JPH0278004A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッド及びその製造方法に関するものであ
り、詳しくはＦＤＤ装置等に使用される平行型Ｍ　Ｉ　
Ｇ　（Ｍｅｔａｌ　ｉｎ　Ｇａｐ）　ヘッドにおける疑
似パルス及び膜ハガレの発生防止手段に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

例えばＦＤＤ装置に使用される磁気ヘッドは、記録媒体
である磁気ディスクでの情報の書込みと読み出しを行う
リード／ライトギャップと、このリード／ライトギャッ
プにより書込まれた記録トラックをトリミングするイレ
ーズギャップとを有するものが一般的であった。上記磁
気ヘッドでは、磁気ディスクに対して磁気ヘッドが位置
ずれしても、リード／ライトギャップによる情報再生が
正確に行える。一方、近年、サーボ技術が一段と発達し
たことにより磁気ディスクに対して磁気ヘッドを精度良
く位置決めすることが可能となった。その結果、フレキ
シブル磁気ディスクを媒体とするＦＤＤ用でも、シング
ルギャップを有する磁気ヘッドが実用化されている。こ
の磁気ヘッドは、リーディング側とトレーリング側のト
ラック幅の異なる磁気ギャップを有するもので、上記ト
ラック幅を異ならせることにより、磁気ディスクに対す
る磁気ヘッドの位置決め誤差を可及的に吸収しようとす
るものである。

上記構造を採用し、しかも高密度記録に使用されるＭＩ
Ｇヘッドの具体例を第４図および第５図を参照しながら
説明する。同図に示すＭＩＧヘッドにおいて、（１）は
強磁性体であるフェライトからなるコアチップで、一対
の第１、第２コア（２）（３）を低融点ガラス（４）（
４）で接合一体化したものである。このコアチップ＜１
）の、記録媒体である磁気ディスクと摺接する頂端面（
５）には、トラック幅が異なる磁気ギャップｇが形成さ
れ、その両側方から上記磁気ギャップｇをガラス（４）
（４）で保護している。この磁気ギャップｇでは、図中
矢印に示すように、上記磁気ディスクの、相対的には磁
気ヘッドに対し、円周方向の走行に対して先行するリー
ディング側の第１コア（２）のトラック幅（Ｔ１）より
も、磁気ディスクの円周方向の走行に対して後行するト
レーリング側の第２コア（３）のトラック＠（Ｔ２　）
を、小さく設定する。（６）（６）は磁気ギャップｇに
位置する第１１第２コア（２）（３）のエツジ部に被着
形成された金属ｖｒ＃ｉＱで、センダストやパーマロイ
等の高飽和磁束密度特性を有する強磁性体から形成され
ている０図示しないが、上記コアチップ（１）の脚部（
７）（８）には、絶縁被覆処理の線材を所定ターン数巻
回装着した後、バックコアが取付けられ、更にコアチッ
プ（１）の両側方には、スライダがエポキシ樹脂系接着
材で貼着固定されている。

次に上記磁気ヘッドの製造方法の具体例を第６図乃至第
９図を参照しながら説明する。まず、第６図に示すよう
に強磁性体であるフェライトからなる直方体形状の第１
１第２コアブロツク（９）　　（１０）を用意する。そ
して上記第１、第２コアブロツク（９）　　（１０）の
内側面（９ａ）（１０ａ）に、高飽和磁束密度特性を有
する強磁性体であるセンダストやパーマロイ等を蒸着或
いはスパッタリングして金属薄膜（１１）　　（１１）
を被着形成する０次に第７図に示すように上記第１コア
ブロツク（９）の内側面（９ａ）にその短手方向に沿っ
て第１のトラック幅（Ｔりを残して複数の第１トラツク
溝（１２）　　（１２）・・・を切削加工すると共に、
第２コアブロツク（１０）の内側面（１０ａ）にその短
手方向に沿って上記第１のトラック幅（Ｔ１）よりも小
さい第２のトランク幅（Ｔ２）を残して複数の第２トラ
ンク溝（１３）　　（１３）・・・を切削加工する。そ
して第８図に示すように上記第１、第２コアブロツク（
９）　　（１０）の内側面（９ａ）　　（１０ａ　）を
ガラスモールドして第１１第２トラツク溝（１２）・・
・（１３）・・・に低融点ガラス（１４）・・・（１５
）・・・を充議する。次に図示しないが、第１コアブロ
ツク（９）の内側面（９ａ）にギャップスペーサとなる
５ｉＯ＝等の非磁性体薄膜を被着形成した後、第９図に
示すように第１、第２コアブロツク（９）　　（１０）
をその内側面（９ａ）　　（１０ａ　）を突き合わせて
加熱・溶着し接合一体化する。そして、第９図に破線で
示すように第１、第２コアブロツク（９）　　（１０）
の下部中央を切削除去し、その後、同図の鎖線で示すよ
うに第１、第２コアブロツク（９）　　（１０）を第１
、第２トランクｍ　（１２）・・・（１３）・・・毎に
所定の厚さにスライスして第４図及び第５図に示すコア
チップ（１）を得る。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した平行型ＭＩＧヘッドは、その製造上、溝切り工
程が簡単な点でその製作が容易であるという利点を有す
る。しかしながら、第１０図に示すように上記金属薄膜
（６）（６）と強磁性体からなる第１、第２コア（２）
（３）との間の疑似Ｇａｐで再生され、再生出力に疑似
パルスが発現し、これによって当該ＭＩＧヘッドで記録
・再生される情報にノイズが発生し易いという問題があ
った。一方、疑似パルスの発生防止手段としては、上記
平行型ＭＩＧヘッドよりも疑似パルスが発生し難い構造
ををするＴＳＳ型ＭＩＧヘッドを使用することも考えら
れるが、このＴＳＳ型ＭＩＧヘッドは、平行型ＭＩＧヘ
ッドと比較して溝切り工程が複雑でその製作が困難であ
るという欠点を有している。

そこで、本発明の主要な目的は、製作が容易で、而も疑
似パルスの発生しにくい構造を有する平行型ＭＩＧヘッ
ド及びその製造方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的の達成手段として、第１の発明は、記録媒体と
摺接する強磁性体製コアチップの頂端面に、前記記録媒
体の摺接移動方向と直交する磁気ギャップを形成してな
る磁気ヘッドにおいて、前記コアチップの磁気ギャップ
形成域に、酸化膜と、拡散性を有する２層以上のＣｒ薄
膜と、高飽和磁束密度特性を有する磁性体金属の薄膜と
を磁気ギャップに向かって所定の配列関係でもって設け
ることによって、前記磁気ギャップの隣りに磁気抵抗の
下降緩和域を形成した磁気ヘッドである。

また、第２の発明は記録媒体と摺接する強磁性体製コア
チップの頂端面に、前記記録媒体の摺接移動方向と直交
する磁気ギャップを形成するに際し、前記コアチップを
構成する少なくとも一方のコアの一接合端から前記磁気
ギャップに向かって、酸化膜と、拡散性ををする２Ｂ以
上のＣｒ薄膜と、高飽和磁束密度特性を有する強磁性体
金属の薄膜とを所定の配列関係でもって順次積層し、前
記磁気ギャップの隣りに磁気抵抗の下降緩和域及び、ｃ
ｒｉｌｌｌを積層することにより強磁性体金属膜の応力
緩和層を形成する磁気ヘッドの製造方法である。

〔作用〕

コアチップを構成する少なくとも一方のコアの磁気ギャ
ップ形成域に、酸化膜を配設してコアから金属薄膜への
酸素の取り込みを防止すると共に、上記酸化膜を介して
拡散性を有する２層以上のＣｒ薄膜を上記金属薄膜上に
間挿状態で積層することによって、コアと金属Ｗｔ膜と
の界面における磁気抵抗の急激な下降を抑制する。

〔実施例〕

第１図は本発明に係る磁気ヘッドのコアチップの部分上
面図、第２図は第１図の■−■線に沿う断面図である。

また、第３ａ図は本発明に係る磁気ヘッドにおける磁気
抵抗曲線を示す。

なお、以下の記述において、第４図乃至第９図に示す従
来の磁気ヘッドと同一の構成部材は同一の参照符号で表
示し、重複する事項に関しては説明を省略する。

平行型ＭＩＧヘッドを構成する強磁性体製のコアチップ
（１）は、記録媒体、例えば磁気ディスク（図示省略）
と摺接するその頂端面（５）に、前記記録媒体の摺接移
動方向に対して直交するように磁気ギャップｇを形成し
ている。

そして、前記コアチップ（１）を構成する第１コア（２
）及び第２コア（３）の接合端（２ａ）及び（３ａ）か
ら磁気ギャップｇに向かって＾１２０３もしくは５ｔｏ
２からなる酸化１１１１　（１Ｂ）の介在下に、拡散性
を有する２層以上のＣｒ薄膜（２０ａ　）（２０ｂ　”
）が、高飽和磁束密度特性を具えた強磁性体金属、例え
ばセンダストやパーマロイ等の薄Ｉｌ！　（６ａ）　　
（６ｂ）上に間挿状態で積層されている。尚、上記Ｃｒ
薄１ｍ！（２０ｂ）は、Ｃｒ薄膜（２０ａ）に近接させ
て配置する方が好ましい、また、膜の応力緩和のために
別にもう一層少し離してつけることもある。

本発明者は疑似パルスの発現機能を解明する目的で一連
の系統的な実験を繰返した結果、第３ｂ図に示すように
従来構造のＭＩＧヘッドでは、前記第１コア（２）及び
第２コア（３）と金属Ｗｔ膜（６）（６）の間で磁気抵
抗が急激に変化することによって疑似パルスの大きさが
増大する事実を見出した。これに基づき、第１コア（２
）及び第２コア（３）と金Ｍ薄膜（６）（６）との間に
磁気抵抗の下降緩和帯としてＣｒの拡散膜を介在させる
ことを検討した。Ｃｒが金属薄膜（６）内に拡散するこ
とによって磁気抵抗の急激な下降が抑制され、これによ
って疑似パルスの発生が在る程度迄防止されるが、反面
、この方法ではＣｒが第１コア（２）及び第２コア（３
）内の酸素を取り込むため、第１コア（２）及び第２コ
ア（３）の磁気特性の劣化に起因する疑似パルスの増大
という別の問題が派生してしまう。

そこで、図示する具体例においては、Ｃｒ　薄ＭＱ（２
０ａ）（２０ｂ）による第１コア（２）及び第２コア（
３）からの酸素の持ち出しを防止するため、第１図、第
２図に示すように第１コア及び第２コアの接合端（２ａ
）　　（３ａ）の表面に酸化膜（１８）として５ｉ０２
を厚さ約５０人だけスパッタした後、前記強磁性体金属
の薄膜（６ａ）　　（６ｂ）と交互積層状態で厚さ５０
乃至５００人のＣｒ薄膜（２０ａ）（２０ｂ）をそれぞ
れのコアに対して２層の割合で被着形成している。これ
らの拡散性　　　　−を有するＣｒ薄１１９　（２０ａ
）　　（２０ｂ）を形成するＣｒは、時間の経過と共に
前記強磁性体からなる金属薄膜　（６ａ）　　（６ｂ）
内に拡散し、これによって、磁気ギャップｇの隣りに、
疑似パルスの発生防止に好適な磁気抵抗の下降緩和域が
形成される。

また強磁性金属薄膜を１０μ以上に厚（形成する場合は
前述したように近接した２Ｊ’ｉｆのＣｒ薄膜とは別に
、更に少し離れた金属薄膜内にｃｒＷＪ膜を形成すると
金属薄膜内に応力緩和層が形成され膜のハガレ、ワレ等
が防止出来る。

なお、上記実施例では磁気ギャップｇの両側に高飽和磁
束密度特性を有する強磁性体からなる金属薄膜（６ａ）
　　（６ｂ）を対向配置し、この金属薄膜内にＣｒｖｉ
ｉ膜（２０ａ）（２０ｂ）を所定の間隔を於いて間挿し
た両ＭＩＧヘッドが説明されているが、本発明の権利範
囲はこの例示によって限定的に解釈されるべきものては
なく、コアチップ（１）の一方のコアにのみ金Ｎ薄膜を
形成した片ＭＩＧヘッドに対しても同様に通用すること
ができる。

（発明の効果） コアチップの磁気ギャップの両側もしくは片側に酸化膜
を配設することによって、Ｃｒ薄膜の介在によるコアか
らの＠素の取り込みを防止すると共に、上記酸化膜に２
層以上の拡散性ＣｒＲＩｆ膜を、強磁性体金属薄膜との
交互積層状態で被着形成することによって、コアチップ
の本体と上記強磁性体金属薄膜との界面における磁気抵
抗の急激な下降を抑制する。この結果、平行型ＭＩＧヘ
ッドで問題となっていた疑似パルスの発生が効果的に抑
制され、記録・再生特性を良好な水準に維持せしめた磁
気ヘッドが取得される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドのコアチップの部分上
面図、第２図は第１図の■−■線に沿う断面図である。 また、第３ａ図は本発明に係る磁気ヘッドにおける磁気
抵抗曲線を示す。 第３ｂ図は従来の磁気ヘッドにおける磁気抵抗曲線を示
す、第４図は従来方法によって製造された磁気ヘッドの
コアチップを示す斜視図、第５図はその平面図である。 また第６図乃至第９図は、第４図に示すコアチップの製
造工程の説明図、第１θ図は疑似パルスの発生状態の説
明図である。 （１）・−・コアチップ、　　（２）（３）・−・・・
コア、（６）・−・強磁性体金属の薄膜、 （ｇ）・・−・磁気ギャップ、（１８）　−酸化膜、（
２０）　−＝ＣｒｉＷ膜。 特　許　出　願　人　　関西日本電気株式会社代　　　
　理　　　　人　　江　　原　　省　　吾第１０図 第４図 第５図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）記録媒体と摺接する強磁性体製コアチップの頂端
   面に、前記記録媒体の摺接移動方向と直交する磁気ギャ
   ップを形成してなる磁気ヘッドにおいて、 前記コアチップの磁気ギャップ形成域に、酸化膜と、拡
   散性を有する２層以上のＣｒ薄膜と、高飽和磁束密度特
   性を有する強磁性体金属の薄膜とを磁気ギャップに向か
   って所定の配列関係でもって設けることによって、前記
   磁気ギャップの隣りに磁気抵抗の下降緩和域及び応力緩
   和層を形成したことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）記録媒体と摺接する強磁性体製コアチップの頂端
   面に、前記記録媒体の摺接移動方向と直交する磁気ギャ
   ップを形成するに際し、 前記コアチップを構成する少なくとも一方のコアの一接
   合端から前記磁気ギャップに向かって、酸化膜と、拡散
   性を有する２層以上のＣｒ薄膜と、高飽和磁束密度特性
   を有する強磁性体金属の薄膜とを所定の配列関係でもっ
   て順次積層し、前記磁気ギャップの隣りに磁気抵抗の下
   降緩和域及び応力緩和層を形成することを特徴とする磁
   気ヘッドの製造方法。