JPH05159210A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドおよびその製造方法

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JPH05159210A
JPH05159210A JP32601191A JP32601191A JPH05159210A JP H05159210 A JPH05159210 A JP H05159210A JP 32601191 A JP32601191 A JP 32601191A JP 32601191 A JP32601191 A JP 32601191A JP H05159210 A JPH05159210 A JP H05159210A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度記録化に伴ってトラック幅が小さくな
っても、ヘッドの規格化出力が低下することなく、しか
も摺動ノイズが発生することのないようする。 【構成】 一対の強磁性体コア21を接合一体化してそ
の摺動面23に磁気ギャップgを設けたコアチップ22
からなる磁気ヘッドにおいて、第1の非磁性体24に傾
斜面25を形成し、その傾斜面25に高飽和磁束密度を
有する金属磁性膜26を被着するとともに、その金属磁
性膜26上に第2の非磁性体27を設けて媒体摺動面2
3を形成し、媒体摺動面23を含む頂端部分以外にコア
チップ22の主体積をしめる強磁性体28を配置させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はS−VHS等用VTR,
高密度記録用FDDやHDD装置などに搭載される高密
度記録用の磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】S−VHS等用VTR,高密度記録用F
DDやHDD装置などに搭載される磁気ヘッドは、積層
ラミネート型ヘッドやMIGヘッドが一般的である。
【0003】まず積層ラミネート型ヘッドを図8に示し
て説明する。このヘッドは高飽和磁束密度を有するセン
ダスト等の金属磁性膜1とSiO2 やAl23 等の絶
縁薄膜2とを交互に積層したラミネート層3をセラミッ
ク等の非磁性体基板4,4で両側から挟み込んだ一対の
コア5をギャップスペーサとなるSiO2 等の非磁性体
薄膜(図示せず)を介して接合一体化したコアチップ6
からなる。なお、その際、ラミネート層の厚みがトラッ
ク幅となる。
【0004】積層ラミネート型ヘッドは、図10の
(a)〜(d)に示す各工程を経て製造される。図10
の(a)に示すように表面に金属磁性膜1と絶縁薄膜2
とを交互にスパッタリング等により積層してラミネート
層3を形成した非磁性体基板4を複数用意し、図10の
(b)に示すようにこれらを重ね合わせて熱圧着するこ
とにより母材10を得る。そして図10の(c)に示す
ように、この母材10を重合方向に沿って切断分割する
ことにより、一対のコアブロック11を得る。その後、
一方のコアブロック11の内外側面にその長手方向に沿
って巻線溝8および巻線窓9となる凹溝12,13を切
削加工する。次に図10の(d)に示すように、コアブ
ロック11の内側面をギャップスペーサとなるSiO2
等の非磁性体薄膜(図示せず)を介して突き合わせ加熱
し接合一体化し、接合一体化されたコアブロック11の
頂端面を研磨加工して媒体摺動面を形成し、コアブロッ
ク11を所定のピッチでスライスして図8に示すコアチ
ップ6を得る。
【0005】次に、MIGヘッドを図9に示して説明す
る。このヘッドはフェライト等の強磁性体からなる一対
のコア14,14を接合一体化したコアチップ15から
なり、両コア14の接合面に高飽和磁束密度を有するセ
ンダスト等の金属磁性膜16を被着形成し、ギャップス
ペーサとなるSiO2 等の非磁性体薄膜(図示せず)を
介在させてガラス18で一体化することにより、コアチ
ップ15の媒体摺動面17に磁気ギャップgが形成され
る。
【0006】積層ラミネート型ヘッドに関しては、例え
ば第11回日本応用磁気学会学術講演概要集(1987.11)
P.311に記されている。
【0007】また、MIGヘッドに関しては、例えば第
11回日本応用磁気学会学術講演概要集(1987.11)P.315
に記されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した積
層ラミネート型ヘッドおよびMIGヘッドには以下のよ
うな問題があった。
【0009】積層ラミネート型ヘッドでは、近年のます
ますの高密度記録化に伴ってトラック幅が非常に小さく
なる傾向にある。このようにトラック幅の狭小化によ
り、ラミネート層3の厚みが小さくなると、磁路を構成
するのがラミネート層3であるので、磁路の全体積が減
少してヘッドの規格化出力が低下することになる。その
結果、少しのノイズが発生しただけでもそのノイズがヘ
ッド出力に与える影響が大きくなり、すなわちS/N比
が非常に悪くなるという問題があった。
【0010】また、積層ラミネート型ヘッドの製造で
は、ラミネート層3が被着形成された複数の非磁性体基
板4,4を重ね合わせ、この状態で重合方向から非磁性
体基板4,4を熱圧着し、これにより得られた母材10
を重合方向に沿って切断分割することにより、一対のコ
アブロック11を得るというふうに一対のコアブロック
11を得るために工数が非常に多くなるという問題もあ
った。
【0011】一方、MIGヘッドでは、高密度記録化に
よりトラック幅が狭小化されても、磁路を構成するのが
フェライト等の強磁性体部分であるので、磁路の全体積
が減少することがなく、ヘッドの規格化出力が低下する
ことはない。
【0012】しかしながら、MIGヘッドではコアチッ
プ15をフェライト等の強磁性体部分で構成しているた
め、媒体摺動面17にフェライト等の強磁性体部分が露
呈するため、ヘッド出力にフェライト特有の摺動ノイズ
が発生するという問題があった。
【0013】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは高密度記録化に
伴ってトラック幅が狭小化されても、ヘッドの規格化出
力が低下することなく、しかも摺動ノイズが発生するこ
とのない磁気ヘッドおよび製造方法を提供することにあ
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明における磁気ヘッドは一対
の強磁性体コアを接合一体化して、その媒体摺動面に磁
気ギャップを設けたコアチップにおいて、第1の非磁性
体に傾斜面を形成し、その傾斜面に高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を被着するとともに、その金属磁性層上
に第2の非磁性体を設けて媒体摺動面を形成し、媒体摺
動面を含む頂端部以外にコアチップの主体積をしめる強
磁性体を設けたことを特徴とする。
【0015】なお、上記ヘッドにおいて、第1の非磁性
体のビッカース硬度が500以上であったり、媒体摺動
面と磁気ギャップの深さを規制するデプスエンドとの間
で金属磁性膜が媒体摺動面に対して垂直であることが望
ましい。
【0016】また、本発明における磁気ヘッドの製造方
法は、板状の第1の非磁性体に複数のトラック形成用溝
を形成し、その溝内に高飽和磁束密度を有する金属磁性
膜を所定のトラック幅に相当する厚みで被着形成する工
程と、その金属磁性膜上に第2の非磁性体を充填する工
程と、上記板状の第1の非磁性体のトラック形成用溝を
有する側面を一平面に鏡面研磨仕上げする工程と、上記
鏡面仕上げされた側面と板状の強磁性体の鏡面研磨仕上
げされた側面とを衝合面として熱圧着し一体化し板状の
母材基板を形成する工程と、その板状の母材基板をトラ
ック形成用溝の形成方向と垂直方向になる方向に切断し
て対をなすコアブロックを形成する工程と、その対をな
すコアブロックの両切断面を鏡面研磨仕上げする工程
と、その対をなすコアブロックをその切断面を衝合面と
してギャップスペーサとなる非磁性膜を介して突き合わ
せ熱圧着し一体化する工程と、一体化されたコアブロッ
クをその短手方向に沿って所定のピッチでスライスして
コアチップを形成する工程とを含むことを特徴とする。
【0017】なお、上記磁気ヘッドの製造方法におい
て、一体化されたコアブロックをトラック形成用溝の傾
斜面と平行になるように所定のチップ厚みにスライス
し、コアチップの頂端部を一体化されたコアブロックの
スライス方向と直交する方向で研磨して媒体摺動面を形
成する工程とを含むようにしたり、一体化されたコアブ
ロックをコアチップの有する媒体摺動面内で第1の非磁
性体の面積が第2の非磁性体の面積よりも大きくなるよ
うにトラック形成用溝の形成方向と非平行になる方向に
沿って所定のピッチでスライスしてコアチップを形成す
る工程とを含むようにすることが望ましい。
【0018】
【作用】本発明にかかる磁気ヘッドでは、高密度により
トラック幅が狭小化されても、磁路を構成するのがフェ
ライト等の強磁性体部分であるので磁路の全体積が減少
することなくヘッドの規格化出力が低下することはな
い。また、コアチップの媒体摺動面に露呈するのが金属
磁性膜とその両側に配置された第1および第2の非磁性
体であり、フェライト等の強磁性体が露呈しないため、
ヘッド出力にフェライト特有の摺動ノイズが発生するこ
ともない。
【0019】また、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法では、トラック形成用溝を形成して、その溝内に金属
磁性膜を被着形成できるので、一対のコアブロックを得
るための工数が多くなることもない。
【0020】
【実施例】本発明にかかる磁気ヘッドおよびその製造方
法の実施例を図1ないし図7に示して説明する。
【0021】まず、本発明の磁気ヘッドは図1と図2に
示す。図1は高密度記録用FDD装置に,図2はS−V
HS等用VTR装置にそれぞれ搭載される磁気ヘッドを
示す。これらの磁気ヘッドは同図に示すようにフェライ
ト等の強磁性体からなる一対のコア21を接合一体化し
たコアチップ22からなり、コア21の接合面間にギャ
ップスペーサとなるSiO2 等の非磁性体薄膜(図示せ
ず)を介在させることにより、コアチップ22の媒体摺
動面23に磁気ギャップgを形成する。コアチップ22
では、セラミックス等からなる第1の非磁性体24に傾
斜面25を形成し、その傾斜面25に高飽和磁束密度を
有するセンダスト等の金属磁性膜26をスパッタリング
等により形成し、さらに上記金属磁性膜26上にガラス
等からなる第2の非磁性体27をモールド等により形成
する。このセラミックス等からなる第1の非磁性体2
4,ガラス等からなる第2の非磁性体27および金属磁
性膜26により、コアチップ22の媒体摺動面23が形
成され、磁気ギャップgのトラック幅Twはその媒体摺
動面23に露呈する金属磁性膜26の厚みと等しい。こ
こで図示しないが、所定のトラック幅を得るために上記
金属磁性膜26とSiO2 やAl23 等の絶縁薄膜と
を交互に積層したラミネート層を形成するようにしても
よいのは勿論である。さらに、上記金属磁性膜26と接
するようにフェライト等の強磁性体28が形成されてい
る。
【0022】上記磁気ヘッドでは、高密度記録化により
磁気ギャップgのトラック幅Twが小さくなっても、磁
路を構成するのがフェライト等の強磁性体28であるの
で、磁路の全体積が減少することなくヘッドの規格化出
力が低下することはない。
【0023】また、媒体摺動面23に露呈するのが金属
磁性膜26とその両側に配置されたセラミックス等から
なる第1の非磁性体24およびガラス等からなる第2の
非磁性体27であり、フェライト等の強磁性体28が露
呈しないため、ヘッド出力にフェライト特有の摺動ノイ
ズが発生することもない。
【0024】S−VHS等用VTR装置に搭載される磁
気ヘッドの場合、媒体摺動面23に媒体である磁気テー
プが摺動するため、媒体摺動面23での耐摩耗性が要求
される。媒体摺動面23での耐摩耗性を向上させるため
には、図2に示すようにセラミックス等からなる第1の
非磁性体24をビッカース硬度が500以上の例えばC
a・TiO3 等の非磁性体に置き換えればよい。
【0025】次に、本発明における磁気ヘッドの製造方
法を図3(a)〜(e),図4(a)〜(d)に示す。
まず図3(a)に示すようにCa・TiO3 等の第1の
非磁性体24を用意し、この第1の非磁性体に多数のト
ラック形成用溝29を定ピッチで刻設する。そして図3
(b)に示すように上記トラック形成用溝29の溝内側
面の傾斜面25にセンダスト等の金属磁性膜26をスパ
ッタリング等により被着形成する。このとき、トラック
形成用溝29が第1の非磁性体24の表面に対して傾斜
面25を有するV溝形状であるため、金属磁性膜26の
成膜において所定の厚みに設定することが容易である。
その後、図3(c)に示すように上記金属磁性膜26上
に第2の非磁性体であるガラス27をモールドすること
により充填する。そして、図3(d)に示すようにCa
・TiO3 等の第1の非磁性体24を所定の寸法だけ研
磨加工することにより強磁性体28との接合面30を形
成する。そして、図3(e)に示すように上記Ca・T
iO3 等の第1の非磁性体24とフェライト等の強磁性
体28とを接合面30を衝合面として熱圧着により一体
化し、板状の母材基板31を形成する。そして、図4
(a)に示すように上述のようにして得られた母材基板
31を用意し、図4(b)に示すようにトラック形成用
溝29の形成方向と直交する方向に切断して対をなす長
尺なコアブロック32を得る。ここでコアブロック32
の内側面にその長手方向に沿って巻線用窓となる凹溝3
3およびデプス規制用V溝34を切削加工し、コアブロ
ック32の切断面である内側面を鏡面研磨仕上げする。
その上で図4(c)に示すように一対のコアブロック3
2の内側面をギャップスペーサとなるSiO2 等の非磁
性体薄膜(図示せず)を介して突き合わせて加熱し接合
一体化し、さらに図4(d)に示すように一体化された
コアブロック32の外側面およびギャップスペーサを介
した接合面を下端面35側から長手方向に沿って凹溝3
6,37,38を形成することによってコイル巻回部を
形成する。
【0026】次に、所定のデプスとなるように上記接合
一体化されたコアブロック32の頂端面に鏡面研磨面3
6を形成し、上記接合一体化されたコアブロック32を
定ピッチでスライスして図1および図3(e)に示すコ
アチップ22を得る。
【0027】また上述したようにS−VHS等用VTR
装置に搭載され媒体摺動面23での耐摩耗性が要求され
る磁気ヘッドを製造する場合、媒体摺動面23での耐摩
耗性をより一層向上させるために、図5に示すようにギ
ャップスペーサを介して一体化されたコアブロック32
をコアチップの有する媒体摺動面23内で、500以上
のビッカース硬度を有するCa・TiO3 等の第1の非
磁性体基板24の面積が、ガラス等の第2の非磁性体2
7の面積よりも大きくなるように、トラック形成用溝2
9の形成方向と非平行となる方向に沿って所定のピッチ
でスライスして、コアチップ22を得ることによって、
媒体摺動面23内で500以上のビッカース硬度を有す
るCa・TiO3 等の非磁性体24のしめる面積の割合
を大きくすることができる。このようにすれば、媒体摺
動面23での耐摩耗性をより一層向上することができ
る。
【0028】なお、以上説明した実施例での磁気ヘッド
およびその製造方法では、トラック幅を規制する金属磁
性膜26が媒体摺動面23に対して傾斜した面上に形成
しているため、上記媒体摺動面23での磁気テープ等の
走行により媒体摺動面23が摩耗した場合、上記トラッ
ク幅が位置ずれすることがあり、これを解決するために
上述した各種手段を講じればよい。
【0029】一方、例えば図6に示すように一対のコア
ブロック32を作製した上で、両コアブロック32をギ
ャップスペーサを介して突き合わせて接合一体化したも
のをトラック形成用溝29の傾斜面25と平行に沿って
スライスしてコアチップ22形成した後、そのコアチッ
プ22の頂端面をそのスライス方向と直交する方向に研
磨加工することにより、媒体摺動面23を形成するよう
にすればよい。あるいは図7に示すようにトラック形成
用溝29に金属磁性膜26をスパッタリング等により被
着形成する場合、上記トラック形成用溝29を磁気ギャ
ップのデプス寸法を規制するデプスエンドDまでの短い
寸法だけCa・TiO3 等の非磁性体基板24の表面に
対して垂直となる部分Pを有するように形成すれば、そ
の垂直部分Pが比較的短いトラック形成用溝29のエッ
ヂ部分となっているので、金属磁性膜26の形成時に所
定の厚みとなるようにすることは容易である。このよう
にすれば、金属磁性膜26が媒体摺動面23に対して垂
直となるので、媒体摺動面23が磁気テープ等の走行に
より摩耗しても、トラック幅を規制する金属磁性膜26
が位置ずれすることがない。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、高密度記録化によりト
ラック幅が狭小化しても、磁路を構成するのがフェライ
ト等の強磁性体部分であるので、磁路の全体積が減少す
ることがなく、ヘッドの規格化出力の低下を未然に防げ
る。また、媒体摺動面に露呈するのが金属磁性膜と第
1,第2の非磁性体であり、フェライト等の強磁性体部
分が露呈しないため、ヘッド出力にフェライト特有の摺
動ノイズが発生することもない。
【0031】さらに、本発明にかかる磁気ヘッドの製造
方法では、トラック形成用溝を刻設し、その溝内側面に
金属磁性膜を形成することができるので、従来の積層ラ
ミネート型ヘッドの製造方法と比較して、一対のコアブ
ロックを得るための工数が多くなることもない。
【0032】このように、本発明によれば、製作が非常
に容易で出力効率の良好な高品質の磁気ヘッドを提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 高密度記録用FDD装置に搭載される本発明
の磁気ヘッドを示す斜視図
【図2】 S−VHS等用VTR装置に搭載される本発
明の磁気ヘッドを示す斜視図
【図3】(a)〜(e)は本発明にかかる磁気ヘッドの
製造方法を説明する各工程での母材基板の断面図
【図4】(a)〜(d)は本発明にかかる磁気ヘッドの
製造方法を説明する各工程での母材およびコアブロック
を示す斜視図
【図5】 図2の磁気ヘッドにおいて、媒体摺動面内で
第1の非磁性体の面積を第2の非磁性体の面積よりも大
きくしたものを示す斜視図
【図6】 本発明方法の変形例を説明するための要部拡
大側面図
【図7】 本発明方法のさらに他の変形例を説明するた
めの要部拡大側面図
【図8】 一般的な積層ラミネート型ヘッドの具体例を
示す斜視図
【図9】 一般的なMIGヘッドの具体例を示す斜視図
【図10】(a)〜(d)は図8の積層ラミネート型ヘ
ッドの製造方法を説明するための各工程でのコアブロッ
クを示す斜視図
【符号の説明】
21 コア 22 コアチップ 23 媒体摺動面 24 第1の非磁性体 25 傾斜面 26 金属磁性膜 27 第2の非磁性体 28 強磁性体 29 トラック形成用溝

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一対の強磁性体コアを接合一体化してその
    媒体摺動面に磁気ギャップを設けたコアチップからなる
    磁気ヘッドにおいて、第1の非磁性体に傾斜面を形成
    し、その傾斜面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を
    被着するとともに、その金属磁性膜上に第2の非磁性体
    を設けて媒体摺動面を形成し、媒体摺動面を含む頂端部
    以外にコアチップの主体積をしめる強磁性体を設けるこ
    とを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】第1の非磁性体のビッカース硬度が500
    以上であることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッ
    ド。
  3. 【請求項3】媒体摺動面と磁気ギャップの深さを規制す
    るデプスエンドとの間で金属磁性膜が媒体摺動面に対し
    て垂直であることを特徴とする請求項1または2記載の
    磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】板状の第1の非磁性体に複数の傾斜面を有
    するトラック形成用溝を形成し、その溝内に高飽和磁束
    密度を有する金属磁性膜を所定のトラック幅に相当する
    厚みで被着形成する工程と、その金属磁性膜上に第2の
    非磁性体を充填する工程と、上記板状の第1の非磁性体
    のトラック形成用溝を有する側面を一平面に鏡面研磨仕
    上げする工程と、上記鏡面研磨仕上げされた側面と他の
    板状の強磁性体の鏡面研磨仕上げされた側面とを衝合面
    として熱圧着することによって一体化し、板状の母材基
    板を形成する工程と、その板状の母材基板をトラック形
    成用溝の形成方向と垂直方向になる方向に切断して対を
    なすコアブロックを形成する工程と、その対をなすコア
    ブロックの両切断面を鏡面研磨仕上げする工程と、その
    対をなすコアブロックをその切断面を衝合面としてギャ
    ップスペーサとなる非磁性膜を介して突き合わせ熱圧着
    し一体化する工程と、一体化されたコアブロックをその
    短手方向に沿って所定のピッチでスライスしてコアチッ
    プを形成する工程とを含むことを特徴とする磁気ヘッド
    の製造方法。
  5. 【請求項5】一体化されたコアブロックをトラック形成
    用溝の傾斜面と平行になるように所定のチップ厚みにス
    ライスする工程と、コアチップの頂端部を一体化された
    コアブロックのスライス方向と直交する方向で研磨して
    媒体摺動面を形成する工程とを含むことを特徴とする請
    求項4記載の磁気ヘッドの製造方法。
  6. 【請求項6】一体化されたコアブロックをコアチップの
    有する媒体摺動面内で第1の非磁性体の面積が第2の非
    磁性体の面積よりも大きくなるようにトラック形成用溝
    の形成方向と非平行になる方向に沿って所定のピッチで
    スライスしてコアチップを形成する工程とを含むことを
    特徴とする請求項4または5記載の磁気ヘッドの製造方
    法。
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