JPH06203323A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH06203323A JPH06203323A JP14522393A JP14522393A JPH06203323A JP H06203323 A JPH06203323 A JP H06203323A JP 14522393 A JP14522393 A JP 14522393A JP 14522393 A JP14522393 A JP 14522393A JP H06203323 A JPH06203323 A JP H06203323A
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- magnetic
- thin film
- magnetic head
- metal thin
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 磁気ヘッド、接合ガラスの組成物を拡がり性
が良好でラッピング工程が不要で、製造時間、費用の軽
減と生産効率の増大が可能の磁気ヘッドの製造方法を提
供する。 【構成】 磁気記録媒体との接触面に断面形状が突出さ
れた突起部をそれぞれ持つ一対の磁気コア部材を備え、
磁気コア部材１００，１０２中のどの一つの磁気コア部
材の突起部１１６には磁気コア部材を構成するフェライ
トより高い飽和磁速密度を持つ高い強磁性体が被覆さ
れ、突起部の先端部は磁気ギャップを形成し、磁気コア
部材が所定の組成を持つ接合用ガラス１１２で相互結合
して磁気コア部材の突起部１１６はギャップ形成面に対
し垂直に形成し、ここに第１非磁性薄膜１１４ａと第１
非磁性金属薄膜１１４ｂの内膜を積層、この内膜上に高
飽和磁速密度を持つ強磁性金属薄膜１１４ｃを積層、強
磁性金属薄膜上に第２非磁性薄膜１１４ｄと第２非磁性
金属薄膜１１４ｅを積層した構成。
が良好でラッピング工程が不要で、製造時間、費用の軽
減と生産効率の増大が可能の磁気ヘッドの製造方法を提
供する。 【構成】 磁気記録媒体との接触面に断面形状が突出さ
れた突起部をそれぞれ持つ一対の磁気コア部材を備え、
磁気コア部材１００，１０２中のどの一つの磁気コア部
材の突起部１１６には磁気コア部材を構成するフェライ
トより高い飽和磁速密度を持つ高い強磁性体が被覆さ
れ、突起部の先端部は磁気ギャップを形成し、磁気コア
部材が所定の組成を持つ接合用ガラス１１２で相互結合
して磁気コア部材の突起部１１６はギャップ形成面に対
し垂直に形成し、ここに第１非磁性薄膜１１４ａと第１
非磁性金属薄膜１１４ｂの内膜を積層、この内膜上に高
飽和磁速密度を持つ強磁性金属薄膜１１４ｃを積層、強
磁性金属薄膜上に第２非磁性薄膜１１４ｄと第２非磁性
金属薄膜１１４ｅを積層した構成。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ビデオテープレコー
ダに使用するに適合した磁気ヘッド及びその製造方法に
関し、さらに詳しくはトラックの断面を垂直形にして寸
法の精密度が高いトラック幅を得ることができ、磁気フ
ェライトブロックのクラック現状を防止できる磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。
ダに使用するに適合した磁気ヘッド及びその製造方法に
関し、さらに詳しくはトラックの断面を垂直形にして寸
法の精密度が高いトラック幅を得ることができ、磁気フ
ェライトブロックのクラック現状を防止できる磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビデオテープレコーダの記録媒体として
用いられる磁気テープの記録密度が増加することにより
高い残留の磁速密度Ｂｒ及び高い保磁力Ｈｃを持つ磁気
テープ、例えば、金属粉末が結合剤により非磁性器材に
被覆されて磁気記録層を形成する金属磁気テープが多く
使われている。
用いられる磁気テープの記録密度が増加することにより
高い残留の磁速密度Ｂｒ及び高い保磁力Ｈｃを持つ磁気
テープ、例えば、金属粉末が結合剤により非磁性器材に
被覆されて磁気記録層を形成する金属磁気テープが多く
使われている。
【０００３】磁気ヘッドが金属テープとディジタルオー
ディオテープなどに使われる場合、ヘッドの磁気ギャッ
プの磁界強度はこれらテープの高保磁力のため増加され
なくてはならない。それ故にテープに記録された信号を
消去するための磁気消去のヘッドは、もっと高い飽和磁
速密度を持たなくてはならない。
ディオテープなどに使われる場合、ヘッドの磁気ギャッ
プの磁界強度はこれらテープの高保磁力のため増加され
なくてはならない。それ故にテープに記録された信号を
消去するための磁気消去のヘッドは、もっと高い飽和磁
速密度を持たなくてはならない。
【０００４】従って、金属酸化物からなる磁気フェライ
トブロックの磁気ギャップの形成面にスパッタリングに
より高飽和の磁速密度を持つ強磁性の薄膜を積層させた
磁気ヘッドが開発されたことがあるが、これに対し概略
的に説明する。
トブロックの磁気ギャップの形成面にスパッタリングに
より高飽和の磁速密度を持つ強磁性の薄膜を積層させた
磁気ヘッドが開発されたことがあるが、これに対し概略
的に説明する。
【０００５】図５は、従来の技術による磁気ヘッドを示
した斜視図である。図５を参照すれば、一対の磁気コア
部材１０と１２との突き合わされ面の間に磁気ギャップ
１４が形成され、一方の側の磁気コア部材１２には、巻
線用溝１６が形成され、この巻線溝１６にはコイル１８
が巻かれている。
した斜視図である。図５を参照すれば、一対の磁気コア
部材１０と１２との突き合わされ面の間に磁気ギャップ
１４が形成され、一方の側の磁気コア部材１２には、巻
線用溝１６が形成され、この巻線溝１６にはコイル１８
が巻かれている。
【０００６】このような磁気ヘッドはディジタルオーデ
ィオテープレコーダ、ディジタルビデオテープレコーダ
または８ｍｍビデオテープレコーダなどに使われてお
り、一対の磁気コア部材１０，１３はＭｎＺｎ系の単結
晶フェライトなどの強磁性体とからなり、磁気ギャップ
１４には例えば、ＳｉＯ2 からなる非磁性の薄膜が介在
されている。
ィオテープレコーダ、ディジタルビデオテープレコーダ
または８ｍｍビデオテープレコーダなどに使われてお
り、一対の磁気コア部材１０，１３はＭｎＺｎ系の単結
晶フェライトなどの強磁性体とからなり、磁気ギャップ
１４には例えば、ＳｉＯ2 からなる非磁性の薄膜が介在
されている。
【０００７】しかし、このような従来の磁気ヘッドは一
対の磁気コア部材１０，１２を接合する場合に接合ガラ
スを使うが、このような接合の時にＢｉＯ2 が接合ガラ
スにより接触されて接合ガラスと一体化される現状が発
生した。
対の磁気コア部材１０，１２を接合する場合に接合ガラ
スを使うが、このような接合の時にＢｉＯ2 が接合ガラ
スにより接触されて接合ガラスと一体化される現状が発
生した。
【０００８】このために、結合温度において溶融するよ
うになり磁気ギャップ１４の長さが変化して磁気の特性
が劣化されるという問題点があった。
うになり磁気ギャップ１４の長さが変化して磁気の特性
が劣化されるという問題点があった。
【０００９】このような問題点を解決するために、特開
昭６２−２９５２０４号には磁気ギャップの接触を防止
して磁気特性の劣化を起こさないようにした磁気ヘッド
が記載されている。
昭６２−２９５２０４号には磁気ギャップの接触を防止
して磁気特性の劣化を起こさないようにした磁気ヘッド
が記載されている。
【００１０】図６Ａは、このように磁気ギャップの浸蝕
を防止するための従来の磁気ヘッドを示した斜視図で、
この磁気ヘッドは、フェライトなどの強磁性の材料から
なる一対の磁気コア部材２０と２２を包含し、磁気コア
部材２０には巻線溝２４と補強溝２６が形成されてお
り、巻線溝２４には、コイル２８が巻かれている。一対
の磁気コア部材２０と２２の対向面には、トラック幅の
規制切欠溝２９が形成され、この切欠溝２９と補強溝２
６には所定の溶融点を持つ接合用ガラス３０が充填され
て、この接合用ガラス３０により一対の磁気コア部材２
０と２２が相互接合されることができる。
を防止するための従来の磁気ヘッドを示した斜視図で、
この磁気ヘッドは、フェライトなどの強磁性の材料から
なる一対の磁気コア部材２０と２２を包含し、磁気コア
部材２０には巻線溝２４と補強溝２６が形成されてお
り、巻線溝２４には、コイル２８が巻かれている。一対
の磁気コア部材２０と２２の対向面には、トラック幅の
規制切欠溝２９が形成され、この切欠溝２９と補強溝２
６には所定の溶融点を持つ接合用ガラス３０が充填され
て、この接合用ガラス３０により一対の磁気コア部材２
０と２２が相互接合されることができる。
【００１１】磁気コア部材２２のトラック幅規制の切欠
溝２９を含む突き合わせ面にはＳｉＯ2 を含む積層膜３
１が形成されている。この積層膜３１は、図６Ｂに示し
たごとく、磁気コア部材２２の表面から順次的にクロム
からなる第１非磁性の金属薄膜３１ａ（約２００Å）、
センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）からなる強磁性薄
膜３１ｂ（約２．６μｍ）、ＳｉＯ2 からなる第１非磁
性薄膜３１ｃ（約１．８μｍ）、クロムＣｒからなる第
２非磁性金属膜３１ｄ（約１．２〜１．３μｍ）及びＳ
ｉＯ2 からなる第２非磁性薄膜３１ｅ（約２００〜５０
０Å）とからなる。
溝２９を含む突き合わせ面にはＳｉＯ2 を含む積層膜３
１が形成されている。この積層膜３１は、図６Ｂに示し
たごとく、磁気コア部材２２の表面から順次的にクロム
からなる第１非磁性の金属薄膜３１ａ（約２００Å）、
センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）からなる強磁性薄
膜３１ｂ（約２．６μｍ）、ＳｉＯ2 からなる第１非磁
性薄膜３１ｃ（約１．８μｍ）、クロムＣｒからなる第
２非磁性金属膜３１ｄ（約１．２〜１．３μｍ）及びＳ
ｉＯ2 からなる第２非磁性薄膜３１ｅ（約２００〜５０
０Å）とからなる。
【００１２】ここで、第１非磁性金属薄膜３１ａは、磁
気フェライトコア部材２２とセンダスト３１ｂとの接着
強度を向上させるために使われ、ＳｉＯ2 からなる第１
非磁性薄膜３１ｃとクロムＣｒからなる第２非磁性金属
薄膜は磁気ギャップを形成するように用いられる。
気フェライトコア部材２２とセンダスト３１ｂとの接着
強度を向上させるために使われ、ＳｉＯ2 からなる第１
非磁性薄膜３１ｃとクロムＣｒからなる第２非磁性金属
薄膜は磁気ギャップを形成するように用いられる。
【００１３】このように、磁気ギャップの形成のために
ＳｉＯ2 からなる第１非磁性薄膜３１ｃをクロムＣｒか
らなる第２非磁性金属薄膜３１ｄでかぶせ、これらの積
層膜の前、後にそれぞれクロムＣｒからなる第１非磁性
金属薄膜３１ａ、センダスト３１ｂ及びＳｉＯ2 からな
る第２非磁性薄膜を積層することにより、接合のときに
磁気ギャップを形成する第１非磁性薄膜３１ｃのＳｉＯ
2 と接合ガラス３０との反応を小さくすることができる
ので、磁気ギャップの長さを少し変化させることにより
磁気特性の劣化を防止するようにしている。
ＳｉＯ2 からなる第１非磁性薄膜３１ｃをクロムＣｒか
らなる第２非磁性金属薄膜３１ｄでかぶせ、これらの積
層膜の前、後にそれぞれクロムＣｒからなる第１非磁性
金属薄膜３１ａ、センダスト３１ｂ及びＳｉＯ2 からな
る第２非磁性薄膜を積層することにより、接合のときに
磁気ギャップを形成する第１非磁性薄膜３１ｃのＳｉＯ
2 と接合ガラス３０との反応を小さくすることができる
ので、磁気ギャップの長さを少し変化させることにより
磁気特性の劣化を防止するようにしている。
【００１４】そして、図７Ａには、図６Ａに示した磁気
ヘッドと類似した磁気ヘッドが示しているが、図７Ａに
示した磁気ヘッドは、トラック幅規制切欠溝４９を半円
形でない傾斜形に形成させたことを除外すれば、図６Ａ
に示した磁気ヘッドと類似した性能を持つ。
ヘッドと類似した磁気ヘッドが示しているが、図７Ａに
示した磁気ヘッドは、トラック幅規制切欠溝４９を半円
形でない傾斜形に形成させたことを除外すれば、図６Ａ
に示した磁気ヘッドと類似した性能を持つ。
【００１５】従って、図７Ａ及び図７Ｂで図６Ａ及び図
６Ｂと類似した参照番号は、類似した構造を持ち、それ
による機能もまた類似するのでそれらに対する詳細な説
明は省略する。
６Ｂと類似した参照番号は、類似した構造を持ち、それ
による機能もまた類似するのでそれらに対する詳細な説
明は省略する。
【００１６】図９Ａ〜Ｃ及び図１０Ａ〜Ｃは、図６Ａに
示した磁気ヘッドの製造工程をそれぞれ示したもので、
フェライトなどの強磁性の材料を切断して所定の直四角
形状からなる一対の磁気コアブロック２０ａと２２ａ
は、少なくともその一方の側に、例えば、磁気コアブロ
ック２２ａの突き合わせられる面をなめらかに研磨加工
したあとに図９Ａに示したごとく、磁気コアブロック２
０ａ，２２ａなどの長さの方向を沿って所定の間隔にト
ラック幅規制切欠溝２９を形成させ、磁気コアブロック
２０ａには、巻線溝２４と補強溝２６とをそれぞれその
長さの方向へ連績されるように形成する。
示した磁気ヘッドの製造工程をそれぞれ示したもので、
フェライトなどの強磁性の材料を切断して所定の直四角
形状からなる一対の磁気コアブロック２０ａと２２ａ
は、少なくともその一方の側に、例えば、磁気コアブロ
ック２２ａの突き合わせられる面をなめらかに研磨加工
したあとに図９Ａに示したごとく、磁気コアブロック２
０ａ，２２ａなどの長さの方向を沿って所定の間隔にト
ラック幅規制切欠溝２９を形成させ、磁気コアブロック
２０ａには、巻線溝２４と補強溝２６とをそれぞれその
長さの方向へ連績されるように形成する。
【００１７】その次に、図９Ｂに示す磁気コアブロック
２２ａの上には、図６Ｂに示したごとき、積層膜すなわ
ち第１非磁性金属薄膜３１ａ、センダスト３１ｂ、第１
非磁性薄膜３１ｃ、第２非磁性金属薄膜３１ｄ及び第２
非磁性薄膜３１ｅをスパタリングのような適宜な方法で
形成させる。
２２ａの上には、図６Ｂに示したごとき、積層膜すなわ
ち第１非磁性金属薄膜３１ａ、センダスト３１ｂ、第１
非磁性薄膜３１ｃ、第２非磁性金属薄膜３１ｄ及び第２
非磁性薄膜３１ｅをスパタリングのような適宜な方法で
形成させる。
【００１８】また、磁気コアブロック２０ａのトラック
幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び補強溝２６の上には
ＳｉＯ2 −ＰｂＯ系のガラス３０ａをたなに上げて置
く。
幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び補強溝２６の上には
ＳｉＯ2 −ＰｂＯ系のガラス３０ａをたなに上げて置
く。
【００１９】このように、たなに上げられているＳｉＯ
2 ３０ａを１次に加熱溶融させて、図９Ｃのように、ト
ラック幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び補強溝２６に
ＳｉＯ2 ３０ａを充填したあと、ＳｉＯ2 ３０ａを研削
したあと、トラック幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び
補強溝２６から外へ出るＳｉＯ2 ３０ａを研磨などで除
去する。
2 ３０ａを１次に加熱溶融させて、図９Ｃのように、ト
ラック幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び補強溝２６に
ＳｉＯ2 ３０ａを充填したあと、ＳｉＯ2 ３０ａを研削
したあと、トラック幅規制切欠溝２９と巻線溝２４及び
補強溝２６から外へ出るＳｉＯ2 ３０ａを研磨などで除
去する。
【００２０】そのあとに磁気コアブロック２０ａの突き
合せ面にＳｉＯ2 ３０ａなどでスパタリングしたあと、
図１０Ｂに示すように磁気コアブロック２０ａ，２２ａ
などを突き合わせてＳｉＯ2 ３０ａの溶融温度で２次加
熱することにより磁気コアブロック２０ａ，２２ａなど
がＳｉＯ2 ３０ａにより接合される。
合せ面にＳｉＯ2 ３０ａなどでスパタリングしたあと、
図１０Ｂに示すように磁気コアブロック２０ａ，２２ａ
などを突き合わせてＳｉＯ2 ３０ａの溶融温度で２次加
熱することにより磁気コアブロック２０ａ，２２ａなど
がＳｉＯ2 ３０ａにより接合される。
【００２１】接合が終わった磁気コアブロック２０ａ，
２２ａなどを図１０Ｂに示したごとく、切断線Ｃを沿っ
て切開すると共に補強溝２６の下側部にある不必要な部
分を切断線Ｄを沿って切開することにより図１０Ｃのよ
うに少なくとも一つ以上の半製品の磁気ヘッドを得るこ
とができ、そのあとに半製品の磁気ヘッドは磁気記録媒
体との接触面が円弧形状に研磨され、巻線溝２４にコイ
ル２８が巻かれるので図６Ａに示したごとき構造を持つ
磁気ヘッドを得ることができる。
２２ａなどを図１０Ｂに示したごとく、切断線Ｃを沿っ
て切開すると共に補強溝２６の下側部にある不必要な部
分を切断線Ｄを沿って切開することにより図１０Ｃのよ
うに少なくとも一つ以上の半製品の磁気ヘッドを得るこ
とができ、そのあとに半製品の磁気ヘッドは磁気記録媒
体との接触面が円弧形状に研磨され、巻線溝２４にコイ
ル２８が巻かれるので図６Ａに示したごとき構造を持つ
磁気ヘッドを得ることができる。
【００２２】しかし、図６Ａと図７Ａに示した従来の磁
気ヘッドは次のような欠点があった。
気ヘッドは次のような欠点があった。
【００２３】図２Ａと図３Ａに示した構造を持つ従来の
技術の磁気ヘッドのトラック幅規制切欠溝２９，４９の
それぞれの形状は図８Ａと図８Ｂとに示している。先
ず、図８Ａのようなトラック幅規制切欠卯溝２９を持つ
磁気ヘッドにおいて、図９Ａ〜Ｃ及び図１１Ａ〜Ｃを参
照してすでに説明したごとく、トラック幅規制切欠溝２
９を含む磁気コアブロック２０ａの上には接合用のガラ
ス棒が置かれて溶ける。その次に、溶けられたガラスを
除去するためにラッピングのような研磨加工をすること
になるが、このラッピングのときにすでに形成された磁
気コアブロック３０ａの最上側部分であるトラック幅Ｔ
ｗが増すことがある。すなわち、ラッピング前のトラッ
ク幅Ｔｗの長さがＬ1 であったと仮定する場合に、ラッ
ピング作業が誤り遂行されれば、実際のトラック幅Ｔｗ
はＬ2 になるので最終的に形成されるトラック幅は増え
るようになる。
技術の磁気ヘッドのトラック幅規制切欠溝２９，４９の
それぞれの形状は図８Ａと図８Ｂとに示している。先
ず、図８Ａのようなトラック幅規制切欠卯溝２９を持つ
磁気ヘッドにおいて、図９Ａ〜Ｃ及び図１１Ａ〜Ｃを参
照してすでに説明したごとく、トラック幅規制切欠溝２
９を含む磁気コアブロック２０ａの上には接合用のガラ
ス棒が置かれて溶ける。その次に、溶けられたガラスを
除去するためにラッピングのような研磨加工をすること
になるが、このラッピングのときにすでに形成された磁
気コアブロック３０ａの最上側部分であるトラック幅Ｔ
ｗが増すことがある。すなわち、ラッピング前のトラッ
ク幅Ｔｗの長さがＬ1 であったと仮定する場合に、ラッ
ピング作業が誤り遂行されれば、実際のトラック幅Ｔｗ
はＬ2 になるので最終的に形成されるトラック幅は増え
るようになる。
【００２４】図８Ｂの場合も上述したものと同様にトラ
ック幅が増すことがある。従って、磁気コアブロック２
０または４０のラッピングのあとトラック幅Ｔｗは磁気
コアブロック２２または４２の形成されたトラック幅よ
り大きくなるので製品の不良原因になるだけでなく生産
効率が低くなる問題点があった。
ック幅が増すことがある。従って、磁気コアブロック２
０または４０のラッピングのあとトラック幅Ｔｗは磁気
コアブロック２２または４２の形成されたトラック幅よ
り大きくなるので製品の不良原因になるだけでなく生産
効率が低くなる問題点があった。
【００２５】一方、磁気フェライトコア部材２０とＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト）３１ｂとの接着強度を
恒常させるためにクロムＣｒからなる非磁性金属薄膜３
１ａが使われているが、強磁性金属薄膜であるセンダス
ト３１ｂと非磁性金属薄膜３１ａの熱膨脹係数が相異な
るため（すなわち、クロムＣｒの熱膨脹係数は約７０×
１０-6／℃であり、センダストの熱膨脹係数は約１４０
〜１５０×１０-7／℃であってクロムＣｒがセンダスト
より熱膨脹係数がずっと大きいため）、磁気フェライト
コア部材内に微細なクラックが図１１のように発生され
ることが観察された。
−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト）３１ｂとの接着強度を
恒常させるためにクロムＣｒからなる非磁性金属薄膜３
１ａが使われているが、強磁性金属薄膜であるセンダス
ト３１ｂと非磁性金属薄膜３１ａの熱膨脹係数が相異な
るため（すなわち、クロムＣｒの熱膨脹係数は約７０×
１０-6／℃であり、センダストの熱膨脹係数は約１４０
〜１５０×１０-7／℃であってクロムＣｒがセンダスト
より熱膨脹係数がずっと大きいため）、磁気フェライト
コア部材内に微細なクラックが図１１のように発生され
ることが観察された。
【００２６】このようなクラックは、初期には磁気特性
の劣化にそれほど大きな問題がないか、時間が経過する
ことによりクラックが漸次さらに大きくなって強磁性金
属薄膜が剥離され、磁気フェライトコア部材が壊れるよ
うになる問題点があった。
の劣化にそれほど大きな問題がないか、時間が経過する
ことによりクラックが漸次さらに大きくなって強磁性金
属薄膜が剥離され、磁気フェライトコア部材が壊れるよ
うになる問題点があった。
【００２７】また、フェライトコアの部材内に発生され
たクラックは、磁速密度に影響をあたえるもので磁気ヘ
ッドの消去効率が急激に減少する問題点があった。
たクラックは、磁速密度に影響をあたえるもので磁気ヘ
ッドの消去効率が急激に減少する問題点があった。
【００２８】また、従来の磁気ヘッドは、図９Ａ〜Ｃ及
び図１０Ａ〜Ｃに示すような工程で製造されるが、この
製造方法はトラック、巻線溝及び補強溝形成、スパタリ
ングによる積層膜形成接合ガラスモールディング、ガラ
ス研削、ラッピング、磁気コアブロック結合及びガラス
接合のような複雑な工程を含むので製造時間及び製造費
用が相当に所要される問題点があった。
び図１０Ａ〜Ｃに示すような工程で製造されるが、この
製造方法はトラック、巻線溝及び補強溝形成、スパタリ
ングによる積層膜形成接合ガラスモールディング、ガラ
ス研削、ラッピング、磁気コアブロック結合及びガラス
接合のような複雑な工程を含むので製造時間及び製造費
用が相当に所要される問題点があった。
【００２９】その上に、超精密を要する接合ガラス研削
及びラッピングのような工程を必ず遂行しなければなら
ないが、このときに工程に瑕疵ある場合に相互結合され
た磁気コアブロックのトラック幅が相異して磁気ヘッド
の不良率が増加する問題点があった。
及びラッピングのような工程を必ず遂行しなければなら
ないが、このときに工程に瑕疵ある場合に相互結合され
た磁気コアブロックのトラック幅が相異して磁気ヘッド
の不良率が増加する問題点があった。
【００３０】また、接合ガラスは、２個の磁気フェライ
ト部材を相互固く接合できる硬度、拡がり性を持たなけ
ればならなく、気泡が発生されないようにしなければな
らないのに、従来の技術による磁気ヘッドに用いられる
接合ガラスは積層膜との反応により気泡を発生するの
で、このような気泡はガラスの中に囲まれ孔になって記
録媒体との接触面に現われるため記録媒体のひっかき現
状が発生される問題点があった。
ト部材を相互固く接合できる硬度、拡がり性を持たなけ
ればならなく、気泡が発生されないようにしなければな
らないのに、従来の技術による磁気ヘッドに用いられる
接合ガラスは積層膜との反応により気泡を発生するの
で、このような気泡はガラスの中に囲まれ孔になって記
録媒体との接触面に現われるため記録媒体のひっかき現
状が発生される問題点があった。
【００３１】
【発明が解決しようとする課題】従って、この発明の目
的は、磁気ヘッドの不良率を減らし生産効率を向上させ
るための磁気ヘッドを提供することにある。
的は、磁気ヘッドの不良率を減らし生産効率を向上させ
るための磁気ヘッドを提供することにある。
【００３２】この発明の他の目的は、磁気フェライトコ
ア部材の内膜を非磁性酸化物と非磁性金属薄膜で形成さ
せてクラックの発生を防止することにより磁気ヘッドの
消去効率を極大化するための磁気ヘッドを提供すること
にある。
ア部材の内膜を非磁性酸化物と非磁性金属薄膜で形成さ
せてクラックの発生を防止することにより磁気ヘッドの
消去効率を極大化するための磁気ヘッドを提供すること
にある。
【００３３】この発明の又他の目的は、接合ガラスの組
成物を拡がり性が良好で気泡の発生がなく、ラッピング
のような高精密度を要する工程が不要で、製造時間及び
製造費用を軽減させることができ、生産効率を増大させ
ることができる磁気ヘッドの製造方法を提供することに
ある。
成物を拡がり性が良好で気泡の発生がなく、ラッピング
のような高精密度を要する工程が不要で、製造時間及び
製造費用を軽減させることができ、生産効率を増大させ
ることができる磁気ヘッドの製造方法を提供することに
ある。
【００３４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明は、磁気記録媒体との接触面に断面形状が
突出された突起部をそれぞれ持つ一対の磁気コア部材を
備え、磁気コア部材中のいづれか一つの磁気コア部材の
突起部には磁気コア部材を構成するフェライトより高い
飽和磁速密度を持つ高い強性体が被覆され、突起部の先
端部は磁気ギャップを形成し、磁気コア部材が所定の組
成を持つ接合用ガラスにより相互結合されるようにし、
磁気コア部材の突起部はギャップの形成面に対し垂直に
形成され、この垂直突起部には第１非磁性薄膜と第１非
磁性金属薄膜からなる内膜が積層され、この内膜の上に
は高飽和磁速密度を持つ強磁性金属薄膜が積層され、強
磁性金属薄膜の上には第２非磁性薄膜と第２非磁性金属
薄膜が積層されている点にある。
に、この発明は、磁気記録媒体との接触面に断面形状が
突出された突起部をそれぞれ持つ一対の磁気コア部材を
備え、磁気コア部材中のいづれか一つの磁気コア部材の
突起部には磁気コア部材を構成するフェライトより高い
飽和磁速密度を持つ高い強性体が被覆され、突起部の先
端部は磁気ギャップを形成し、磁気コア部材が所定の組
成を持つ接合用ガラスにより相互結合されるようにし、
磁気コア部材の突起部はギャップの形成面に対し垂直に
形成され、この垂直突起部には第１非磁性薄膜と第１非
磁性金属薄膜からなる内膜が積層され、この内膜の上に
は高飽和磁速密度を持つ強磁性金属薄膜が積層され、強
磁性金属薄膜の上には第２非磁性薄膜と第２非磁性金属
薄膜が積層されている点にある。
【００３５】この発明による磁気ヘッドによれば、磁気
コア部材は、高い透磁率を持つ磁性体であるＭｎ−Ｚｎ
フェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、結晶化ガラス、セ
ラミックなどが用いられることもできる。
コア部材は、高い透磁率を持つ磁性体であるＭｎ−Ｚｎ
フェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、結晶化ガラス、セ
ラミックなどが用いられることもできる。
【００３６】この発明による磁気ヘッドの強磁性金属薄
膜材料では、蒸着またはスパタリングなどの薄膜形成の
技術で形成される非結晶磁性合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合
金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金または窒化鉄などの
ような高い飽和磁速密度を持つことが望ましい。
膜材料では、蒸着またはスパタリングなどの薄膜形成の
技術で形成される非結晶磁性合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合
金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金または窒化鉄などの
ような高い飽和磁速密度を持つことが望ましい。
【００３７】非磁性薄膜は、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔ
ａ2 Ｏ5 中のいづれか一つで形成されるとか２個以上が
混合されて用いられることもできる。そして、非磁性金
属薄膜は、クロムＣｒ、チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ
中のいづれか一つで形成されることが望ましい。
ａ2 Ｏ5 中のいづれか一つで形成されるとか２個以上が
混合されて用いられることもできる。そして、非磁性金
属薄膜は、クロムＣｒ、チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ
中のいづれか一つで形成されることが望ましい。
【００３８】この発明による磁気ヘッドの積層膜におい
て、第１非磁性薄膜と第１非磁性金属薄膜からなる内膜
はクラック発生を効率的に予防し磁気特性の劣化を惹起
させない程度の厚さを持つことが望ましいが、内膜の厚
さは０．０１μｍ〜０．０３μｍが望ましい。
て、第１非磁性薄膜と第１非磁性金属薄膜からなる内膜
はクラック発生を効率的に予防し磁気特性の劣化を惹起
させない程度の厚さを持つことが望ましいが、内膜の厚
さは０．０１μｍ〜０．０３μｍが望ましい。
【００３９】別のこの発明は、高透磁率材料からなる一
対の磁気フェライトブロックのギャップ形成側の面に多
数のトラック幅規制用の溝を形成して隣接されたトラッ
ク幅規制溝の間に垂直形の突出部が形成されるようにす
る段階と、磁気フェライトブロックを一つに一体化する
ために前記ブロック中のいづれか一つのブロックのギャ
ップ形成側の面にトラック幅規制溝と直交するコイル巻
線溝を形成する段階と、トラック幅規制溝と垂直形突出
部の表面が形成されたいづれか一つの磁気フェライトブ
ロックの上に非磁性酸化物からなる第１非磁性薄膜、非
磁性金属物質からなる第１非磁性金属薄膜、高飽和磁速
密度を持つ物質からなる強磁性金属薄膜、第１非磁性薄
膜と同一な物質からなる第２非磁性薄膜及び第１非磁性
金属薄膜と同一な物質からなる第２非磁性金属薄膜を順
次的に積層させる段階と、一対の磁気コアブロックのギ
ャップ形成面を接合用ガラスを使用して２個の磁気フェ
ライトブロックを所定の位置に切断して一対の磁気コア
部材からなる磁気ヘッドを得る段階と、前記磁気ヘッド
の磁気記録媒体の接触面を円弧の形態に研削する段階と
からなることを特徴とする。
対の磁気フェライトブロックのギャップ形成側の面に多
数のトラック幅規制用の溝を形成して隣接されたトラッ
ク幅規制溝の間に垂直形の突出部が形成されるようにす
る段階と、磁気フェライトブロックを一つに一体化する
ために前記ブロック中のいづれか一つのブロックのギャ
ップ形成側の面にトラック幅規制溝と直交するコイル巻
線溝を形成する段階と、トラック幅規制溝と垂直形突出
部の表面が形成されたいづれか一つの磁気フェライトブ
ロックの上に非磁性酸化物からなる第１非磁性薄膜、非
磁性金属物質からなる第１非磁性金属薄膜、高飽和磁速
密度を持つ物質からなる強磁性金属薄膜、第１非磁性薄
膜と同一な物質からなる第２非磁性薄膜及び第１非磁性
金属薄膜と同一な物質からなる第２非磁性金属薄膜を順
次的に積層させる段階と、一対の磁気コアブロックのギ
ャップ形成面を接合用ガラスを使用して２個の磁気フェ
ライトブロックを所定の位置に切断して一対の磁気コア
部材からなる磁気ヘッドを得る段階と、前記磁気ヘッド
の磁気記録媒体の接触面を円弧の形態に研削する段階と
からなることを特徴とする。
【００４０】この発明による磁気ヘッドの製造方法にお
いて、磁気フェライトブロックの接合に用いられるガラ
スの組成物は１５〜４０重量％のＳｉＯ2 、４５〜７５
重量％のＰｂＯ、０〜１５重量％のＺｎＯ、０〜３重量
％のＫ2 Ｏ、０〜６重量％のＮａ2 Ｏ、０〜３重量％の
Ａｌ2 Ｏ3 、５〜２０重量％のＢｉ2 Ｏ3 及び１〜２重
量％のＢ2 Ｏ3 を含むことにより接合面に対する拡がり
性が優れ、気泡が発生されないようにすることが望まし
い。
いて、磁気フェライトブロックの接合に用いられるガラ
スの組成物は１５〜４０重量％のＳｉＯ2 、４５〜７５
重量％のＰｂＯ、０〜１５重量％のＺｎＯ、０〜３重量
％のＫ2 Ｏ、０〜６重量％のＮａ2 Ｏ、０〜３重量％の
Ａｌ2 Ｏ3 、５〜２０重量％のＢｉ2 Ｏ3 及び１〜２重
量％のＢ2 Ｏ3 を含むことにより接合面に対する拡がり
性が優れ、気泡が発生されないようにすることが望まし
い。
【００４１】
【実施例】以下、添付した図面を参照してこの発明によ
る磁気ヘッド及びその製造方法の望ましい実施例を詳細
に説明する。
る磁気ヘッド及びその製造方法の望ましい実施例を詳細
に説明する。
【００４２】図１Ａは、この発明による磁気ヘッドを示
した斜視図であるが、強磁性の材料からなる一対の磁気
コア部材１００と１０２の一方の側、例えば、磁気コア
部材１０２には巻線溝１０４と補強溝１０６が形成され
ている。この巻線溝１０４には、コイル１０８が巻かれ
ている。磁気コア部材１００と１０２は、フェライトの
ような磁性材料が用いられるが、例えば、高い透磁率を
持つ磁性材料であるＮｉ−Ｚｎフェライト、または結晶
化ガラス、セラミックなどの非磁性材が使われることも
できる。
した斜視図であるが、強磁性の材料からなる一対の磁気
コア部材１００と１０２の一方の側、例えば、磁気コア
部材１０２には巻線溝１０４と補強溝１０６が形成され
ている。この巻線溝１０４には、コイル１０８が巻かれ
ている。磁気コア部材１００と１０２は、フェライトの
ような磁性材料が用いられるが、例えば、高い透磁率を
持つ磁性材料であるＮｉ−Ｚｎフェライト、または結晶
化ガラス、セラミックなどの非磁性材が使われることも
できる。
【００４３】一対の磁気コア部材１００と１０２の対向
面には、トラック幅規制切欠溝１１０が形成されるが、
この切欠溝１１０と補強溝１０６には接合ガラス１１２
が充填されている。この接合ガラス１１２は、磁気コア
部材１００，１０２を固く接合する。
面には、トラック幅規制切欠溝１１０が形成されるが、
この切欠溝１１０と補強溝１０６には接合ガラス１１２
が充填されている。この接合ガラス１１２は、磁気コア
部材１００，１０２を固く接合する。
【００４４】磁気コア部材１００の突出部には、ＳｉＯ
2 を含む積層膜１１４が形成されているが、この積層膜
１１４は図１Ｂに拡大して示したごとく、磁気コア部材
１１０の突起部の表面から非磁性物質からなる第１非磁
性薄膜１１４ａ、非磁性金属物質からなる第１非磁性金
属薄膜１１４ｂ、強磁性体からなる強磁性金属薄膜１１
４ｃ、第１非磁性薄膜１１４ａと同一な物質からなる第
２非磁性薄膜１１４ｄ及び第１非磁性薄膜１１４ｂと同
一な物質からなる第２非磁性金属薄膜１１４ｅが順次的
に積層されている。
2 を含む積層膜１１４が形成されているが、この積層膜
１１４は図１Ｂに拡大して示したごとく、磁気コア部材
１１０の突起部の表面から非磁性物質からなる第１非磁
性薄膜１１４ａ、非磁性金属物質からなる第１非磁性金
属薄膜１１４ｂ、強磁性体からなる強磁性金属薄膜１１
４ｃ、第１非磁性薄膜１１４ａと同一な物質からなる第
２非磁性薄膜１１４ｄ及び第１非磁性薄膜１１４ｂと同
一な物質からなる第２非磁性金属薄膜１１４ｅが順次的
に積層されている。
【００４５】図１Ｂにおいて、第１非磁性薄膜１１４ａ
は、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2Ｏ5 中のいづれか一
つに形成されることもでき、第２非磁性金属薄膜１１４
ｂはクロムＣｒ、チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のい
づれか一つに形成されることもできる。
は、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2Ｏ5 中のいづれか一
つに形成されることもでき、第２非磁性金属薄膜１１４
ｂはクロムＣｒ、チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のい
づれか一つに形成されることもできる。
【００４６】また、強磁性金属薄膜１１４ｃは、物理的
蒸着またはスパタリングなどの薄膜形成技術に形成され
る非晶質磁性合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金（センダス
ト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金、窒化鉄などの高い飽和磁速密度
を持つ強磁性体で構成されることもできる。
蒸着またはスパタリングなどの薄膜形成技術に形成され
る非晶質磁性合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金（センダス
ト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金、窒化鉄などの高い飽和磁速密度
を持つ強磁性体で構成されることもできる。
【００４７】第２非磁性薄膜１１４ｄは、第１非磁性薄
膜１１４ａと同一な材料に構成されることが望ましい
が、これは、例えば、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ
5 中のいづれか一つに形成されることもできる。そし
て、第２非磁性金属薄膜１１４ｂと同一なクロムＣｒ、
チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のいづれか一つに形成
されることもできる。
膜１１４ａと同一な材料に構成されることが望ましい
が、これは、例えば、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ
5 中のいづれか一つに形成されることもできる。そし
て、第２非磁性金属薄膜１１４ｂと同一なクロムＣｒ、
チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のいづれか一つに形成
されることもできる。
【００４８】一方、これらの積層膜１１４において、第
１非磁性薄膜１１４ａが０．００５μｍ以上、第１非磁
性薄膜１１４ｂが０．００５μｍ以上、強磁性金属薄膜
１１４ｃは２．０〜３．０μｍ、第２非磁性薄膜１１４
ｄと第２非磁性金属薄膜１１４ｅはそれぞれ２．０μｍ
と１．２μｍ以上の厚さを持つことが望ましい。
１非磁性薄膜１１４ａが０．００５μｍ以上、第１非磁
性薄膜１１４ｂが０．００５μｍ以上、強磁性金属薄膜
１１４ｃは２．０〜３．０μｍ、第２非磁性薄膜１１４
ｄと第２非磁性金属薄膜１１４ｅはそれぞれ２．０μｍ
と１．２μｍ以上の厚さを持つことが望ましい。
【００４９】図１Ｂにおいてわかるように、第１非磁性
薄膜１１４ａと第１非磁性金属薄膜１１４ｂはこの発明
による磁気ヘッドの内膜を形成するが、この内膜の厚さ
は０．０１μｍ〜０．０３μｍの範囲が望ましい。
薄膜１１４ａと第１非磁性金属薄膜１１４ｂはこの発明
による磁気ヘッドの内膜を形成するが、この内膜の厚さ
は０．０１μｍ〜０．０３μｍの範囲が望ましい。
【００５０】また、第２非磁性薄膜１１４ｂと第２非磁
性金属薄膜１１４ｃは、磁気ギャップを形成するように
なる。
性金属薄膜１１４ｃは、磁気ギャップを形成するように
なる。
【００５１】ここで、内膜の厚さが０．０１μｍ〜０．
０３μｍに制限する理由は、この内膜の厚さが０．０１
μｍ以下になるとクラック防止の役割を十分にすること
ができなく、また０．０３μｍ以上になると磁気特性の
劣化が発生されるためである。
０３μｍに制限する理由は、この内膜の厚さが０．０１
μｍ以下になるとクラック防止の役割を十分にすること
ができなく、また０．０３μｍ以上になると磁気特性の
劣化が発生されるためである。
【００５２】図１Ｃに詳細に拡大して示したごとく、規
制用切欠溝１１０は、磁気コア部材１００または１０２
のギャップ形成側の面に対し垂直に延長された部位１１
０ａと垂直延長部位１１０ａに対し所定の角度に傾斜に
なる傾斜部位１１０ｂを含んでいることを知ることがで
きる。このように、トラック幅規制用切欠溝１１０を垂
直延長部位１１０ａと傾斜部位１１０ｂとから形成した
理由は前述したごとく、２個の磁気コア部材１００と１
０２の最終結合のときにトラック幅Ｔｗが交わらないよ
うにし、全体的には加工時間を最小化し不良率を減らす
ためのものである。
制用切欠溝１１０は、磁気コア部材１００または１０２
のギャップ形成側の面に対し垂直に延長された部位１１
０ａと垂直延長部位１１０ａに対し所定の角度に傾斜に
なる傾斜部位１１０ｂを含んでいることを知ることがで
きる。このように、トラック幅規制用切欠溝１１０を垂
直延長部位１１０ａと傾斜部位１１０ｂとから形成した
理由は前述したごとく、２個の磁気コア部材１００と１
０２の最終結合のときにトラック幅Ｔｗが交わらないよ
うにし、全体的には加工時間を最小化し不良率を減らす
ためのものである。
【００５３】図１Ａ〜Ｃでは、垂直部位１１０ａに連な
る傾斜部位１１０ｂが示されたが、この発明による磁気
ヘッドはこれに限定されることでなく、垂直部位１１０
ａが必ず存在すれば傾斜部位１１０ｂはどんな形状でも
よい。
る傾斜部位１１０ｂが示されたが、この発明による磁気
ヘッドはこれに限定されることでなく、垂直部位１１０
ａが必ず存在すれば傾斜部位１１０ｂはどんな形状でも
よい。
【００５４】すなわち、垂直延長部位１１０ａがある場
合に傾斜部位１１０ｂは、ラウンディングの形状をして
もよい。結局、磁気コア部材１００と１０２のギャップ
形成側の面から所定の長さだけ垂直延長部位１１０ａを
形成させることによりこの発明による磁気ヘッドのトラ
ック幅Ｔｗは加工前の長さＬ1 と加工後の長さＬ2 が恒
常一定になるので磁気特性の劣化が全くなくなる。
合に傾斜部位１１０ｂは、ラウンディングの形状をして
もよい。結局、磁気コア部材１００と１０２のギャップ
形成側の面から所定の長さだけ垂直延長部位１１０ａを
形成させることによりこの発明による磁気ヘッドのトラ
ック幅Ｔｗは加工前の長さＬ1 と加工後の長さＬ2 が恒
常一定になるので磁気特性の劣化が全くなくなる。
【００５５】また、磁気コア部材の後に非磁性金属薄膜
（クロム層）が直接積層され熱処理されることにより磁
気コア部材にクラックが発生される従来の技術による磁
気ヘッドとは異なりこの発明による磁気ヘッドは磁気コ
ア部材１００，１０２の上に非磁性薄膜（例えば、Ｓｉ
Ｏ2 層）を形成させることにより磁気コア部材にはクラ
ックが全く発生しなくなる（図４参照）。
（クロム層）が直接積層され熱処理されることにより磁
気コア部材にクラックが発生される従来の技術による磁
気ヘッドとは異なりこの発明による磁気ヘッドは磁気コ
ア部材１００，１０２の上に非磁性薄膜（例えば、Ｓｉ
Ｏ2 層）を形成させることにより磁気コア部材にはクラ
ックが全く発生しなくなる（図４参照）。
【００５６】図２Ａ〜Ｃ及び図３Ａ〜Ｃは、この発明に
よる磁気ヘッドの製作工程を示す斜視図であるが、図２
Ａにおいて参照番号１００ａと１０２ａはフェライトな
どの強磁性材料を切断して所定の直四角形に切断された
磁気フェライトブロックを表示する。
よる磁気ヘッドの製作工程を示す斜視図であるが、図２
Ａにおいて参照番号１００ａと１０２ａはフェライトな
どの強磁性材料を切断して所定の直四角形に切断された
磁気フェライトブロックを表示する。
【００５７】磁気フェライトブロック１００ａ，１０２
ａの表面は、なめらかに研磨加工され、図２Ｂに示した
ごとく、磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａの
長さ方向へは所定の間隔にトラック幅規制切欠溝１１０
が形成され、隣接されたトラック幅規制切欠溝１１０の
間には垂直延長部位１１０ａによる垂直突出部１２０が
形成されるようにした。
ａの表面は、なめらかに研磨加工され、図２Ｂに示した
ごとく、磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａの
長さ方向へは所定の間隔にトラック幅規制切欠溝１１０
が形成され、隣接されたトラック幅規制切欠溝１１０の
間には垂直延長部位１１０ａによる垂直突出部１２０が
形成されるようにした。
【００５８】図２Ｂにおいて、トラック幅規制切欠溝１
１０は、磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａに
長さ方向へ連績されるように形成したが、このトラック
幅規制切欠溝１１０は磁気フェライトブロック１００
ａ，１０２ａの一部分にだけ形成させることもできる。
１０は、磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａに
長さ方向へ連績されるように形成したが、このトラック
幅規制切欠溝１１０は磁気フェライトブロック１００
ａ，１０２ａの一部分にだけ形成させることもできる。
【００５９】一方、磁気フェライトブロック１０２ａの
ギャップ形成側の面にはトラック幅規制切欠溝１１０と
直交するコイル巻線溝１０４と補強溝１０６が形成され
る。
ギャップ形成側の面にはトラック幅規制切欠溝１１０と
直交するコイル巻線溝１０４と補強溝１０６が形成され
る。
【００６０】ここで、トラック幅規制切欠溝１１０が磁
気フェライトブロック１００ａ，１０２ａの長さの方向
へ連績されるように形成された場合に補強溝１０６は必
要ないが、トラック幅規制切欠溝１１０が磁気フェライ
トブロック１００ａ，１０２ａの一部分にだけ形成され
た場合補強溝１０６が必要である。
気フェライトブロック１００ａ，１０２ａの長さの方向
へ連績されるように形成された場合に補強溝１０６は必
要ないが、トラック幅規制切欠溝１１０が磁気フェライ
トブロック１００ａ，１０２ａの一部分にだけ形成され
た場合補強溝１０６が必要である。
【００６１】また、巻線１０４と補強溝１０６は、磁気
フェライトブロック１００ａ，１０２ａにすべて形成さ
れることもできる。
フェライトブロック１００ａ，１０２ａにすべて形成さ
れることもできる。
【００６２】このように、トラック幅規制切欠溝１１０
と巻線溝１０４または補強溝１０６が形成された状態で
スパタリングは、物理的蒸着法、または化学めっき法の
ような薄膜形成技術を使って磁気フェライトブロック１
００ａの上だけ積層膜１１４が形成される。この発明に
おいて、薄膜形成技術は、スパタリング法が最も望まし
い。
と巻線溝１０４または補強溝１０６が形成された状態で
スパタリングは、物理的蒸着法、または化学めっき法の
ような薄膜形成技術を使って磁気フェライトブロック１
００ａの上だけ積層膜１１４が形成される。この発明に
おいて、薄膜形成技術は、スパタリング法が最も望まし
い。
【００６３】図２Ｃに示した磁気フェライトブロック１
００ａの上には、一番先にＳｉＯ2、Ａｌ2 Ｏ3 または
Ｔａ2 Ｏ5 のような非磁性酸化物が約０．００５μｍの
厚さでスパタリングされて第１非磁性薄膜１１４ａを形
成する。
００ａの上には、一番先にＳｉＯ2、Ａｌ2 Ｏ3 または
Ｔａ2 Ｏ5 のような非磁性酸化物が約０．００５μｍの
厚さでスパタリングされて第１非磁性薄膜１１４ａを形
成する。
【００６４】このように、第１非磁性薄膜１１４ａが形
成されたあとには、クロムＣｒ、チタンＴｉ、またはア
ルミニウムＡｌのような非磁性金属が第１非磁性薄膜１
１４ａの上に約０．００５μｍの厚さでスパタリングさ
れることにより第１非磁性金属薄膜１１４ｂが形成され
ることができる。
成されたあとには、クロムＣｒ、チタンＴｉ、またはア
ルミニウムＡｌのような非磁性金属が第１非磁性薄膜１
１４ａの上に約０．００５μｍの厚さでスパタリングさ
れることにより第１非磁性金属薄膜１１４ｂが形成され
ることができる。
【００６５】ここで、第１非磁性薄膜１１４ａと第１非
磁性金属薄膜１１４ｂは、この発明に最も必須的である
内幕を形成するので、磁気フェライトブロック１００ａ
と第１非磁性金属薄膜１４との間にはＳｉＯ2 、Ａｌ2
Ｏ3 またはＴａ2 Ｏ5 のような非磁性酸化物が存在する
ようになるので第１非磁性金属薄膜（クロムＣｒ、チタ
ンＴｉ、アルミニウムＡｌ）による磁気フェライトブロ
ック１００ａのクラック現状が全く発生しなくなる。
磁性金属薄膜１１４ｂは、この発明に最も必須的である
内幕を形成するので、磁気フェライトブロック１００ａ
と第１非磁性金属薄膜１４との間にはＳｉＯ2 、Ａｌ2
Ｏ3 またはＴａ2 Ｏ5 のような非磁性酸化物が存在する
ようになるので第１非磁性金属薄膜（クロムＣｒ、チタ
ンＴｉ、アルミニウムＡｌ）による磁気フェライトブロ
ック１００ａのクラック現状が全く発生しなくなる。
【００６６】この発明の内膜上には、センダスト、非晶
質磁性合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金または窒化物のように高い
飽和磁速密度を持つ強磁性金属が２〜３μｍ程度にスパ
タリングされて強磁性金属薄膜１１４ｃを形成するよう
になる。
質磁性合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金または窒化物のように高い
飽和磁速密度を持つ強磁性金属が２〜３μｍ程度にスパ
タリングされて強磁性金属薄膜１１４ｃを形成するよう
になる。
【００６７】強磁性金属薄膜１１４ｃの上には、磁気ギ
ャップを形成するための第２非磁性酸化物と第２非磁性
金属が順次にスパタリングされるが、第２非磁性酸化物
は第１非磁性酸化物と同一なものすなわち、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 、またはＴａ2 Ｏ5 が望ましい。第２非磁性
酸化物が約２μｍ程度にスパタリングされることにより
第２非磁性薄膜１１４ｄを形成するようになる。
ャップを形成するための第２非磁性酸化物と第２非磁性
金属が順次にスパタリングされるが、第２非磁性酸化物
は第１非磁性酸化物と同一なものすなわち、ＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 、またはＴａ2 Ｏ5 が望ましい。第２非磁性
酸化物が約２μｍ程度にスパタリングされることにより
第２非磁性薄膜１１４ｄを形成するようになる。
【００６８】それから、第２非磁性薄膜１１４ｄの上に
は、第１非磁性金属すなわち、アルミニウムＡｌ、チタ
ンＴｉまたはクロムＣｒのような金属が約１．２μｍ程
度にスパタリングされて第２非磁性金属薄膜１１４ｅを
形成するようになる。
は、第１非磁性金属すなわち、アルミニウムＡｌ、チタ
ンＴｉまたはクロムＣｒのような金属が約１．２μｍ程
度にスパタリングされて第２非磁性金属薄膜１１４ｅを
形成するようになる。
【００６９】このように、磁気フェライトブロック１０
０ａ，１０２ａを垂直形に形成されることによりトラッ
ク幅が一定に維持されることができ、第１非磁性薄膜１
１４ａを磁気フェライトブロック１００ａと第１非磁性
金属薄膜１１４ａとの間に積層することによりクロムＣ
ｒにより惹起される磁気フェライトブロック１００ａの
クラック現状が全く発生しなくなる。
０ａ，１０２ａを垂直形に形成されることによりトラッ
ク幅が一定に維持されることができ、第１非磁性薄膜１
１４ａを磁気フェライトブロック１００ａと第１非磁性
金属薄膜１１４ａとの間に積層することによりクロムＣ
ｒにより惹起される磁気フェライトブロック１００ａの
クラック現状が全く発生しなくなる。
【００７０】磁気フェライトブロック１００ａの上に積
層膜１１４が積層されたあとには、図３Ａのように一対
の磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａを対を合
わせたあと一対の磁気フェライトブロック１００ａ，１
０２ａを接合させるために棒形状の接合用ガラス１１２
を巻線溝１０４と補強溝１０６に接合させて５００〜８
００℃程度の範囲内における一定な温度に加熱したあと
冷却させた。
層膜１１４が積層されたあとには、図３Ａのように一対
の磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａを対を合
わせたあと一対の磁気フェライトブロック１００ａ，１
０２ａを接合させるために棒形状の接合用ガラス１１２
を巻線溝１０４と補強溝１０６に接合させて５００〜８
００℃程度の範囲内における一定な温度に加熱したあと
冷却させた。
【００７１】このとき、使われた接合用ガラス１１２の
組成を変化させて拡がり性及び硬度などを測定したが、
その結果は下記の＜表１＞に記載した。
組成を変化させて拡がり性及び硬度などを測定したが、
その結果は下記の＜表１＞に記載した。
【００７２】
【表１】 前記の＜表１＞に示すごとく、１５〜２５重量％のＳｉ
Ｏ2 、５０〜５重量％のＰｂＯ、０．５〜０．３重量％
のＺｎＯ、０．５〜１．５重量％のＫ2 Ｏ、２．０〜
５．０重量％のＮａ2 Ｏ、１．０〜３．０重量％のＡｌ
2 Ｏ3 、５．０〜１５．０重量％のＢｉ2 Ｏ3 及び１．
０〜２．０重量％のＢ2 Ｏ5 からなるガラス組成物が拡
がり性が最も優れ気泡が発生されないだけでなく、硬度
が大きいので磁気フェライトブロック１００ａ，１０２
ａを直接接合することができる。
Ｏ2 、５０〜５重量％のＰｂＯ、０．５〜０．３重量％
のＺｎＯ、０．５〜１．５重量％のＫ2 Ｏ、２．０〜
５．０重量％のＮａ2 Ｏ、１．０〜３．０重量％のＡｌ
2 Ｏ3 、５．０〜１５．０重量％のＢｉ2 Ｏ3 及び１．
０〜２．０重量％のＢ2 Ｏ5 からなるガラス組成物が拡
がり性が最も優れ気泡が発生されないだけでなく、硬度
が大きいので磁気フェライトブロック１００ａ，１０２
ａを直接接合することができる。
【００７３】すなわち、図６Ａ及び図９Ａ〜Ｃ及び図１
０Ａ〜Ｃに示したごとき、いろいろの工程を遂行する必
要がない結合ガラス１１２を磁気フェライトブロック１
００ａ，１０２ａとの間に挿入させて直接溶着させるこ
とにより製造工程を簡略化できる。
０Ａ〜Ｃに示したごとき、いろいろの工程を遂行する必
要がない結合ガラス１１２を磁気フェライトブロック１
００ａ，１０２ａとの間に挿入させて直接溶着させるこ
とにより製造工程を簡略化できる。
【００７４】このように、接合が完了された磁気フェラ
イトブロック１００ａ，１０２ａを図３Ｂの切断線Ｃを
沿って切断することにより図３Ｃのような磁気ヘッドを
得るようになる。
イトブロック１００ａ，１０２ａを図３Ｂの切断線Ｃを
沿って切断することにより図３Ｃのような磁気ヘッドを
得るようになる。
【００７５】このように、得られた磁気ヘッドの磁気記
録媒体との接触面を円弧の形状に加工し、コイル１０８
を巻くことにより図１Ａに示したごとき、磁気ヘッドを
得ることができる。
録媒体との接触面を円弧の形状に加工し、コイル１０８
を巻くことにより図１Ａに示したごとき、磁気ヘッドを
得ることができる。
【００７６】以上、この発明を添付された図面を参照し
て説明したが、この発明はこれに限定されず、請求範囲
を外れない限度内で多数の変更及び修正があり得るであ
ろう。例えば、トラック幅規制溝１１０は、磁気フェラ
イトブロック１００ａ，１０２ａの全体の長さ方向へ延
長される代わりに磁気記録媒体との接触面附近にだけ形
成されることもあり得るが、この場合には補強溝１１０
が必須的に形成されなければならなく、トラック幅規制
溝１１０が磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａ
の全体長さの方向へ延長される場合には補強溝１０６が
必要でないこともあり得る。
て説明したが、この発明はこれに限定されず、請求範囲
を外れない限度内で多数の変更及び修正があり得るであ
ろう。例えば、トラック幅規制溝１１０は、磁気フェラ
イトブロック１００ａ，１０２ａの全体の長さ方向へ延
長される代わりに磁気記録媒体との接触面附近にだけ形
成されることもあり得るが、この場合には補強溝１１０
が必須的に形成されなければならなく、トラック幅規制
溝１１０が磁気フェライトブロック１００ａ，１０２ａ
の全体長さの方向へ延長される場合には補強溝１０６が
必要でないこともあり得る。
【００７７】
【発明の効果】以上のように、この発明による磁気ヘッ
ドによれば、磁気ヘッドのトラック形状を垂直に形成さ
せて磁気ヘッドの不良率を軽減し生産効率を向上させる
ことができ、積層膜の内膜を非磁性酸化物と非磁性金属
薄膜に形成させてクラックの発生を防止することにより
磁気ヘッドの消去効率を極大化するだけでなく、磁気ヘ
ッドのトラック形状を垂直形にして接合ガラスの組成物
の拡がり性が良好で気泡の発生がないようにしてラッピ
ング及び研磨加工のような高精密度を要する工程が必要
なく製造工程を簡略化することにより製造時間及び製造
費用を軽減させることができる効果がある。
ドによれば、磁気ヘッドのトラック形状を垂直に形成さ
せて磁気ヘッドの不良率を軽減し生産効率を向上させる
ことができ、積層膜の内膜を非磁性酸化物と非磁性金属
薄膜に形成させてクラックの発生を防止することにより
磁気ヘッドの消去効率を極大化するだけでなく、磁気ヘ
ッドのトラック形状を垂直形にして接合ガラスの組成物
の拡がり性が良好で気泡の発生がないようにしてラッピ
ング及び研磨加工のような高精密度を要する工程が必要
なく製造工程を簡略化することにより製造時間及び製造
費用を軽減させることができる効果がある。
【図１】この発明による磁気ヘッドを示し、図１Ａはそ
の斜視図、図１Ｂはその磁気ヘッドの磁気記録媒体の接
触面を拡大して示した平面図、図１Ｃは加工された磁気
フェライトブロックを示す平面図である。
の斜視図、図１Ｂはその磁気ヘッドの磁気記録媒体の接
触面を拡大して示した平面図、図１Ｃは加工された磁気
フェライトブロックを示す平面図である。
【図２】図２Ａ〜Ｃは、この発明による磁気ヘッドの製
造方法を示す斜視図である。
造方法を示す斜視図である。
【図３】図３Ａ〜Ｃは、図２Ａ〜Ｃの続きで、この発明
による磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。
による磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。
【図４】この発明により磁気フェライトブロックの上に
スパタリングにより形成された第１非磁性金属薄膜を、
電子走査顕微鏡で観察した写真に対応する輪郭を示した
図である。
スパタリングにより形成された第１非磁性金属薄膜を、
電子走査顕微鏡で観察した写真に対応する輪郭を示した
図である。
【図５】従来の技術による磁気ヘッドを示した斜視図で
ある。
ある。
【図６】従来の技術による他の磁気ヘッドを示し、図６
Ａはその斜視図、図６Ｂはその磁気記録媒体の接触面を
拡大して示した平面図である。
Ａはその斜視図、図６Ｂはその磁気記録媒体の接触面を
拡大して示した平面図である。
【図７】従来の技術による磁気ヘッドの別の例を示し、
図７Ａはその斜視図、図７Ｂはその磁気記録媒体の接触
面を拡大して示した平面図である。
図７Ａはその斜視図、図７Ｂはその磁気記録媒体の接触
面を拡大して示した平面図である。
【図８】図８Ａ及び図８Ｂそれぞれは、図６Ａ及び図７
Ａに示された従来の技術により加工される磁気フェライ
トブロックをそれぞれ拡大視した平面図である。
Ａに示された従来の技術により加工される磁気フェライ
トブロックをそれぞれ拡大視した平面図である。
【図９】図９Ａ〜Ｃは、図６Ａに示された従来の技術に
よる磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。
よる磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。
【図１０】図１０Ａ〜Ｃは、図９Ａ〜Ｃの続きの、図６
Ａに示された従来の技術による磁気ヘッドの製造方法を
示す斜視図である。
Ａに示された従来の技術による磁気ヘッドの製造方法を
示す斜視図である。
【図１１】磁気フェライトブロックの上にスパタリング
により形成された従来の技術によるクロムからなる第１
非磁性金属薄膜のクラックを、電子走査顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）で観察した写真に対応する輪郭図である。
により形成された従来の技術によるクロムからなる第１
非磁性金属薄膜のクラックを、電子走査顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）で観察した写真に対応する輪郭図である。
１００，１０２ 磁気コア部材 １００ａ，１０２ａ 磁気フェライトブロック １０４ 巻線溝 １０６ 補強溝 １０８ コイル １１０ トラック幅規制切欠溝 １１０ａ 垂直延長部 １１０ｂ 傾斜部 １１２ 接合ガラス １１４ 積層膜 １１４ａ 第１非磁性薄膜 １１４ｂ 第１非磁性金属薄膜 １１４ｃ 強磁性金属薄膜 １１４ｄ 第２非磁性薄膜 １１４ｅ 第２非磁性金属薄膜 １１６ 突起部
Claims (15)
- 【請求項１】 磁気記録媒体との接触面に断面形状が突
出された突起部を持つ一対の磁気コア部材を備え、 前記磁気コア部材中いづれか一つの磁気コア部材の突起
部には、前記磁気コア部材を構成するフェライトより高
い飽和磁速密度を持つ強性体が被膜され、前記突起部の
先端部は磁気ギャップを形成し、 前記磁気コア部材が接合用ガラスにより相互結合される
ようにした磁気ヘッドにおいて、 前記磁気コア部材の突起部は、ギャップの形成面に対し
垂直に形成され、 前記垂直突起部には、非磁性酸化物で形成されて磁気コ
ア部材のクラック現状を防止するための第１非磁性薄
膜、非磁性物質からなる第１非磁性金属薄膜と、高飽和
磁速密度を持つ物質からなる強磁性金属薄膜と、磁気ギ
ャップを形成するために第１非磁性薄膜と同一な性質を
持つ物質からなる第２非磁性薄膜及び第１非磁性金属薄
膜などが磁気コア部材の表面から順次的に積層してされ
たことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記非磁性の薄膜がＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 ，Ｔａ2 Ｏ5 中のいづれか一つとからなることを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記非磁性の金属膜がクロムＣｒ、チタ
ンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のいづれか一つとからなる
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記第１非磁性の薄膜と第１非磁性の金
属薄膜とを含む薄膜の厚さが０．０１〜０．０３μｍで
あることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記第１非磁性の薄膜は、 前記第１非磁性の金属薄膜による前記磁気コア部材のク
ラックを防止できる程度の薄い厚さを有することを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項６】 前記接合用のガラスは、 前記コア部材を相互接合において、適合した拡がり性と
程度を持ち、気泡の発生がない組成物とからなることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項７】 前記接合用ガラスの組成物は、１５〜４
０重量％のＳｉＯ2 、４５〜７５重量％のＰｂＯ、０〜
１５重量％のＺｎＯ、０〜３重量％のＫ2 Ｏ、０〜６重
量％のＮａ2 Ｏ，０〜３重量％のＡｌ2Ｏ3 、５〜２０
重量％のＢ2 Ｏ5 を含んで拡がり性が優秀で気泡が発生
されないようにしたことを特徴とする請求項６記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項８】 磁気記録媒体に記録された信号を消去す
るための磁気ヘッドの製造方法において、高投射率の材
料からなる一対の磁気フェライトブロックのギャップの
形成側の面に多数のトラック幅規制用の溝を形成して隣
接されたトラック幅の規制溝の間に垂直形の突出部が形
成されるようにする段階と、 前記磁気フェライトブロックを一つに一体化するため
に、前記ブロック中のいづれか一つのブロックのギャッ
プ形成側の面に前記トラック幅の規制溝と直交するコイ
ルの巻線用溝を形成する段階と、 前記トラック幅の規制溝と垂直形突出部の表面が形成さ
れたいづれか一つの磁気フェライトブロック上に、非磁
性酸化物で形成されて磁気コア部材のクラック現状を防
止するための第１非磁性薄膜と、非磁性物質からなる第
１非磁性金属薄膜と、高飽和磁速密度を持つ物質からな
る強磁性金属薄膜と、磁気ギャップを形成するために第
１非磁性薄膜と同一な性質を持つ物質からなる第２非磁
性薄膜及び第１非磁性金属薄膜と同一な性質を持つ物質
からなる第２非磁性の金属薄膜などが磁気コア部材の表
面から順次的に積層させる段階と、一対の磁気フェライ
トブロックのギャップの形成面を接合用のガラスを使っ
て前記２個の磁気フェライトブロックを接合する段階
と、 前記接合されたブロックを所定の位置に切断して一対の
磁気コアの部材からなる磁気ヘッドを得る段階及び前記
磁気ヘッドの磁気記録媒体との接触面を円弧の形態で研
削する段階とからなることを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項９】 前記第１非磁性の薄膜は、ＳｉＯ2 ，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ5 中のいづれか一つを磁気フェライ
トブロックの上に積層させたことを特徴とする請求項８
記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】 前記第１非磁性の金属薄膜は、クロム
Ｃｒ、チタンＴｉ、アルミニウムＡｌ中のいづれか一つ
を前記第１非磁性の薄膜上に積層させたことを特徴とす
る請求項８記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１１】 前記第１非磁性の薄膜と、第１非磁性
の金属薄膜を含む薄膜の厚さが０．０１〜０．０３μｍ
であることを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項１２】 前記第１非磁性の薄膜が少なくとも
０．００５μｍ以上の厚さを持つように積層されたこと
を特徴とする請求項１１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１３】 前記第１非磁性の薄膜が少なくとも
０．００５μｍ以上の厚さで積層されたことを特徴とす
る請求項１１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１４】 前記フェライトブロックに形成された
トラック幅の規制溝により規制されるトラック幅が常に
一定に維持されることを特徴とする請求項８記載の磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項１５】 前記接合用ガラスは、前記磁気フェラ
イトブロックを相互接するのに適した拡がり性と硬度を
持ち気泡の発生がないように１５〜４０％のＳｉＯ2 、
４５〜７５重量％のＰｂＯ、０〜１５重量％のＺｎＯ、
０〜３重量％のＫ2 Ｏ、０〜６重量％のＮａ2 Ｏ，０〜
３重量％のＡｌ2 Ｏ3 、５〜２０重量％のＢｉ2 Ｏ3 及
び１〜２重量％のＢ2 Ｏ5を含む組成物からなることを
特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドの製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920010406A KR940011675B1 (ko) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 자기헤드의 제조방법 |
| KR1019920010405A KR940011674B1 (ko) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 자기헤드 |
| KR1992-10405 | 1992-06-16 | ||
| KR1992-10406 | 1992-06-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06203323A true JPH06203323A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=26629116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14522393A Pending JPH06203323A (ja) | 1992-06-16 | 1993-06-16 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06203323A (ja) |
| GB (1) | GB2268310B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7012783B2 (en) | 2001-03-08 | 2006-03-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head, magnetic head, and magnetic recording/reproducing device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62145512A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-29 | Hitachi Ltd | 磁気消去ヘツド |
| JPH01260615A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-17 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0278004A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-19 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0312338A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Tdk Corp | 磁気ヘッド用溶着ガラスおよび磁気ヘッド |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61210506A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-18 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| DE3634305A1 (de) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Canon Kk | Magnetkopf |
| JPS6370912A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドギヤツプ接合用ガラス |
| JP2513205B2 (ja) * | 1987-02-04 | 1996-07-03 | ソニー株式会社 | 複合磁気ヘツド |
| US5007158A (en) * | 1988-02-09 | 1991-04-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing magnetic heads |
| DE3934284C2 (de) * | 1988-10-13 | 1994-06-16 | Canon Denshi Kk | Magnetkopf |
| US5222006A (en) * | 1989-06-16 | 1993-06-22 | Canon Denshi Kabushiki Kaisha | Magnetic head and core chip having a magnetic thin film |
| JP2760137B2 (ja) * | 1990-05-31 | 1998-05-28 | ソニー株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| DE69117362T2 (de) * | 1990-07-13 | 1996-07-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Zusammengesetzter Magnetkopf |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP14522393A patent/JPH06203323A/ja active Pending
- 1993-06-16 GB GB9312388A patent/GB2268310B/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| US7012783B2 (en) | 2001-03-08 | 2006-03-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head, magnetic head, and magnetic recording/reproducing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2268310A (en) | 1994-01-05 |
| GB9312388D0 (en) | 1993-07-28 |
| GB2268310B (en) | 1996-10-30 |
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