の頂点部と谷部との差、いわゆる pea
k to peak値(mV)である。
た場合の再生出力の測定結果を第6図に示す、なお、再
生出力は波形の頂点部と谷部との差、いわゆる pea
k to peak値(mV)である。
例2:
ディスクのHeを10000eとしたこと以外は例1と
同様にしてオーバーライド特性及び再生特性を測定した
。結果を第5図及び第6図に併せて示す。第5図及び第
6図より、角度θが20゜〜50°の範囲ではオーバー
ライド特性及び再生特性が著しく高いことが明らかであ
る。
同様にしてオーバーライド特性及び再生特性を測定した
。結果を第5図及び第6図に併せて示す。第5図及び第
6図より、角度θが20゜〜50°の範囲ではオーバー
ライド特性及び再生特性が著しく高いことが明らかであ
る。
[効果コ
以上の実施例からも明らかな通り、本発明によれば磁気
ヘッドのコア形状が適切なものとされ、オーバーライド
特性及び再生特性が著しく向上される。
ヘッドのコア形状が適切なものとされ、オーバーライド
特性及び再生特性が著しく向上される。
第1図はコアの斜視図、第2図はスライダの斜視図、第
3図はギャップ部の平面図、第4図はコアの製造説明図
、第5図及び第6図は実施例における測定結果を示すグ
ラフである。 1・・・磁気ヘッド、 2・・・スライダー、3・
・・コア、 11.12・・・半割体。 代理人 弁理士 重 野 剛 納4図 1ワ 第5図 e(度)
3図はギャップ部の平面図、第4図はコアの製造説明図
、第5図及び第6図は実施例における測定結果を示すグ
ラフである。 1・・・磁気ヘッド、 2・・・スライダー、3・
・・コア、 11.12・・・半割体。 代理人 弁理士 重 野 剛 納4図 1ワ 第5図 e(度)
Claims (1)
- (1)他方の半割体に接合された際に巻線挿通用窓孔を
形成するための凹部を有する酸化マンガンと酸化亜鉛と
を含むフェライトよりなる第1の半割体; 該第1の半割体の凹部を有する側に接合されてコアを形
成し、このコアの一方の端部に磁気ギャップが形成され
る酸化マンガンと酸化亜鉛とを含むフェライトよりなる
第2の半割体; 第1及び第2の半割体のうち少なくとも一方の半割体の
ギャップ面に設けられたセンダスト膜; を備え、各半割体は磁気ギャップの両側を斜めに切除し
た台形に形作られており、この台形は、上辺に相当する
部分と斜辺に相当する部分との交角が20°〜50°の
範囲にある磁気ヘッドコア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9719287A JPS63263613A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気ヘツドコア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9719287A JPS63263613A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気ヘツドコア |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63263613A true JPS63263613A (ja) | 1988-10-31 |
Family
ID=14185721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9719287A Pending JPS63263613A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 磁気ヘツドコア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63263613A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02220210A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-09-03 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
JPH04105805U (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-11 | ミツミ電機株式会社 | 磁気ヘツド |
-
1987
- 1987-04-20 JP JP9719287A patent/JPS63263613A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02220210A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-09-03 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
JPH04105805U (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-11 | ミツミ電機株式会社 | 磁気ヘツド |
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