JPH05307711A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高い費用を掛けることなく高密度記録媒体へ
の書込に耐え得る高い書込磁界強度および狭トラック幅
を得ることができる磁気ヘッドおよびその製造方法を提
供する。 【構成】 コンピュータのハードディスク装置に搭載さ
れている磁気ヘッド３１は、スライダ３２を備える。ス
ライダ３２は、互いに金属磁性膜２を介して接着されて
いる一対の非磁性体３３，３４を有する。非磁性体３３
と非磁性体３４との間に挟み込まれている金属磁性膜２
の厚さ寸法はトラック幅に等しい。スライダ３２にはヘ
ッドコア３５が接合され、スライダ３２とヘッドコア３
５との間にはギャップ２７が形成されている。ヘッドコ
ア３５は互いに金属磁性膜４を介して接着されている一
対の磁性体３６，３７を有する。磁性体３６と磁性体３
７との間に挟み込まれている金属磁性膜４の厚さ寸法は
トラック幅に等しい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスク装置等
に用いられる磁気ヘッドおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ハードディスク装置にはモノシ
リック構造の磁気ヘッドが搭載されている。この磁気ヘ
ッド（以下、フェライト磁気ヘッドという）を製造する
とき、図１１に示すように、フェライト材からなるブロ
ック状の磁性基板１６と、ガラス充填用溝１９および巻
線用溝１８が形成され、フェライト材からなるブロック
状の磁性基板１７とが準備される。

【０００３】次に、図１２に示すように、磁性基板１６
の接着面および磁性基板１７の磁性基板１６に対する接
着面に鏡面加工が施された後、磁性基板１７の溝１９に
接着用ガラス材１０を充填しかつギャップ２７となる非
磁性膜（図示せず）を挟み込みながら磁性基板１７と磁
性基板１６とが接着され、接合ブロック２０が形成され
る。

【０００４】次に、接合ブロック２０は切断線（図１２
中の一点鎖線で示す）に沿って切断され、図１３に示す
ように、複数の磁気ヘッド基材２１が形成される。

【０００５】磁気ヘッド基材２１の所定の面には、図１
４に示すように、トラック幅Ｔを規制するためのスライ
ダー溝２２が形成される。

【０００６】スライダー溝２２の形成後、図１５に示す
ように、磁気ヘッド基材２１には、テーパ加工によって
ギャップ近傍の記録媒体に対する接触性を向上するため
のテーパ面２５が形成される。

【０００７】次に、図１６および図１７に示すように、
トラック部２４の両側の部位２６が削られ、スライダー
とヘッドコアとが一体化されているモノシリック構造の
フェライト磁気ヘッド２８が形成される。

【０００８】フェライト磁気ヘッド２８は、溝１８を介
してコイルが巻かれた後、ヒンジプレートに組み込まれ
る。

【０００９】近年、処理される情報量の増加に伴い大き
な記憶容量を有するハードディスク装置が出現し、該ハ
ードディスク装置には、記憶容量を大きくするために、
高い抗磁力Ｈｃを有する磁性材料からなる高密度記録媒
体が用いられている。

【００１０】しかし、従来のフェライト磁気ヘッド２８
では、ヘッドコアおよびスライダの材質がフェライト材
であることにより、飽和磁束密度が比較的小さいから、
前記高密度記録媒体に対し十分な書込磁界強度を得るこ
とができず、前記高密度記録媒体を搭載するハードディ
スク装置に用いることができない。また、トラック幅Ｔ
がスライダ溝２２の溝加工によって規制されているか
ら、該溝加工によってトラック幅Ｔをより狭くすること
は困難である。よって、従来のフェライト磁気ヘッドに
代えて、前記高密度記録媒体に対する磁気ヘッドとし
て、ＭＩＧヘッド、または薄膜磁気ヘッドが用いられ
る。

【００１１】ＭＩＧヘッドでは、フェライト材からなる
コアのギャップ近傍部位に高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜が形成され、該金属磁性膜によって書込磁界強度
の向上が図られているが、該金属磁性膜とそれが形成さ
れているヘッドコアの部位との界面において疑似ギャッ
プが発生し易い。また、ＭＩＧヘッドの製造方法は従来
の磁気ヘッド２８の製造方法とほぼ同じであるから、前
記高密度記憶媒体による記憶容量の大容量化に伴いトラ
ック部の幅をさらに狭くすることは難しい。

【００１２】これに対し、薄膜磁気ヘッドでは、トラッ
ク部の幅が狭く、高い書込磁界強度が得られているが、
製造費用がフェライト磁気ヘッドおよびＭＩＧヘッドに
比して高い。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のフェライト磁気ヘッドでは、前記高密度記録媒体に対
する書込磁界強度が不足し、該フェライト磁気ヘッドに
代えて用いられるＭＩＧヘッドでは、前記高密度記録媒
体に対する書込能力の向上に限界があり、薄膜ヘッドで
は、その製造に高い費用が掛かる。

【００１４】本発明は、上述の問題を解決すべく、高い
費用を掛けることなく高密度記録媒体への書込に耐え得
る高い書込磁界強度および狭トラック幅を得ることがで
きる磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目
的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、互いに重ね合わされている一対の非磁性体間に形成
されかつ膜厚がトラック幅を規定する高飽和磁束密度材
製の第１の金属磁性膜を有するスライダと、互いに重ね
合わされている一対の磁性体間に形成されかつ膜厚がト
ラック幅を規定する高飽和磁束密度材製の第２の金属磁
性膜を有し、前記第１の金属磁性膜と前記第２の金属磁
性膜との間にギャップが形成されるように前記スライダ
に接合されているヘッドコアとを備える。

【００１６】請求項２に記載の本発明は、請求項１に記
載の磁気ヘッドの製造方法であって、前記非磁性体間に
前記第１の金属磁性膜をスパッタリングなどの薄膜形成
手段によって形成し、かつ前記磁性体間に前記第２の金
属磁性膜を前記薄膜形成手段によって形成した後に、前
記スライダと前記ヘッドコアとを接合する。

【００１７】

【作 用】本発明の磁気ヘッドでは、前記スライダに前
記第１の金属磁性膜が設けられ、前記ヘッドコアに前記
第２の金属磁性膜が設けられている。前記第１および第
２の金属磁性膜が形成されていることによって高抗磁力
Ｈｃを有する高密度記録媒体に対する書込磁界強度が高
くなり、高密度記録媒体への書込に使用することができ
る。

【００１８】また、狭いトラック幅が要求されるとき、
前記第１および第２の金属磁性膜の膜厚がトラック幅を
規定するから、該第１および第２の金属磁性膜の膜厚を
薄くすることによってトラック幅を狭くすることがで
き、高密度記録媒体に対する書込能力を容易に向上させ
ることができる。

【００１９】さらに、前記第１および第２の金属磁性膜
をスパッタリングなどの薄膜形成手段で形成することに
よって、所定の膜厚を有する該第１および第２の金属磁
性膜が容易に得られるから、従来の機械加工によるトラ
ック幅の形成に比して製造費の増加は僅かであり、製造
コストの上昇が抑えられる。

【００２０】本発明の磁気ヘッドの製造法では、前記ス
ライダと前記ヘッドコアとの接合前に、前記第１および
第２の金属磁性膜をスパッタリングなどの薄膜形成手段
で形成することによって、製造コストを上昇させること
なく高密度記録媒体への書込に耐え得る高い書込磁界強
度および狭トラック幅を有する磁気ヘッドが得られる。

【００２１】

【実施例】以下に、本発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。

【００２２】図１は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示
す平面図、図２は図１の磁気ヘッドを示す側面図、図３
は図１の磁気ヘッドを示す正面図、図４は図１の磁気ヘ
ッドのギャップの周囲を拡大して示す平面図、図５は本
発明の磁気ヘッドの他の実施例におけるギャップの周囲
を拡大して示す平面図である。

【００２３】ハードディスク装置に搭載されている磁気
ヘッド３１は、図１〜図４に示すように、トラック幅を
規制するスライダ溝７が形成されているスライダ３２を
備える。スライダ３２は、互いに金属磁性膜２を介して
接着されている一対の非磁性体３３，３４を有する。非
磁性体３３と非磁性体３４との間に挟み込まれている金
属磁性膜２は高飽和磁束密度の磁性材からなり、その厚
さ寸法はトラック幅Ｔに等しい。

【００２４】スライダ３２にはヘッドコア３５が接合さ
れ、スライダ３２とヘッドコア３５との間にはギャップ
２７を規定する非磁性金属膜（図示せず）が挿入されて
いる。ヘッドコア３５は互いに金属磁性膜４を介して接
着されている一対の磁性体３６，３７を有する。磁性体
３６と磁性体３７との間に挟み込まれている金属磁性膜
４は、金属磁性膜２と同様に、高飽和磁束密度の磁性材
からなり、その厚さ寸法はトラック幅Ｔに等しい。

【００２５】ヘッドコア３５とスライダ３２とは、金属
磁性膜２と金属磁性膜４とがほぼ同一平面上に位置する
ように接合され、金属磁性膜２と金属磁性膜４との間に
は、ギャップ２７が形成されている。ヘッドコア３５と
スライダ３２との界面には、ヘッドコア３５とスライダ
３２との接合に用いられるガラス材層３８が形成されて
いる。

【００２６】ヘッドコア３５の記録媒体に対向する面
は、スライダ３２の記録媒体対向面と同様に、金属磁性
膜４の一部が記録再生部分となるように機械加工されて
いる。また、ギャップ２７近傍部位の記録媒体に対する
接触性を向上させるためのテーパ面８が形成されてい
る。

【００２７】ヘッドコア３５には、巻線用溝５が形成さ
れ、該溝５を介してコイル（図示せず）が巻き付けられ
ている。

【００２８】以上により、磁気ヘッド３１では、高飽和
磁束密度の金属磁性膜２，４を形成することによって高
抗磁力Ｈｃを有する高密度記録媒体に対する書込磁界強
度が高くなり、高密度記録媒体への書き込みに使用する
ことができる。

【００２９】また、ヘッドコア３５の磁性体３６，３７
間に金属磁性膜４が挟み込まれていることから、磁気抵
抗が小さくなり、インダクタンスを大きくすることなく
コイルからの磁束を高い効率で金属磁性膜４に伝達する
ことができる。

【００３０】さらに、金属磁性膜２と金属磁性膜４との
突き合わせが僅かにずれているとき、金属磁性膜４の側
が磁性体３６，３７であることによってヘッドとしての
効率を維持することができる。

【００３１】なお、記録媒体に対する接触性の安定化を
図るために、図４に示すように、記録媒体に対する接触
性に影響を与えるスライダー幅Ｓをトラック幅Ｔより大
きくしかつトラックピッチより小さくすることが好まし
い。

【００３２】また、スライダ幅Ｓをトラックピッチ以上
に広げるために、図５に示すように、ヘッドコア３５の
ギャップ２７に対向する部位をギャップ２７に向けて漸
次に絞り込み、ヘッドコア３５のギャップ２７の対向部
位の幅Ａをトラックピッチより小さくすることができ
る。

【００３３】次に、磁気ヘッド３１の製造方法について
図面を参照しながら説明する。図６は図１の磁気ヘッド
の製造方法の第１の工程を説明するための図、図７は図
１の磁気ヘッドの製造方法の第２の工程を説明するため
の図、図８は図１の磁気ヘッドの製造方法の第３の工程
を説明するための図、図９は図１の磁気ヘッドの製造方
法の第４の工程を説明するための図、図１０は図１の磁
気ヘッドの製造方法の第５の工程を説明するための図で
ある。

【００３４】磁気ヘッド３１を製造するとき、図６〜図
１０に示すように、まず、互いに重ね合わされている複
数の非磁性体基板１間に挟み込まれている金属磁性膜２
を有するブロック状の複合基材４１が準備される。金属
磁性膜２は対応する非磁性体基板１の片面にスパッタな
どの薄膜形成手段によって形成されている。

【００３５】複合基材４１の準備と同時に、図７に示す
ように、互いに重ね合わされている複数の磁性体基板３
間に挟み込まれている金属磁性膜４を有するブロック状
の複合基材４２が準備される。金属磁性膜４は対応する
磁性体基板３の片面にスパッタなどの薄膜形成手段によ
って形成されている。

【００３６】次いで、複合基材４２の接合面には、図８
に示すように、金属磁性膜４に平行に伸びるガラス充填
用溝６および該溝６に直交する方向に伸びる巻線用溝５
が形成される。各溝５，６形成の後、図９に示すよう
に、複合基材４１の接合面および複合基材４２の複合基
材４１に対する接合面に鏡面加工が施され、複合基材４
２の溝６にガラス材３８を充填しかつギャップ２７とな
る非磁性膜（図示せず）を挟み込みながら複合基材４２
と複合基材４１とが接着される。なお、複合基材４１と
複合基材４２とは、金属磁性膜２と金属磁性膜４とが一
致するように重ね合わされている。

【００３７】互いに接着されている複合基材４１と複合
基材４２とからなる接合ブロック４３は、図９に示すよ
うに、予め決定されている切断線（図中の一点鎖線で示
す）に沿って切断され、複数の磁気ヘッド基材４４（図
１０に示す）が形成される。

【００３８】磁気ヘッド基材４４には、図１に示すよう
に、スライダー溝７を形成するための溝加工、テーパ面
８を形成するためのテーパ加工およびヘッドコアを形成
するための切削加工が施され、磁気ヘッド基材４４から
磁気ヘッド３１が得られる。

【００３９】磁気ヘッド３１のヘッドコアには溝５を介
してコイルが巻かれ、コイルが巻かれた磁気ヘッド３１
はヒンジプレートに組み込まれる。

【００４０】以上により、各金属磁性膜２，４をスパッ
タリングなどの薄膜形成手段で形成することによって、
所定の膜厚を有する金属磁性膜２，４が容易に得られる
から、従来の機械加工によるトラック幅の形成に比して
製造費の増加は僅かであり、製造コストの上昇が抑えら
れる。

【００４１】また、記録媒体に対する接触性に影響を与
えるスライダー幅がトラック幅より大きくしかつトラッ
クピッチより小さくなるように複合基材４２に機械加工
を施すことによって、記録媒体に対する接触性が安定し
ている磁気ヘッドを簡単に得ることができる。

【００４２】さらに、ヘッドコア３５のギャップ２７に
対向する部位がギャップ２７に向けて漸次に絞り込み込
まれるように複合基材４２に機械加工を施すことによっ
て、ヘッドコア３５のギャップ２７の対向部位の幅Ａを
トラックピッチより小さくすることができ、スライダ幅
Ｓがトラックピッチ以上に広い磁気ヘッドを得ることが
できる。

【００４３】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の磁気ヘ
ッドによれば、低コストで高密度記録媒体への書込に耐
え得る高い書込磁界強度および狭トラック幅を得ること
ができる。

【００４４】本発明の磁気ヘッド製造方法によれば、製
造コストを上昇させることなく高密度記録媒体への書込
に耐え得る高い書込磁界強度および狭トラック幅を有す
る磁気ヘッドが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す平面図で
ある。

【図２】図１の磁気ヘッドを示す側面図である。

【図３】図１の磁気ヘッドを示す正面図である。

【図４】図１の磁気ヘッドのギャップの周囲を拡大して
示す平面図である。

【図５】本発明の磁気ヘッドの他の実施例におけるギャ
ップの周囲を拡大して示す平面図である。

【図６】図１の磁気ヘッドの製造方法を第１の工程を説
明するための図である。

【図７】図１の磁気ヘッドの製造方法の第２の工程を説
明するための図である。

【図８】図１の磁気ヘッドの製造方法の第３の工程を説
明するための図である。

【図９】図１の磁気ヘッドの製造方法の第４の工程を説
明するための図である。

【図１０】図１の磁気ヘッドの製造方法の第５の工程を
説明するための図である。

【図１１】従来の磁気ヘッドの製造方法を第１の工程を
説明するための図である。

【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法の第２の工程を
説明するための図である。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法の第３の工程を
説明するための図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造方法の第４の工程を
説明するための図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドの製造方法の第５の工程を
説明するための図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの製造方法の第６の工程を
説明するための図である。

【図１７】図１６の工程で得られた磁気ヘッドを示す側
面図である。

【符号の説明】 １ 非磁性基板 ２，４ 金属磁性膜 ３ 磁性基板 ２７ ギャップ ３１ 磁気ヘッド ３２ スライダ ３３，３４ 非磁性体 ３５ ヘッドコア ３６，３７ 磁性体 ４１，４２ 複合基材

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】互いに重ね合わされている一対の非磁性体
   間に形成されかつ膜厚がトラック幅を規定する高飽和磁
   束密度材製の第１の金属磁性膜を有するスライダと、 互いに重ね合わされている一対の磁性体間に形成されか
   つ膜厚がトラック幅を規定する高飽和磁束密度材製の第
   ２の金属磁性膜を有し、前記第１の金属磁性膜と前記第
   ２の金属磁性膜との間にギャップが形成されるように前
   記スライダに接合されているヘッドコアとを備えたこと
   を特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法で
   あって、 前記非磁性体間に前記第１の金属磁性膜をスパッタリン
   グなどの薄膜形成手段によって形成し、かつ前記磁性体
   間に前記第２の金属磁性膜を前記薄膜形成手段によって
   形成した後に、前記スライダと前記ヘッドコアとを接合
   するようにしたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
   法。