JPH02263307A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は固定磁気ディスク装置において記録媒体面より
ごく僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関
し、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な、浮
上型複合磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術］ 磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６号及び特公昭５７−５６９号に示されているような浮
上型ヘッドに多く使用されている。この浮上型ヘッドに
おいてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け
、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。

浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダ−下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの回
転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁気
ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時
の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にそ
の表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッ
ドの浮上刃が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝突
するとともにその反動でとび上り、またディスク面に落
ちる。このような運動を何度が繰り返した上で、磁気ヘ
ッドはディスク上を引きずられるようにして停止する。

このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必
要があり、その性能をＣＳＳ性（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔ
ａｒｔＳｔｏｐ　）と呼ぶことが多い。

上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ３Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−ＺｎフェライトでもＢ
ｓは高々５．０ＯＯＧ程度である。

そこでＢｓが８，０ＯＯＧ以上となるように金属磁性薄
膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドとする
のが望ましいことがわかった。この例として特開昭５８
−１４３１１号に開示されているように、フェライトで
構成された浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にの
み高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提
案されている。

〔発明が解決しようとする問題点］ 前述したフェライトのみで構成された浮上型磁気ヘッド
の磁気変換ギャップ部のみに高飽和磁束密度の金属磁性
膜を設けたこの例では磁気変換部に所定の巻線を施した
後のインダクタンスが大きく、そのため共振周波数が低
下し、高周波での記録再生が不利になるという欠点があ
る。ここでインダクタンスが大きいのは磁気ヘッド全体
が磁性体で構成されていることに基づく。従って低イン
ダクタンスとするために磁気回路を小さく構成する必要
がある。このような観点から全体を磁性材料で構成せず
、磁気コアを非磁性のスライダー中に埋設固着した構成
の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許３，５６２，４４４
号に開示された。また本発明者等は特開昭６１−１９９
２１９号にて磁気コアを非磁性スライダー中に埋設した
磁気ヘッドの望ましい形状について提案した。

以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎＺｎフェライトを
基板としてギャップ部に高Ｂｓの薄膜磁性材を成膜した
磁気コアを非磁性スライダー中に埋設したものが優れて
いることがわかった。

このような複合磁気ヘッドの例として本発明者等により
特開昭６０−１５４３１０号に開示されたものがある。

さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先
端部が鋭くとがっており、その上に高Ｂｓ磁性膜を被着
させ平行に研度することにより磁気ギャップを形成して
いるので、所定のトラック幅を得るにはある程度高ＢＳ
磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならないという制約が
ある。

また便れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには磁気
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。

磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれるが
、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低下
しており、Ｇａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ　Ｓｔｒａｇｅ　ＩｎｄｕｓｔｒｙＳｅｒｖｉｃｅ　
（Ｒｉｇｉｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒｉｖｅ　［）　１９８４
年版２、２−６頁の記載によると、浮上量は１０マイク
ロインチ（０，２５μｍ）にまでなっている。かがるサ
ブミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して保
つためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平面
度を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁気
ヘッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流れ
込む空気流により達成されるのであるから、浮上面の平
面度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからであ
る。

上記米国特許３８２３４１６号に記載されたような磁気
ヘッドの場合、浮上を司どる空気ベアリング面はＮｉ−
ＺｎフェライトあるいはＭｎ−Ｚｎフェライトのような
単一部材で形成されているので、良好な平面度を容易に
得ることができる。しかしながら、非磁性のスライダー
に設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラスを
用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング面を
研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおいては
、平面度を良好にするために格別の工夫が必要であるこ
とがわかった。この格別な事情は磁気コア、固着ガラス
および空気ベアリング面を完全に同一平面内にあるよう
に研磨することが著しく困難であることに起因する。

従って磁気ディスク用の磁気ヘッドとして望ましい特性
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐Ｃ３Ｓ性に優れるように良
好な平面度を有することである。

従って本発明の目的は上記望ましい特性を具備する浮上
型複合磁気ヘッドを提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は対向面がそ
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定し
、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設けて
非磁性スライダーのスリット部に固着することにより、
簡単に加工精度よく、良好な空気ヘアリング面の平面度
を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気ヘッ
ドを得ることができることを発見し、本発明に想到した
。

すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは両側にサイ
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にＦｅ−Ａｌ−５ｉ薄膜が形成されており、（ｂ）前記
磁気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠き
が設けられており、前記切り欠きは、トラック面に対し
少なくともギャップ深さＧｄまでの領域において直角に
設けられ、かつその後は任意の曲率をもちながら、前記
切り欠きを設けられた直角面とのなす角度が４０°〜６
０’の範囲内で傾斜させてトラック幅規制させたことを
特徴とするものである。

〔実施例〕

本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。第
１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッドの
全体構成を示す斜視図である。１１は、非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラスで
ある。スライダー１１のサイドレール１５，１６の片側
（図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されている
ので、安定した浮上を実現するためには磁気コア１３が
埋設固着されている部分の平面度を良好に加工すること
が重要である。なおスライダー１１としては熱膨張係数
１０５〜１１５　ｘ　１０−７／”ｃ、空孔率０．５％
以下のＣａＴｉ０．からなる非磁性セラミックを用いる
のが好ましい。

第２図（ａ）は磁気コア１３の拡大斜視図である。

また第２図（ｂ）磁気コアの側面図である２１．２２は
それぞれＭｎ　−ＺｎフェライトからなるＣ型およびＩ
型コア片と称される磁性体であり、２３はＩ型コア片上
に被着されたＦｅ−Ａｌ！、−５ｉ薄膜である。

２４はＣ型コア片２１と■型コア片２２との間に形成さ
れた巻線用の空間であり、その上部にＣ型コア片２１と
■型コア片２２を接合するガラス部２５が設けられてい
る。

磁気コア１３のトラック面にはトラック幅を規制する切
り欠き２６が形成されている。切り欠き２６は磁気コア
１３の長手方向に延在する。これにより磁気ギャップ２
７のトラック幅Ｔｗは任意に設定することができる。な
お磁気ギャップ２７はスパッタリング等により被着され
たＳｉＯ□等のギャップ規制膜により形成されている。

本発明の磁気コア１３において、切り欠き２６の深さＤ
と磁気ギャップ２７の深さＧｄとの間、及び接合ガラス
部２５の残りの厚さＧｗと磁気コアの厚さ軸との間には
それぞれ実質的に次の関係が満たされている必要がある
。

Ｄ、　　≧　Ｇｄ　　　　・・・・・・・・・（１）６
弱　≧　Ｃ匈　　　・・・・・・・・・（２）弐（１）
について、切り欠き２６の深さＤ＋がギャップ深さＧｄ
より小さいとトラック幅Ｔ−の規制の効果が不満足とな
る。すなわちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、
ギャップ先端よりもれる磁界が減少するために、記録の
効率が低下する。また式（２）について、接合ガラス部
２５の残りの厚さＧ−が磁気コアの厚さＣ−より小さい
と、磁気コアの加工時にガラス部２５に亀裂が入ったり
、磁気コア１３をスライダーのスリット部内に固着する
際に両コア片の接合が不安定となるという問題が生ずる
。

高密度記録を達成する上でギャップ長さｉ及びトラック
幅Ｔｗ４よ小さくなる傾向にあり、リジット・ディスク
・ドライブ用としては現在１μｍ以下のＧｌ、及び２０
μｍ以下の’ｈのものが用いられている。一方磁気コア
１３の幅へは０．１〜０．２胴程度である。このような
寸法の磁気コアにおいて、上記条件（１）及び（２）を
実質的に満たすことを前提として、−船釣にギャップ深
さＧｄは２〜２０μｍ、切り欠き深さり、は５〜１０　
ｐｍ　、　Ｄ２は１００〜２５０μｍ１接合ガラス部の
厚さＧｗは１５０〜７００μｍとするのが好ましい。

この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。まず■型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大きｕ
ＭＭｎ−Ｚｎフェライトが望ましい。またガラス接合時
にガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）を減らすために、
熱間静水圧プレス（Ｈｏｔ　ｌ５ｏｓｔａｔｉｃ　Ｐｒ
ｅｓｓ　）法により高密度化されたものを用いるのが好
ましい。特にＢ、。＝　４７００〜５４００Ｇ　、、Ｈ
ｃ＝　０．１〜０．２０ｅ、５　ＭＨｚに於る透磁率８
００〜１３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０
５１２０　Ｘ　１０−’／”ＣのＭｎ　−Ｚｎ多結晶フ
ェライトを用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの
代りに単結晶材を用いても良い。

■型コアプロンク上にはＦｅ−Ｌｆｆ　−３ｉ膜をスパ
ッタリングで被着する。スパッタの条件としては安定な
放電を維持するため５〜１２ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧が
望ましい。また電力は合金ターゲットの温度上昇による
割れを防ぐとともに、８００人／分程度の膜生成速度を
得るために、６００〜１２００Ｗ（直径１５０胴のター
ゲットの例）が望ましい。

Ｆｅ−ＡＮ−５ｉ膜の組成としては高透磁率を得るため
、重量基準で８３〜８６％のＦｅ、５〜８％のＡｌ、８
〜１１％のＳｉが好ましい。特に磁歪定数を小さくする
目的で、重量基準で８３．５〜８５％のＦｅ、５〜７％
の八２．９〜１０．５％のＳｉのものが望ましい。Ｆｅ
−Ａｌ−３ｉ膜には耐食性を向上させる目的で微量の添
加物を加えてもよい。この場合、２重量％以下のＴｉ、
　Ｒｕ、　Ｃｒ等を単独あるいは複合添加するのが望ま
しい。

次に第３図に示すようにＦｅ−Ａｌ−３ｉ薄膜３３を被
着した■型コア片３２にＣ型コア片３１を接触させ、巻
線窓３４中に置いたガラス棒３５を加熱流入させること
により接合する。この場合、好ましい接合ガラスは軟化
点５４０〜６３０°Ｃ１熱膨張係数９４〜１０３　Ｘ　
１０−’／”ｃのものである。

このような物性を示す接合用ガラス（第一のガラス）と
してはＰｂＯ−５ｉＯ□を主成分とし、他に種々の元素
を加えた多くの組合せが考えられるけれども、本発明者
による実験の結果ではＰｂＯ−５ｉＯｚにアルカリ金属
酸化物（Ｋ２Ｏ、シ１２０、Ｎａ　、０等）を加えた系
、又はＰｂＯ−５ｉＯｚ−ＢｚＯ：＋−Ａ乏２０３にア
ルカリ金属酸化物を加えた系が適している。このような
系での好ましい組成範囲は重量基準で、２８〜４９％の
ＳｔＯ□、４４〜５９％のＰｂ０　、７〜１３％のアル
カリ金属酸化物からなる組成、又は２８〜４９％のＳｉ
Ｏ□、５〜１０％の８２０３．７〜１３％のアルカリ金
属酸化物、残部ＰｂＯからなる組成である。また後者の
系には５〜１２％のＡ　ｆｆ　２０３を添加してもよい
。この第一のガラスの特に好ましい一例として重量基準
で３５ＰｂＯ−４５ＳｉＯｚ−８８ｚＯ：＋−７Ａ　ｌ
　ｚｏｓ−５ＫｚＯの組成のもの（軟化点５８０　”Ｃ
１熱膨張係数９５Ｘ　１０−７／”Ｃ）が挙げられる。

このガラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は
５ｋｇ／ｍｍ２であり申し分なく、またＦｅ−Ａｌ２−
Ｓｔ膜の浸食も認められない。

なおり２０３は高湿度下でのガラスの腐食を防止する作
用を有する。しかし逆に８２０３が多すぎるとＦｅ−Ａ
ｌ−５ｉ膜あるいはＭｎ　−Ｚｎフェライトとの濡れ性
が悪くなり、接合強度が保てない。Ａ乏２０３は高温度
下でのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると軟化
点が高くなり接合できなくなる。

アルカリ金属酸化物類はさらにガラスの流動性を調節す
る効果を担っている。

このようなガラスを用い７００〜７６０°Ｃで接合を行
う。この接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることが
できる。

この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア４３をスラ
イダー４１のスリット部４２内に設置するとともに、ガ
ラス棒４８をスライダー４１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア４３の切り欠き４６はスライダ
ーの片端部４４に向けられているので、磁気コア４３が
片端部４４に押し付けられていても、スリット部の内面
との間に隙間４７．４９が形成される。磁気コア４３の
固定はバネ材４５による仮固定で容易に達成される。ガ
ラス棒４８は第二のガラスとして磁気コア４３をスリッ
ト部４２に固着するものであり、かかる第二のガラスと
しては熱膨張係数８７〜９６Ｘ１０−’／’Ｃ１軟化点
３軟化点３７０〜４稈０は、重量基準で７０〜８３％（
７）　ｐｂｏ、３〜１０％０）　Ａｌ２　２０３　、６
　〜１　３％（７）　Ｓ　ｉ　Ｏ　２、４〜１０％ノＢ
２ｏ３のものがあり、特に好ましい一例として７８Ｐｂ
Ｏ　−８Ａ　ｌ　２０３−１０ＳｉＯ□−４８ＺＯ３　
（重量％）がある。このガラスの熱膨張係数は９　１　
Ｘ　１　０−’／’Ｃであり軟化点は４４０°Ｃである
。このガラスを用いて例えば５　３　０　’Ｃで固着す
れば、クラックのない接合を行うことができる。

以上のような第二のガラスによる磁気コアのスリット部
への固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８０°
Ｃに加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その
後磁気ヘッドの空気ベアリング面を研削後研摩加工し、
磁気ヘッドを完成する。

第４図に明確に示されるように、磁気コア４３とスライ
ダーのスリット部４２の一方の内面との隙間は、磁気コ
ア４３の下部においては零であるが（すなわちスライダ
ーのスリット部の一方の内面に磁気コア４３が接触して
いるが）、上部においては４９で示されるように十分な
幅となっている。これにより磁気コア４３は両側に設け
られた第二のガラス層によりスリット部内に強固に固さ
れることになる。

本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。

実ｌ１１支 第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにＭｎ−Ｚ
ｎ多結晶フェライトからなるＣ型コア片及び■型コア片
を作成した。Ｍｎ　−　Ｚｎ多結晶フェライトは熱間静
水圧プレス法により高密度化されたもので、空孔率が０
．１％であり、磁気特性としてはＢＩＯ−５１００Ｇ　
、　Ｈｃ＝０．１５　０ｅ、５　ＭＨｚにおける透磁率
＝９５０であり、また熱膨張係数は１１５　Ｘｌ０−７
／”Ｃであった。

各Ｃ型コアブロック及びＩ型コアブロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。

また■型コアブロック上にマグネトロンスパッタ装置に
よりＦｅ−Ａｌ２−５ｉｌ膜を形成した。マグネトロン
スパッタ装置の投入電力は０．８ｋＷ、アルコン圧ハ８
ｍＴｏｒｒ，基板温度は２００’Ｃであった。

またＦｅ−Ａｆ！、−３ｉ薄膜は重量基準で８５％のＦ
ｅ、６％の八ρ及び９％のＳｉからなる組成を有し、厚
さは２．９μｍであった。この膜の特性はＢｓ　−１１
，０ＯＯＧ　、　Ｈｃ＝　０．３〜０．５０ｅ、５ＭＨ
ｚにおける透磁率−１，０００〜２，０００　、磁歪定
数＝＋ｌＸ１０−６であった。

次にＦｅ−Ａｌ−３ｉｉ膜を形成した■型コアブロック
上にＲＦスパンタ装置を用いて、０．３ｋＨの投入電力
、５　ｍＴｏｒｒのアルゴン圧、１５０°Ｃの基板温度
で０．５μｍの膜厚のＳｉＯ□ギヤシブ規制膜を形成し
た。

さらにＣ型コアブロックとＩ型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。

ＰｂＯ５４重量％ ＳｉＯ□　　　　　　　　　３５．９　　〃に２０　　
　　　　　　　１０．１　　”この第一のガラスの軟化
点は５９７°Ｃ１熱膨張係数は９６　Ｘ　１０−７／”
Ｃであった。第一のガラスによるコアブロックの接合は
電気炉によりＮ２ガス中で３００°Ｃ／時間の昇温速度
で加熱し、７６０°Ｃに３０分間保持することにより行
った。

このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤーソーにより厚
さ１５２μｍに切断した。

次に各磁気コアのトラック幅を規定するために、高剛性
グイサーにより幅１３８．５μｍ、深さ２００μｍの切
り欠きを形成した。

このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。

磁気コアの幅Ｃｗ　　　　　　　１５２８ｍトラック幅
　Ｔｗ　　　　　　　　１３．５μｍギャップ長さＧｆ
ｆ　　　　　　　　０．５５μｍギャップ深さＧｄ　　
　　　　　　　　４μｍ切り欠き深さ貼　　　　　　　
１０μｍ切り欠き深さＤ２１３９μｍ 切り欠き角度θ　　　　　　　　４５゜接合ガラスの厚
さＧ−約２００　ｕｎ 次に熱膨張係数が１０８Ｘ１０−’°Ｃ１空孔率が０．
１５％のＣａＴｉ０．セラミックからなるスライダーの
一方のサイドレールの端部に、長さ１．５　ｍｍ、幅２
２０μｍのスリット部を形成し、その中に上記（〃スコ
アを仮ばねにより固定して、下記組成の第二のガラスに
より固着した。

Ｐｂ０　　　　　　　　　７９．０重量％ＳｉＯ□　　
　　　　　　　　９．Ｏ／ｌ八ｅへ３　　　　　　　　
　　　　６．０　　　〃Ｂ２０３６．０　　〃 第二のガラスの熱膨張係数は９１　Ｘ　１０−’／’Ｃ
１軟化点は４４７°Ｃ１転移点は３７９°Ｃ１屈伏点は
４０６°Ｃであった。これを電気炉でＮ２中３００°Ｃ
／時間の昇温速度で加熱し、５４０　’Ｃの温度に３０
分間保持することによりスリット部と磁気コアとの間隙
に流入させた。このようにして得た磁気ヘッドの空気ベ
アリング面を鏡面研削盤及びラップ機により研削、研摩
し、本発明の浮上型複合磁気ヘッドとした。なおスリッ
ト部の内面と磁気コアの両側部との間隔はそれぞれ６８
μｍ、１３８．５μｍであった。

この磁気ヘッドを用い、Ｃｏ−Ｎｉスバンタ記録媒体（
Ｈｃ＝ＩＬ５００ｅ　）を有する５、２５インチの磁気
ディスクに対して浮上量０．３μｍ、周速１２．１　ｍ
７秒で２．５　Ｍｌｌｚにおける再生出力特性その他の
ヘッド特性を測定した。また比較のためにＦｅ−Ａｌ２
Ｓｉ薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについても、
同じ測定を行った。結果を第１表に示す。

以上の結果から、接合ガラスの厚さが８０〜１００μｍ
の場合（コア厚より実質的に小さい柱台）、切り欠き形
成によるトラック幅出し加工Ｌ’に接合ガラス内に亀裂
が発生し、製品歩留りが（ｐ下することがわかる。

犯引辻ｌ 実施例１においてＩ型コアに被着するＦｅ−ＡｆｆＳｉ
薄膜の厚さを３．８．１２μｍと変化させ、それ以外は
同し方法により磁気コアを作成し、加］時のＦｅ−Ａｎ
−ｓｉｎ膜の剥離及び磁気コアの脱粒について調べた。

またその磁気コアを用いて各仔（気ヘッドを作成し、実
施例１と同じ磁気ディスクにより再生出力特性を測定し
た。結果を第３表に示す。

また本発明の磁気ヘッド（Ａ）及び従来例の磁気ヘッド
（Ｂ）を用いて、上記磁気ディスクに対する記録電流と
オーバーライド特性との関係を求めた。

結果を第５図に示す。

以上の比較から、本発明の磁気ヘッドは優れた再生出力
特性及びヘッド特性を有することがわかる。

」ｊｕ！Ｌｉ 実施例１の磁気コアにおいて接合ガラスの厚さを種々変
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。

（注）×：亀裂が著しく発生 ○：亀裂が僅かに発生 ◎：亀裂が発生せず 以上の結果から゛明らかな通り、Ｆｅ−Ａｊ２−３ｉｌ
膜の膜厚が３μｍおよび８μｍの場合、磁気コアの加工
時になんら問題がないのみならず、磁気ヘッドの特性も
良好であるが、１２μｍとなると加工時に膜剥離やコア
の脱粒が起こり、かつ得られる磁気ヘッドの再生出力特
性も低い。これはＦｅ　−Ａｊ２−５ｉ薄膜が厚すぎる
ために、コア基板と膜との界面に熱膨張係数の差による
大きな応力がかかり、膜の剥離やコア基板の脱粒が発生
するためである。

尖施尉土 実施例１と同様にして磁気コアを作成し、これに５通り
の切り欠き角度を形成した。これらの磁気へンドを用い
実施例１と同様にして磁気ヘッドを作成した。得られた
磁気ヘッドの諸元は以下の通りであった。

磁気コア幅Ｃｗ　　　　　　　　１７８μｍトラック幅
Ｔｗ　　　　　　　　１３．５μｍμｍギヤツブＱ　　
　　　　　０．５５μｍギャップ深さＧｄ　　　　　　
　　　３μｍＦｅ−Ａｆｆｉ−３ｉ膜厚ｔｍａｇ　　　
　　２μｍ接合ガラスの厚さＧ四　　　　３５０μｍ切
り欠き角度　　θ　　　１５°、３０°、４５゜６０°
　７５’　、９０゜ 切り欠き深さ　　Ｄｌ　　　　　　１０μｍ切り欠き深
さ　　ｏｚ　　　　６１４，２８５，１６５゜９５、４
４．７６　ｐｍ これらの磁気ヘッドを用いて、実施例１と同じ測定条件
でヘッド特性を測定した。結果を第４表に示す。

以上の結果から、切り欠き角度θが小さい場合鋭（トラ
ック斜面を切り欠かれるためヘッド特性が向上せず、ま
たθが大きい場合はヘッド効率は良くなるが、正規のト
ランク幅以外へ記録される幅（書きにじみ量）が増大す
る。したがってθは４０°〜６０°の範囲で優れたヘッ
ド特性が得られることがわかる。

〔発明の効果〕

以上に詳述した通り、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは
いわゆる平行型であるとともにトランク面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの角度が
４０°〜６０°の範囲にすることによって、酸化物磁性
材料面に成膜された強磁性金属薄膜の内部ストレス等が
解消される。

また、強磁性薄膜の磁気特性が十分発揮され、高抗磁力
の記録媒体に適用しても電磁変換特性に優れた磁気ヘッ
ドが得られる。さらに、本発明の磁気ヘッドは、加工時
の歩留まりも良好で、しかも信頼性に優れた浮上型複合
磁気ベツドとなっている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図であり、第２図（ａ）は第１図の浮上型複
合磁気ヘッドに組み込まれる磁気コアの一例を示す斜視
図であり、第２図（ｂ）は第２図（ａ）の側面図であり
、 第３図は両コア片を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻
線用窓内に挿入した状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は記録電流とオーバーライド特性との関係を示す
グラフである。 １１ニスライダー　１２ニスリツト、１３：磁気コア、
１４：接合ガラス、１５，１６：サイドレール、２１：
Ｃ型コア片、２２：Ｉ型コア片、２３　：　Ｆｅ−ＡＮ
−５ｉ薄膜、２４：巻線用窓、２５：接合ガラス、２６
：切り欠き、２７：磁気ギャップ、Ｔｗｏ）ラック幅、
Ｇ２：ギャップ長、Ｇｄ：ギャソブ深さ、θ：切り欠き
角度、ＤＩ、Ｄ２：切り欠き深さ、Ｇ四二接合ガラス部
の厚さ、Ｃｗ：磁気コア幅。 第１図 第 図（ＣＩ） ジ ２３Ｆｅ−ＡＩ−５ｉ　Ｊ膜 Ｏ 第 図 （ｂ） 第 図 記録電流（ｍＡｐ−ｐ） 第 図 第 図 手続補正書 （自発） 名称 日立金属株式会社 正する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）両側にサイドレール部を有する非磁性セラミック
   スからなるスライダーと、前記サイドレール部の一方に
   設けられたスリット部と、前記スリット部内にガラスに
   より接合固定された一対のコア片からなる磁気コアとを
   有する浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記一対のコア
   片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャップを形
   成しているとともに前記対向面の磁気ディスク媒体流出
   側のトレーリングエッヂに強磁性薄膜を形成した磁気ヘ
   ッドにおいて、磁気コアのトラック面にトラック幅を規
   制する切り欠きが設けられており、前記切り欠きは、ト
   ラック面に対し少なくともギャップ深さＧｄまでの領域
   におい直角に設けられ、かつその後は前記切り欠きを設
   けられた直角面とのなす角度が４０°〜６０°の範囲内
   で傾斜させてトラック幅規制させたことを特徴とする浮
   上型複合磁気ヘッド。