JPH06215315A

JPH06215315A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH06215315A
Application number: JP702693A
Authority: JP
Inventors: Tadatoshi Hirata; 忠敏平田; Katsumi Sakata; 勝美坂田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-01-19
Filing date: 1993-01-19
Publication date: 1994-08-05

Abstract

(57)【要約】【目的】高周波特性を維持するとともに、磁気ギャッ
プの見かけ上のトラック幅に対する実質的なトラック幅
の減少による記録再生の劣化を防止する。【構成】一対の磁気コア半体１，２がギャップ膜３，
４を介して突合わされ、その突合わせ面に磁気ギャップ
ｇを形成してなる磁気ヘッドにおいて、少なくとも一方
の磁気コア半体１，２が非磁性膜５ｂ，６ｂを介して金
属磁性薄膜５ａ，６ａを積層してなる積層膜（金属磁性
膜５，６）を有し、その積層膜のうち磁気ギャップ近傍
部のみが金属磁性薄膜５ａ，６ａのみからなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
（以下、ＶＴＲと称する。）等に搭載される磁気ヘッド
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、高品位のＶＴＲやデジタルＶＴＲ
等のような高密度磁気記録システム開発が盛んになって
きており、磁気記録媒体もこのような大量の情報を記録
するための高密度化の流れの中で、酸化鉄系から合金粉
末を用いた媒体や金属蒸着型の媒体のような高抗磁力磁
気記録媒体へと変りつつある。

【０００３】このような状況の中にあって磁気ヘッドと
しては、これら高抗磁力磁気記録媒体に対応するような
高飽和磁束密度を有し周波数特性に優れた磁気ヘッドの
開発が望まれている。例えば、飽和磁束密度の高いセン
ダストやアモルファス磁性合金等の金属磁性材料を用い
た磁気ヘッドの開発が行なわれている。特に、高周波数
領域での渦電流損失を抑制するために、これら高飽和磁
束密度を有する金属磁性材料よりなる薄膜をＳｉＯ₂等
の非磁性膜を介して何層にも積層することが行われてい
る。このように、金属磁性膜を積層膜とすることで、バ
ルク状の金属磁性材料を用いたものに比べ、高周波数領
域における渦電流損失を低減することができる。

【０００４】しかし、この種の磁気ヘッドでは、磁気ギ
ャップ部を拡大して示す図１０のように、非磁性膜１０
１，１０２を介して膜厚の薄い金属磁性薄膜１０３，１
０４を積層してなる積層膜の磁気ギャップ部における端
面の幅Ｔｗが、磁気ギャップｇのみかけ上のトラック幅
となる。すなわち、記録再生を行う磁気ギャップｇの実
質的なトラック幅Ｔｗ´は、積層膜を構成する非磁性膜
１０１，１０２の部分では磁化が行われないので、この
非磁性膜１０１，１０２の膜厚分だけ見かけ上のトラッ
ク幅が小さくなる。つまり、実質的なトラック幅Ｔｗ´
は、Ｔｗ−（Ｔ ₁＋Ｔ₂）となる。

【０００５】このため、実質上のトラック幅の減少によ
り、記録再生効率が低下するという問題が生じる。ま
た、上記構造の磁気ヘッドで記録された磁気記録媒体を
再生する際、上記非磁性膜１０１，１０２に対応する部
分の磁気記録媒体が完全に磁化されないために、トラッ
クずれが起こったり、また、記録再生効率が低下すると
いう問題が生ずる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このような実情に鑑み
て、さらに従来においては、特開平４−６１６０９号公
報に記載されるような磁気ヘッドが提案されている。か
かる磁気ヘッドは、高周波数領域における渦電流損失の
低減を維持しつつ、実質的なトラック幅の減少を防止す
るために、積層膜のギャップ形成面側の端面に、この積
層膜と略直交する方向に非磁性膜が介在されていない別
体の金属磁性膜を形成し、この別体の金属磁性膜によっ
て磁気ギャップのトラック幅を規制するようにしたもの
である。

【０００７】ところで、上記積層膜のギャップ形成面側
の端面に別体の金属磁性膜を形成するには、フェライト
よりなるブロックの一主面に形成したトラック幅規制溝
の傾斜面上に積層膜を成膜した後、ブロック全体に金属
磁性膜を被着し、その後積層膜部分上にのみ金属磁性膜
が残存するように、当該金属磁性膜をイオンビームエッ
チングによって取り除く。

【０００８】ところが、金属磁性膜の除去をイオンビー
ムエッチングによって行うと、当該金属磁性膜の磁気特
性が劣化する。また、金属磁性膜を必要部分にのみ残存
させるためにパターンニング工程が必要となる他、作業
が面倒になり、また工数が多く時間もかかり製造工程上
具合が悪い。

【０００９】そこで本発明は、高周波特性を維持すると
ともに、磁気ギャップの見かけ上のトラック幅に対する
実質的なトラック幅の減少による記録再生の劣化を防止
し、高密度情報を良好に記録再生可能となす高品位で生
産性に優れた磁気ヘッドを提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、一対の磁気コア半体がギャップ膜を介
して突合わされ、その突合わせ面に磁気ギャップを形成
してなる磁気ヘッドにおいて、少なくとも一方の磁気コ
ア半体が非磁性膜を介して金属磁性薄膜を積層してなる
積層膜を有し、その積層膜のうち磁気ギャップ近傍部の
みが金属磁性薄膜のみからなることを特徴とする。

【００１１】

【作用】本発明においては、高周波数領域における渦電
流損失の低減を目的として非磁性膜を介して膜厚の薄い
金属磁性薄膜を何層にも積層してなる積層膜のうち、磁
気ギャップ近傍部のみが金属磁性薄膜からなるようにし
ているので、磁気ギャップの見かけ上のトラック幅と実
質的なトラック幅が一致する。したがって、磁気ギャッ
プ部に非磁性膜が存在することによる記録再生効率の低
下やトラックずれが防止される。

【００１２】また、本発明においては、磁気ギャップ近
傍部の金属磁性薄膜は、非磁性膜を介して積層される金
属磁性薄膜と一体的に形成されるものであるため、エッ
チング等によって別体として形成されるものと比べ、当
該金属磁性薄膜の磁気特性の劣化が生じず、しかも製造
工程が簡略化される。

【００１３】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図１に示すように、閉磁路を構成する一対
の磁気コア半体１，２が、互いの突合わせ面に被着形成
されるギャップ膜３，４同士を突合わせることにより、
その突合わせ面に記録再生ギャップとして動作する磁気
ギャップｇを形成してなっている。

【００１４】上記一対の磁気コア半体１，２は、いずれ
も主コアとなる金属磁性膜５，６と、この金属磁性膜
５，６をその膜厚方向より挾み込むセラミックス等の如
き非磁性材料からなる一対の磁気コア基板７，８及び
９，１０とによって構成されている。

【００１５】上記金属磁性膜５，６は、図２にその拡大
図を示すように、高周波数領域における渦電流損失を回
避する目的で、膜厚の薄い金属磁性薄膜５ａ，６ａをＳ
ｉＯ ₂等からなる非磁性膜５ｂ，６ｂを介して何層にも
積層した積層膜とされている。特に、この実施例では、
上記磁気ギャップｇの見かけ上のトラック幅と実際のト
ラック幅を同一にして記録再生効率の低下を防止するた
めに、磁気ギャップ近傍部を金属磁性薄膜５ａ，６ａの
みによって構成している。すなわち、磁気ギャップ近傍
部には、磁路に関与しない非磁性膜５ｂ，６ｂを介在さ
せないようにしている。

【００１６】この結果、金属磁性薄膜５ａ，６ａと非磁
性膜５ｂ，６ｂの各膜厚の総膜厚が見かけ上の磁気ギャ
ップｇのトラック幅となるが、かかる見かけ上のトラッ
ク幅が実際の磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗに一致す
る。したがって、磁気ギャップｇの見かけ上のトラック
幅に対する実質的なトラック幅の減少が生じず、これに
起因する記録再生効率の低下が起こらない。

【００１７】上記金属磁性薄膜５ａ，６ａには、例えば
高飽和磁束密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性
合金材料よりなる膜がいずれも使用でき、結晶質，非結
晶質であるかを問わない。例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合
金等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の一
層の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｅ、
Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｈｆ、Ｖ等の少なくとも一種を添加
したものであってよい。

【００１８】これら金属磁性薄膜５ａ，６ａ及び非磁性
膜５ｂ，６ｂを形成するには、いずれも膜厚制御性に優
れるスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技
術が採用される。

【００１９】上記のように積層膜とされた金属磁性膜
５，６は、一方の磁気コア基板８，１０の一主面に成膜
され、その膜厚方向より他方の磁気コア基板７，９によ
って挾み込まれる。これら磁気コア基板７，８及び９，
１０と金属磁性膜５，６とは、例えばガラスをスパッタ
リングしてなる溶着ガラス膜１１，１２によって接合さ
れる。

【００２０】そして、上記溶着ガラス膜１１，１２によ
って接合一体化された磁気コア半体１，２は、互いの突
合わせ面にそれぞれ被着形成されたＡｕ等からなるギャ
ップ膜３，４を介して、これらＡｕ同士の低温熱拡散接
合によって接合一体化され、その突合わせ面に磁気ギャ
ップｇを形成する。なお、一方の磁気コア半体２の突合
わせ面には、上記磁気ギャップｇのデプスを規制すると
ともにコイルを巻装するための巻線溝１３が形成されて
いる。

【００２１】次に、上述の磁気ヘッドを製造する方法に
ついて、その工程順に従って順次説明する。先ず、図３
に示すように、平面長方形状をなす非磁性材よりなる基
板１４を複数用意し、これら各基板１４の突合わせ面と
なる端面（２ヶ所）を鏡面仕上げする。

【００２２】次いで、図４（ａ），（ｂ）に示すよう
に、鏡面仕上げした各基板１４の一主面にセンダスト等
からなる膜厚の薄い金属磁性薄膜１５ａを、スパッタリ
ング等によってその全面に亘って所望の厚みとなるよう
に成膜する。次に、磁気ギャップに相当する部分を金属
板からなるマスク（図示は省略する。）で覆い、上記金
属磁性薄膜１５ａ上に電気的絶縁性を図るためのＳｉＯ
₂よりなる非磁性膜１６ａをスパッタリングによって成
膜する。

【００２３】この結果、磁気ギャップに相当する部分に
は、非磁性膜１６ａが成膜されないことになる。

【００２４】次に、上記マスクを取り除いた後、上記非
磁性膜１６ａの上に再び金属磁性薄膜１５ｂを成膜す
る。そして、再び磁気ギャップに相当する部分をマスク
で覆い、非磁性膜１６ｂをスパッタリングにより成膜す
る。以後、金属磁性薄膜１５ａ，１５ｂ・・・１５ｄと
非磁性膜１６ａ，１６ｂ，１６ｃの総膜厚が磁気ギャッ
プｇのトラック幅となるまで、上述の作業を繰り返す。
なお、かかる作業は、作成する磁気ヘッドの数に応じて
各磁気ギャップ部分に対してそれぞれ行う。

【００２５】この結果、金属磁性薄膜１５ａ，１５ｂ・
・・１５ｄと非磁性膜１６ａ，１６ｂ，１６ｃとが交互
に積層されてなる積層膜構造の金属磁性膜１７が形成さ
れる。なお、この金属磁性膜１７の磁気ギャップに相当
する部分は、マスクを介して非磁性膜１６ａ，１６ｂ，
１６ｃを成膜しなかったことから、これら非磁性膜１６
ａ，１６ｂ，１６ｃの膜厚分だけ他の部分に対して凹み
となる。

【００２６】そして、上記金属磁性膜１７の上に、これ
ら基板１４同士を接合するためのガラスをスパッタリン
グしてなる溶着ガラス膜１８を成膜する。

【００２７】次に、上記金属磁性膜１７が形成された各
基板１４を、図５に示すように重ね合わせるとともに、
突合わせ方向から圧力Ｆを加えた状態で加熱する。この
結果、各基板１４に成膜された溶融ガラス膜１８が溶け
出し、この溶融ガラス膜１８によって各基板１４同士が
接合される。

【００２８】しかる後、接合一体化された磁気コアブロ
ック１９を、図６に示すようにスライサー等によって切
断する。切断に際しては、金属磁性膜１７と略直交する
ようにして、マスクで覆った磁気ギャップに相当する部
分の中心位置（同図中線Ａ−Ａで示す位置。）と、これ
を挾むその両側の所定コア長さとなる位置（同図中線Ｂ
−Ｂ及び線Ｃ−Ｃで示す位置。）で切断する。同様に、
各磁気ギャップに相当する部分も切断する。

【００２９】この結果、図７に示すように、一対の磁気
コア半体ブロック２０，２１が作成される。

【００３０】次に、図８に示すように、一方の磁気コア
半体ブロック２１の磁気ギャップ形成面となる面（突合
わせ面）に巻線溝２２を形成する。巻線溝２２は、磁気
コア半体ブロック２１の長手方向にブロック全体に亘っ
てスライサー等により加工する。次いで、これら磁気コ
ア半体ブロック２０，２１の突合わせ面をそれぞれ鏡面
仕上げした後、これら突合わせ面にギャップ膜として機
能するＡｕ等よりなる薄膜（図示は省略する。）を成膜
する。

【００３１】そして、これら磁気コア半体ブロック２
０，２１を、図９に示すように、その突合わせ面に形成
されたギャップ膜同士を突合わせ、これらに所定の圧力
を加えるとともに熱をかける。すると、上記Ａｕ同士の
低温熱拡散により上記磁気コア半体ブロック２０，２１
同士が接合一体化される。

【００３２】この結果、各磁気コア半体ブロック２０，
２１の金属磁性膜１７同士の突合わせ面に、記録再生ギ
ャップとして動作する磁気ギャップｇが形成される。

【００３３】次に、この接合一体化された磁気コア半体
ブロック２０，２１に対し、図９に示すように、磁気媒
体摺動面となる部分を円筒研磨する。そして、図９中線
Ｄ−Ｄ及び線Ｅ−Ｅで示す位置でスライサー等によって
切断する。この結果、図１に示す本実施例の磁気ヘッド
が完成する。

【００３４】なお、上述の例では、ギャップ接合をＡｕ
同士による低温熱拡散接合によって行ったが、例えば突
合わせ面にＳｉＯ₂膜を被着形成して融着ガラスによっ
て接合一体化するようにしてもよい。

【００３５】以上、本発明を適用した具体的な実施例に
ついて説明したが、本発明は上述の実施例に限定される
ことなく種々の変更が可能である。例えば、前述の実施
例では、磁気ギャップｇを挾んで設けられる磁気コア半
体１，２のいずれもが金属磁性膜５，６を挟んだ構成の
ものとされているが、いずれか一方の磁気コア半体１，
２がフェライト単体よりなる磁気コア或いは金属磁性膜
が単層膜構造でこれを非磁性材料よりなる基板で挾み込
んでなる磁気コアであっても構わない。

【００３６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気ギャップ近傍部のみを金属磁性薄膜
のみで構成し、その他磁路を構成する部分を高周波数領
域における渦電流損失の低減を目的として金属磁性薄膜
と非磁性膜を積層した積層膜構造としているので、磁気
ギャップの見かけ上のトラック幅と実質的なトラック幅
が一致し、記録再生効率の低下やトラックズレを防止す
ることができる。したがって、本発明の磁気ヘッドによ
れば、高密度記録媒体に対しても良好に情報信号を書込
み又は読み出すことができる。

【００３７】また、本発明においては、磁気ギャップ近
傍部を金属磁性薄膜のみによって形成するに際して、マ
スクによって磁気ギャップ部を覆い当該磁気ギャップ部
に非磁性膜が成膜されないようにして作成するので、エ
ッチング等によって別体として形成されるものと比べ、
当該金属磁性薄膜の磁気特性の劣化が生じず、しかも製
造工程を簡略化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの磁気記録媒体摺
動面を拡大して示す平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、基板作成工程を示す斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、（ａ）は金属磁性膜成膜工程を示す斜
視図であり、（ｂ）はその要部を拡大して示す正面図で
ある。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、磁気コアブロック作成工程を示す斜視
図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、磁気コア半体ブロックへの切り出し工
程を示す斜視図である。

【図７】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、切り出した磁気コア半体ブロックを示
す斜視図である。

【図８】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝
を形成する工程を示す斜視図である。

【図９】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する工程を
順次示すもので、磁気コア半体ブロックの接合工程を示
す斜視図である。

【図１０】従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ部を拡大し
て示す要部拡大平面図である。

【符号の説明】１，２・・・磁気コア半体３，４・・・ギャップ膜５，６・・・金属磁性膜５ａ，６ａ・・・金属磁性薄膜５ｂ，６ｂ・・・非磁性膜７，８，９，１０・・・磁気コア基板１１，１２・・・溶着ガラス膜１３・・・巻線溝

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の磁気コア半体がギャップ膜を介し
て突合わされ、その突合わせ面に磁気ギャップを形成し
てなる磁気ヘッドにおいて、少なくとも一方の磁気コア半体が非磁性膜を介して金属
磁性薄膜を積層してなる積層膜を有し、その積層膜のう
ち磁気ギャップ近傍部のみが金属磁性薄膜のみからなる
ことを特徴とする磁気ヘッド。