JPS6337819A - 磁気デイスク装置用浮上型磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、固定磁気ディスク装置に使用する浮上型磁気
ヘッドに係り、特に性能および信頼性を改良した浮上型
磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

磁気ディスク装置に使用する磁気ヘッドとしては１例え
ばＵＳＰ−３８２３４１６号、または特公昭５７−５６
９号公報に開示されているような浮上型磁気ヘッドが使
用される。この浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクの静
止時においてはばね力によって磁気ディスク表面に接触
しているが。

磁気ディスクの回転時においては、磁気ディスク表面の
空気流によって浮上する。而して磁気ディスクが回転か
ら停止に至るまでには、前記磁気ヘッドは磁気ディスク
表面に落下２反動による上昇を繰返した後、磁気ディス
ク上を摺動して停止する。磁気ヘッドには上記起動、停
止時の衝撃に耐える性能が要求され、これをＣ８Ｓ性（
Ｃｏｎ　ｔａｃ　ｔＳｔａｒｔ　５ｔｏｐ）と称する。

磁気ヘッド全体を例えば高透磁率酸化物磁性材料である
フェライトで構成したものは、耐Ｃ８Ｓ性が良好である
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対す
る記録性能が不充分であるという欠点があり、高飽和磁
束密度を有する金属磁性膜を磁気間隙に配設するのが望
ましいとされている。この−例として特開昭５８−１４
３１１号公報に開示される磁気ヘッドがあるが、磁気変
換部に巻線後のインダクタンスが大きく、共振周波数が
低下するため、高周波領域における記録再生機能が不充
分であるという問題点がある。この改良例として全体を
磁性材料とせず、磁気コアを非磁性材料からなるスライ
ダ中に埋設固着した構成のものがある（例えばＵＳＰ−
３５６２４４４号、特開昭６０−１５４１３０号公報等
）。一方磁気コアの磁気間隙部の構造としては、その上
端面の外観からＸ型と称されるものがある。本出願人に
よる特願昭６０−４００６３号によるものもその一例で
あり９例えば第９図に拡大図で示す。同図は記録媒体と
の対向面の平面図であり、■コア側基板１およびＣコア
側基板２上に成膜した金属磁性膜３，４は絶縁層５を介
して斜めに斜交し、その角度θを６０゜に形成しである
。６は接合ガラスであり、前記基板１．２を接合する。

Ｇ１．Ｔｗは各々ギャップ長およびトラック幅である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のようなＸ型構造のものにおいて、金属磁性膜３．
４の膜厚は２０μｍ以下にすることにより、接合ガラス
６によるガラスボンディング時に発生する応力を小さく
することができ、再生出力が向上し、基板１．　２を構
成する材料の結晶粒の脱落が減少する。しかしながら、
第９図からも明らかなように、ギャップ長Ｇｌは任意に
選定することができるが、トラック幅ＴＷを通常１０〜
２０μｍの寸法にするためには、前記金属磁性膜３．４
の膜厚をあまり薄くすることができない。

すなわち、■コア側の基板ｌの頂点部は先端が鋭角であ
るため、膜厚を薄くすると頂点部における膜厚が他のト
ラック部の膜厚より極度に薄くなり。

再生出力が低下することとなり不都合である。このため
トラック幅Ｔｗと前記膜厚とを任意に独立して選定する
ことができず、定められたトラック幅ＴＷを得るために
は、前記膜厚はある程度厚くしておく必要があるという
制約がある。このような欠点を改良する磁気間隙部の構
造として、特開昭６１−４３７０７号公報に記載のよう
な台形状のものが開示されている。しかし上記構造のも
のにおいては、磁性薄膜とフエライ＋−ｉ板との接合面
が磁気間隙線と平行に配設しであるため、いわゆる形状
効果により再生出力の周波数特性にうねりを生ずるとい
う問題点がある。

本発明は上記従来の問題点を解消し、（１）高保磁力の
記録媒体に対しても充分記録可能であり、（２）低イン
ダクタンスであり、（３）高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜に不都合な歪を発生させることなく高再生出力を
示し、（４）耐ＣＳＳ性に優れた磁気ディスク装置用浮
上型磁気ヘッドを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記従来技術に存在する問題点を解消するために１本発
明においては、下記の技術的手段を採用したのである。

Ａ、磁気記録媒体との対向面に磁気間隙が出現するよう
に基板の上端部を突合せ配設し、前記磁気間隙が磁気記
録再生トラックとなるように前記基板上端縁部を斜めに
切除して前記基板上端面部を台形に形成し、前記磁気間
隙に臨む基板の上端部の少な（とも一方に磁性薄膜を成
膜し。

前記両基板を接合ガラスを介して接合して構成した磁気
ヘッドを、スライダ中に設けたスリット中に固着ガラス
を介して埋設固着してなる磁気ディスク装置用浮上型磁
気ヘッドにおいて。

Ｂ、前記磁気間隙に臨む基板端面の平均面粗さを４０Å
以上でありかつ前記磁性薄膜の膜厚の１０％以下に形成
する。

Ｃ１磁性薄膜を／１３〜７重量％、Ｓｉ７〜１１重量％
、Ｆｅ残部を主成分とし、あるいは他の添加物を含有す
るＦｅ−Ａｌ１−３ｉ合金で構成する。

Ｄ、基板をＭｎＯ６７〜９０モル％、Ｎｉ０１０〜３３
モル％を含み岩塩型結晶構造を有するＭｎＯ−ＮｉＯセ
ラミックス、あるいはＣａｂ。

Ｚ　ｒ　Ｏｚ　、Ａｌｚ　０３１　　■２０５　、Ｂ　
ａ　Ｏ。

Ｙｔ　０３およびＣｕＯの１種または２種以上を１０モ
ル％以下含有する上記ＭｎＯ−ＮｉＯセラミックスで構
成する。

Ｅ、スライダを線膨張係数８５〜９５　Ｘ　１０−’／
”Ｃの安定化ＺｒＯ□で構成する。

Ｆ、接合ガラスを線膨張係数９２〜１０２ＸＩＯ−’／
℃、軟化点５６０〜６２０℃のガラスで構成する。

Ｇ、固着ガラスを線膨張係数８５〜９５Ｘ１０−７／℃
、軟化点４３０〜４６０℃のガラスで構成する。

本発明において、磁気間隙に臨む基板の端面の平均面粗
さが４０人未満では、形状効果のため周波数特性にうね
りを生ずるため不都合である。一方上記平均面粗さが磁
性薄膜の膜厚の１０％を越えると、磁性薄膜の膜厚精度
が低下するため好ましくない。

基板材料を構成するＭｎＯ−ＮｉＯセラミックスにおけ
る主成分であるＭｎＯは、材料の硬度を低下させて、研
削性および切削性を向上させるために６７モル％以上含
有させるのが望ましい、一方ＭｎＯの含有率が９０モル
％を越えると、材料の焼結性が低下すると共に気孔量が
増加するため好ましくない。またＣ　ａ　Ｏ、Ｚ　ｒ　
Ｏｚ　＋　Ａ　ｌ　２０３１Ｖｚ　Ｏｓ　、Ｂａｄ、Ｙ
ｚ　０３　、ＣｕＯを含有させると、材料の焼結性を向
上させ、気孔量を減少させるのに有効であり、ＢａＯは
切削性を向上させる作用を有する。しかし上記酸化物の
含有量が１０モル％を越えると、材料の硬度を高めて、
研削性および切削性を低下させるため、１０モル％以下
、とりわけ６モル％以下とするのが好ましい。

なお上記酸化物は１種のみならず、２種以上を含有させ
てもよい。また１種のみ含有させる場合には、硬度増大
作用がそれ程大きくない、焼結促進作用が高い、水に不
溶性である。切削時に粒子脱落のおそれが極めて小さい
等の理由から、ＣａＯが最も好ましい。上記酸化物を２
種類使用する場合には、ＣａＯとＺｒＯ□とを併せて含
有させた方がＣａＯおよびＺｒＯ□を各々単独で含有さ
せるよりも、材料の硬度を増大させる度合が小さいと共
に、焼結性を向上させて気孔量を減少させるため好まし
い。

なお本発明において、上記ＭｎＯ−ＮｉＯセラミックス
の結晶構造を岩塩型としたのは、下記の理由による。す
なわち、上記合金はスピネル型結晶構造をとりうるので
あるが、岩塩型とすることにより、線膨張係数が磁性薄
膜に近似し、気孔が減少するようになるからである。

〔実施例１〕 第１図は本発明の実施例における磁気間隙部の拡大平面
図である。同図において、１１．１２は各々基板であり
、ＭｎＯ−ＮｉＯセラミックスからなり、＋ｆ１気記録
媒体（図示せず）と対向する上端部を突合せ配設し、磁
気間隙１３を形成するための平行部１４．１５を備える
と共に、平行部１４．１５の両側は斜めに切除して略台
形に形成する。次に１６．１７は磁性薄膜であり、Ｆｅ
−Ａｊ２−Ｓｉ合金により構成し、前記平行部１４゜１
５および前記台形を形成する斜辺部に成膜する。

なお上記磁性薄膜１６．１７は平行部１４．１５のみに
設けてもよく、また左右１対のＣ１■コアを形成する基
板１１．１２の少なくとも一方に設けることができる。

１８は接合ガラスであり。

Ｇで、Ｔｗは各々ギャップ長およびトラック幅である。

上記におけるＭｎＯ−ＮｉＯセラミックスによる基板１
１．１２の成形は１例えば下記の工程によった。すなわ
ち市販の試薬特級のＭ　ｎ　ＣＯ３およびＮｉＯを、Ｍ
ｎ○：ＮｉＯがモル比で７０：３０になるように秤量し
、純水を加えてボールミル中で２４時間粉砕した後、Ｎ
Ｚ雰囲気中にて９００°ｃｘ４時間の仮焼を行った。こ
れを３３１１×４０菖鳳Ｘ１４ｍｍのフ゛ロック状に３
ｔｏｎ／ｃｍｚの圧力で成形し、−次焼成を行った後、
１１０００ａｔのＡｒ雰囲気中にて１２００℃×１時間
の熱間静水圧プレス（ＨＩ　Ｐ）処理を行った。得られ
た焼結体はＸ　ｖＡ回折結果から岩塩型結晶構造を有し
ていることが認められた。

第２図（ａ）〜（ｅ）は磁気コアの製造工程の説明図で
ある。まず第２図（ａｌ　（ｂｌに示すように前記Ｍ　
ｎ　Ｏ−ＮｉＯセラミックスからなる基板２１．２２の
合せ面２１ａ、２２ａに、横断面形状がＷ形の溝２３．
２４を設ける。次に第２図（ｃ）に示すように合せ面２
１　ａ　　（２２ａ）を点線部まで研磨加工して。

所定のトラック幅Ｔｗを得る。第２図（ｄ）はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金により磁性薄膜２５を？Ｉ２３（２４）お
よび合せ面２１ａ（２２ａ）に設けた状態を示す。成膜
はＳｉＯ□を介して積層した多層膜とする他、単層膜と
してもよい。このようにして成膜した１対の基板２１．
２２は、第２図（ｅｌに示すように、所定のギャップ長
ＧＥを得るための絶縁層（図示せず）を前記合せ面２１
ａ、２２ａ間に挟んで突合せ１巻線窓部２６に挿入した
ガラス棒２７を加熱流入させて、接合合体する。この後
接合ブロックを所定の厚さに切断して第３図に示すよう
な磁気コア２８に成形する。図中の数字は各部の寸法を
龍で表わしたものである。

上記実施例においては、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金による磁
性薄膜２５を成膜する前の基板２１．２２の平行部２９
（第２図（ｄｌ参照）の面粗さは、平均２００人とした
。また磁性薄膜２５は１層５μｍのものを０．０５μｍ
のＳｉＯ□絶縁層を介して４層積層した。また接合ガラ
スとしては、後述するスライダ中への磁気コアの埋設固
着時に磁気間隙の寸法が変化しないよう、高軟化点を有
するガラスが望ましい。このようなガラスとしては。

例えば軟化点５９０℃、線膨張係数９７Ｘ１０−７／”
Ｃが適しており、このような物性を示すガラス組成は、
ＰｂＯ５５，８重量％、　　Ｓ　ｉ　Ｏｚ　３７．１重
量％、に、０７．１重量％がある。

次に上記のようにして形成した磁気コア２８を第４図に
示すように、安定化ＺｒＯ２を主相とするセラミックス
（線膨張整数９０　ｘ　１０−７／”ｃ）によって構成
したスライダ３ｏのスリット３１内に挿入し、磁気コア
２８の上部に０．５φＸ５ｆｆに形成した線膨張係数９
１　ｘ　１０−７／”ｃ、軟化点４４６℃のガラス棒を
載置して、５４０ｔに加熱して埋設固着した。このよう
にして得られた磁気ヘッドのトラック幅は１７μｍ、ギ
ヤノブ長０．８μｍ、ギャップ深さは８μｍであった。

上記のようにして形成した磁気ヘッドにおけるインダク
タンスの周波数特性は、第８図に示すように５０ＭＨｚ
以上の高周波領域において、　Ｍｎ−Ｚｎフェライトか
らなる基板を使用したものと比較して優れた特性を示し
た。なお試験条件は保ｉｆｆカフ００　０ｅのＣｏＮｉ
スパッタディスクを使用し、浮上量０．３μｍ、ディス
ク回転数３６００ｒｐｍ　、コイル巻数２８ターンであ
る。

〔実施例２〕 前記実施例１と同様にＦｅＡＪ−３ｉ合金膜を５μｍで
２層積層した。この場合前記第２図（ｄ）における平行
部２９の面粗さが異なるように加工した。その他は前記
実施例１と同様である。磁気ヘッドとしての再生出力は
第１表に示すように何れもＸ型構造のものより高い値を
示している。

第　　１　　表 しかしながら平行部の平均面粗さが４０人のものにおい
ては、明瞭な形状効果が認められ、再生出力の周波特性
にうねりが発生している。第５図は相対再生出力と周波
数との関係を示す線図であり１曲線Ａ、Ｂは各々平行部
の平均面粗さ１３０人、４０人に対応するものである。

図から明らかなように曲線Ｂは高周波数領域においてう
ねりを示し、磁気ヘッドの特性を低下させる原因となり
好ましくない。曲線Ａについてはうねりの発生が認めら
れない。平均面粗さ５８０人、８００人のものについて
も１３０人と同様にうねりは認められなかった。すなわ
ち平行部の面粗さをある程度粗くしておくことにより、
前記第１図における本来の磁気間隙１３と平行である基
板１１．１２と磁性薄膜１６．１７との接合面がミクロ
的に非平行となり、実質的な形状効果の現われるのを防
止するものと考えられる。しかし一方あまり面粗さが粗
くなると、磁性薄膜の厚さの精度を低下させるので好ま
しくない。

〔実施例３〕 本発明におけるように磁気コアの接合と、この磁気コア
のスライダ中への埋設固着と２種類のガラスを使用する
場合には、接合ガラスと固着ガラスの軟化点および線膨
張係数を適切に選定しないと、磁気コアの磁気間隙が埋
設固着時に変化したり、ガラスにクラックを生じたりし
て不都合である。本発明のようにスライダとして線膨張
係数８５〜９５　Ｘ　１０−’／’Ｃの安定化ＺｒＯ，
および基板として線膨張係数１２０〜１４０Ｘ１０−’
／℃のＭｎＯ−Ｎｉ○セラミックスを使用する場合には
、スライダ中に磁気コアを埋設固着する際の固着ガラス
としては、線膨張係数８５〜９５×１０−’／℃、軟化
点４３０〜４６０℃のガラスを５４０℃程度で加熱して
使用するのが、ガラスにクランクを発生することなく固
着を行なうのに適当であるとされている。しかし上記ガ
ラスを固着ガラスとして使用する場合に、磁気コアの接
合に使用する接合ガラスに必要な物性が不明確であった
。第２表は接合ガラスの物性を変化させた場合の状況を
示す表であり、固着ガラスは何れも線膨張係数９２　Ｘ
　１０−７／℃、軟化点４４５℃を使用し、５４０℃で
固着した場合の結果である。

以下余白 第２表 第２表から明らかなように、Ｎ１２，３においては、埋
設固着前後においてギャップ長が変化するため、磁気ヘ
ッドとしての特性を劣化させるため不都合である。また
！１ｈ４．５においては、上記ギヤ・７プ長の変化は認
められないが、接合ガラスにクラックを発生させるため
好ましくない。これらに対し、隘１に示すものを使用す
れば、スライダへの埋設固着時におけるギャップ長の変
化がなく。

かつ接合ガラスにクラックの生じない良好な磁気ヘッド
を得ることができる。接合ガラスの軟化点が低すぎると
、磁気コアの埋設固着時に接合ガラスの粘性が低下して
ギャップ長が変化するので好ましくない。また接合ガラ
スと固着ガラスとの線膨張係数の差が大きいと、接合ガ
ラスに応力が集中してクラックを生ずるので不都合であ
る。本実施例においては、線膨張係数９７　Ｘ　１０−
７／’Ｃ。

軟化点５９０℃のものが良好であったが、これらの数値
は通常±５％の変動は許容される。

〔実施例４〕 第６図は磁気ヘッドを構成するスライダ材についてＣ８
Ｓテストを行なった場合のディスクの損傷度を示す図で
ある。媒体には５．２５ｉｎのＣ。

−Ｎ　ｉ［膜層のスパッタディスクを使用し１表面には
潤滑層としてカーボンを約３００人スパッタリングで形
成しである。ＣＳＳテストのサイクルタイムは第７図に
示す通りである。ディスクの損傷度は、前記第４図に示
すスライダ３０の突条部３０ａ、すなわち空気ベアリン
グ面全面に亘ってディスク面に傷が発生した場合を１０
として評価しである。第６図においてＡ、Ｂ、Ｃは夫々
スライダの構成材料が安定化ＺｒＯ，，ＣａＴｉ０ｉお
よびＡ　１２０ｚ　　Ｔ　ｉ　Ｃに対応するものである
。

同図から明らかなように１本発明の磁気ヘッドを構成す
る安定化ＺｒＯ□　（Ａ）はＣＳＳ性に優れ。

高い信頼性を有することがわかる。

ＺｒＣｈを安定化させるためには、　ＹＺ　０３　。

ＭｇＯ，ＣａＯ等の安定化剤を添加するのであるが、こ
れらの安定化剤を添加しない場合には。

２４００℃以上の高温では立方晶（Ｃ相）であり。

約１２００〜２４００°Ｃでは正方晶（を相）となり、
それ以下〜常温では単斜晶（ｍ相）となる。

また上記安定化剤の量が掻めて少ない場合には。

ＺｒＯ，は常温ではｍ相となるが、安定化剤の量の増加
によりＣ相が常温でも存在するようになり。

更に安定化剤の量の増加により常温でもＣ相が存在する
ことになる。従って本発明のスライダにおいては、Ｚｒ
Ｏ，を常温でＣ相とするに足りる安定化剤を含有させる
ことが好ましく、この含有量としてはＹ、０３の場合に
は５〜２０モル％であることが望ましい。ただしＭｇＯ
やＣａＯを同時に含有させても差支えない。

なお上記安定化剤が過剰に含まれた場合には。

立方晶ＺｒＯ２の中にＹ４　Ｚ　ｒ３０１２のようなＺ
ｒＯ□−Ｙ２Ｏ３の化合物が析出して、摺動性の劣化お
よび強度の低下を招来する。従って２０モル％以上のＹ
２Ｏ３を含有させることは望ましくない。一方安定化剤
の量が少ないと、上記のようにＣ相やｍ相が現われ、常
温でｍ相が出現すると体積膨張を伴なう。この結果、ス
ライダへの膜付け、パターン付けの際の数百℃までの加
熱や。

その後の冷却に起因してｍ相が出現し、スライダの反り
やパターンのずれが発生するおそれがある。

よって安定化剤の下限値は５モル％である。

また安定化ＺｒＯ，としては結晶粒径を１２μｍ以下と
すると加工時のチッピングが少なくて望ましい。このよ
うに結晶粒を微細化させるためには、主相中にＩＶａ、
Ｖａ、Ｖｉａ族の元素の炭化物およびアルミナ（酸化ア
ルミニウム）からなる群から選ばれた１種または２種以
上の化合物（炭化物または酸化物）の微粒子を分散させ
ることにより、焼成時におけるＺｒＯ２の結晶粒の成長
を抑制するのが望ましい。第６図に示す安定化ＺｒＯ２
としては、Ｚｒ０ｚ８３モル％、ＹｚＣ）＋７モル％、
　Ａ　Ｉ！ｚ　Ｏ：１５モル％、ＴｉＣ５モル％の組成
のものを使用し、線膨張係数は９０×１０−’／”Ｃ，
ビッカース硬度は１４００ｋｇ／ｍ■２であった。

〔発明の効果〕

本発明は以上記述のような構成および作用であるから、
高い再生出力を示し、形状効果による再生出力のうねり
を生ずることなく、ＣＳＳ性に優れ、かつ高い信頼性を
有するという効果がある。

従って浮上型磁気ヘッドとして工業上の利用価値が極め
て大きい。特にＣｏＮｉスパッタディスク等の薄膜を媒
体とする高密度記録用磁気ディスり装置に使用した場合
には、高出力、高信頼性の磁気ヘッドとして有効である
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例における磁気間隙部の拡大平面
図、第２図（ａｌ〜（ｅｌは同磁気コアの製造工程の説
明図、第３図は同磁気コアを示す拡大斜視図、第４図は
本発明の実施例を示すスライダの斜視図、第５図は相対
再生出力と周波数との関係を示す線図、第６図はディス
ク損傷度と相対ＣＳＳ回数との関係を示す図、第７図は
Ｃ８Ｓサイクルタイムを表わす図、第８図はインダクタ
ンスと周波数との関係を示す線図、第９図は従来の磁気
ヘッドにおける磁気間隙部の拡大平面図である。 １１．１２：基板、　　１３：磁気間隙。 １４．１５：平行部、１６．１７：磁性薄膜。 １８：接合ガラス、　　２８：磁気コア。 ３０ニスライダ。 特許出願人　　日立金属株式会社 代　理　人　　弁理士　森１）寛 ＄　３　区 第　５［２） 第　６　区 相対ＣＳＳ回数 第　　７　　図 ／！′ｌ衷杖　（間Ｈｚ） 第　　９［２］

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気記録媒体との対向面に磁気間隙が出現するよ
   うに基板の上端部を突合せ配設し、前記磁気間隙が磁気
   記録再生トラックとなるように前記基板上端縁部を斜め
   に切除して前記基板上端面部を台形に形成し、前記磁気
   間隙に臨む基板の上端部の少なくとも一方に磁性薄膜を
   成膜し、前記両基板を接合ガラスを介して接合して構成
   した磁気ヘッドを、スライダ中に設けたスリット中に固
   着ガラスを介して埋設固着してなる磁気ディスク装置用
   浮上型磁気ヘッドにおいて、（ｉ）前記磁気間隙に臨む
   基板端面の平均面粗さを４０Å以上でありかつ前記磁性
   薄膜の 膜厚の１０％以下に形成し、 （ｉｉ）磁性薄膜をＡｌ３〜７重量％、Ｓｉ７〜１１重
   量％、Ｆｅ残部を主成分とし、ある いは他の添加物を含有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金で構成
   し、 （ｉｉｉ）基板をＭｎＯ６７〜９０モル％、ＮｉＯ１０
   〜３３モル％を含み岩塩型結 晶構造を有するＭｎＯ−ＮｉＯセラミック ス、あるいはＣａＯ、ＺｒＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｖ
   ＿２Ｏ＿５、ＢａＯ、Ｙ＿２Ｏ＿３およびＣｕＯの１種
   または２種以上を１０モル％以下含 有する上記ＭｎＯ−ＮｉＯセラミックスで 構成し、 （ｉｖ）スライダを線膨張係数８５〜９５×１０＾−＾
   ７／℃の安定化ＺｒＯ＿２で構成し、 （ｖ）接合ガラスを線膨張係数９２〜１０２×１０＾−
   ＾７／℃、軟化点５６０〜６２０℃のガラスで構成し、 （ｖｉ）固着ガラスを線膨張係数８５〜９５×１０＾−
   ＾７／℃、軟化点４３０〜４６０℃のガラスで構成した ことを特徴とする磁気ディスク装置用浮上型磁気ヘッド
   。
2. （２）磁気記録媒体がＣｏ−Ｎｉ系スパッタディスクで
   ある固定磁気ディスク装置に使用する特許請求の範囲第
   １項記載の磁気ディスク装置用浮上型磁気ヘッド。