JPH04241204A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術の高密度化に伴って、例え
ばメタルテープ等の高保磁力の磁気記録媒体が主流にな
ってきた現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。

【０００３】このような状況の下、磁気ヘッドには、図
１５に示すように、ヘッドコアとして高い飽和磁束密度
を有する軟磁性金属からなる軟磁性薄膜２２と、この軟
磁性薄膜２２を支持する基板２１とを有したヘッドチッ
プ２５が用いられている。

【０００４】上記ヘッドチップ２５を用いた磁気ヘッド
は、軟磁性薄膜２２が磁気ギャップ２３に対して斜めに
形成されているため、磁気ヘッドを磁気テープに摺動さ
せた際、偏摩耗を起こしにくくなっている。

【０００５】一方、狭トラック用の磁気ヘッドでは、上
記軟磁性薄膜２２の膜厚を単にトラック幅に相当する寸
法にまで薄くすると、軟磁性薄膜２２からなるヘッドコ
アの磁気抵抗が増加して磁気ヘッドの性能が低下するこ
とになる。そこで、図１６に示すように、磁気抵抗がで
きるだけ増加しないように、軟磁性薄膜２２の膜厚を磁
気ギャップ２３付近でのみ薄くしたヘッドチップ２６が
用いられている。

【０００６】上記狭トラック用の磁気ヘッドを製造する
場合、まず、トラック幅の寸法以上の厚さの軟磁性薄膜
２２を基板２１上に成膜する。その後、軟磁性薄膜２２
の表面からエッチングあるいは機械加工等を行うことに
より磁気ギャップ２３付近の軟磁性薄膜２２の膜厚だけ
を薄くして、トラック幅に相当する寸法に仕上げている
。こうして得られたコア片２９を一対用意し、そのギャ
ップ面３０同士が対向するように位置合わせしてコア片
２９・２９の接合を行うギャップ溶着が行われ、ヘッド
チップ２６が得られる。

【０００７】ヘッドチップ２６が理想的に製造された場
合、図１７のヘッドチップ２６の軟磁性薄膜２２部分だ
けを抜き出したイメージ図（内部巻線溝は省略されてい
る）に示すように、ギャップ面３０の上部のフロントギ
ャップ２７においても、ギャップ面３０の下部のバック
ギャップ２８においても、軟磁性薄膜２２・２２の対向
する断面は所定の大きさを有している。

【０００８】以上のようにして得られたヘッドチップ２
６（図１６）にヘッドコイル（図示されていない）の巻
回等を行うことにより狭トラック用の磁気ヘッドが製造
される。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
構成では、コア片２９の加工精度が低い場合、図１８の
ヘッドチップ２６の軟磁性薄膜２２部分だけを抜き出し
たイメージ図（内部巻線溝は省略されている）に示すよ
うに、ギャップ面３０の上部のフロントギャップ２７に
おいて軟磁性薄膜２２・２２の断面が対向していても、
ギャップ面３０の下部のバックギャップ２８において軟
磁性薄膜２２・２２の断面がずれている場合があり、こ
れにより、軟磁性薄膜２２からなるヘッドコアの磁気抵
抗が増加して磁気ヘッドの性能が低下するという問題点
を有している。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
基板上に軟磁性薄膜が成膜されている一対のコア片を、
軟磁性薄膜の断面が対向するように低融点ガラスにより
接合して、軟磁性薄膜の断面間に磁気ギャップを形成す
ると共に、前記軟磁性薄膜の膜厚を磁気ギャップ付近で
はトラック幅の寸法に相当する膜厚にし、磁気ギャップ
から離れた位置ではトラック幅の寸法よりも大きい膜厚
にした磁気ヘッドにおいて、一方のコア片における軟磁
性薄膜の基板側の面と、他の一方のコア片における軟磁
性薄膜の基板側とは反対側の面とがほぼ同一平面をなす
ように上記軟磁性薄膜が形成されていることを特徴とし
ている。

【００１１】

【作用】上記の構成によれば、基板上に軟磁性薄膜が成
膜されている一対のコア片を、軟磁性薄膜の断面が対向
するように低融点ガラスにより接合して、軟磁性薄膜の
断面間に磁気ギャップを形成すると共に、前記軟磁性薄
膜の膜厚を磁気ギャップ付近ではトラック幅の寸法に相
当する膜厚にし、磁気ギャップから離れた位置ではトラ
ック幅の寸法よりも大きい膜厚にした磁気ヘッドにおい
て、一方のコア片における軟磁性薄膜の基板側の面と、
他の一方のコア片における軟磁性薄膜の基板側とは反対
側の面とがほぼ同一平面をなすように上記軟磁性薄膜を
形成したので、磁気ギャップから離れた位置での軟磁性
薄膜の膜厚をトラック幅の寸法よりも大きい膜厚にした
分だけ、磁気ギャップから離れた位置における軟磁性薄
膜の対向断面積が増加する。これにより、磁気ギャップ
部で所定のトラック幅が得られるように位置合わせして
一対のコア片を接合する際、各コア片の加工精度に多少
問題があっても、磁気ギャップから離れた位置での軟磁
性薄膜の対向断面積が確保されるので、軟磁性薄膜から
なるヘッドコアの磁気抵抗が必要以上に大きくなること
がなく、所定の性能を有する磁気ヘッドが得られる。

【００１２】

【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図１４
に基づいて説明すれば、以下の通りである。

【００１３】本実施例の磁気ヘッドで用いられるヘッド
チップ１０は、図１の斜視図に示すように、基板１と、
基板１上に磁気ギャップ１３に対して斜めに成膜された
高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜２とからなるコア片
１７ａ・１７ｂを有しており、前記基板１・１上の軟磁
性薄膜２・２が磁気ギャップ１３を有するヘッドコアを
形成するように、一対のコア片１７ａ・１７ｂがギャッ
プ面８にて対向して接合され、低融点ガラス３により補
強された構成になっている。そして、磁気ギャップ１３
と磁気テープ等の磁気記録媒体とが滑らかに接するよう
に、摺動面１５は所定の面粗度になるように研磨仕上げ
が行われている。

【００１４】上記軟磁性薄膜２・２の膜厚は、磁気ギャ
ップ１３付近では磁気テープ等の磁気記録媒体のトラッ
ク幅の寸法に相当する厚さに設定されている一方、磁気
ギャップ１３から離れた位置ではトラック幅の寸法以上
の厚さに設定されている。また、このとき、一方のコア
片１７ａにおける軟磁性薄膜２の基板１側の面１８ａと
、他の一方のコア片１７ｂにおける軟磁性薄膜２の基板
１側とは反対側の面１８ｂとがほぼ同一平面をなすよう
に上記軟磁性薄膜２・２が形成されている。

【００１５】また、ヘッドチップ１０には、上記軟磁性
薄膜２・２からなるヘッドコアにヘッドコイル（図示さ
れていない）を巻回するために、図のように、内部巻線
溝６・６からなる内部巻線穴１６と、外部巻線溝７・７
とが形成されている。

【００１６】上記軟磁性薄膜２には、例えばＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性材料が
使用される。また、基板１には、感光性結晶化ガラス、
結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料あ
るいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料が使用され
る。

【００１７】上記の構成において、軟磁性薄膜２・２が
磁気ギャップ１３に対して斜めに形成されているため、
摺動面１５上に磁気テープ等の磁気記録媒体を摺動させ
た際、磁気ギャップ１３が偏摩耗を受けにくくため、耐
久性に優れている。

【００１８】また、軟磁性薄膜２を支持する基板１にフ
ェライト等の酸化物磁性材料を用いた場合でも、基板１
と軟磁性薄膜２との境界が磁気ギャップ１３と平行でな
いため、上記境界の両側で磁気特性が不連続になりにく
く、磁気ヘッドの性能への悪影響が少ない。

【００１９】しかも、本実施例では、軟磁性薄膜２の膜
厚を磁気ギャップ１３付近では磁気テープ等の磁気記録
媒体のトラック幅の寸法に相当する厚さに設定する一方
、磁気ギャップ１３から離れた位置ではトラック幅の寸
法以上の厚さに設定すると共に、一方のコア片１７ａに
おける軟磁性薄膜２の基板１側の面１８ａと、他の一方
のコア片１７ｂにおける軟磁性薄膜２の基板１側とは反
対側の面１８ｂとがほぼ同一平面をなすように上記軟磁
性薄膜２・２を形成しているので、図１３のヘッドチッ
プ１０の軟磁性薄膜２部分だけを抜き出したイメージ図
（内部巻線溝６は省略されている）に示すように、磁気
ギャップ１３から離れた位置での軟磁性薄膜２の膜厚を
トラック幅の寸法よりも大きい膜厚にした分だけ、磁気
ギャップ１３から離れた位置におけるギャップ面８での
軟磁性薄膜２・２の対向断面積が増加する。これにより
、軟磁性薄膜２・２からなるヘッドコアの磁気抵抗を小
さくできるため、磁気ヘッドの性能が向上する。

【００２０】また、磁気ギャップ１３部で所定のトラッ
ク幅が得られるように位置合わせして一対のコア片１７
ａ・１７ｂをギャップ面８にて接合する際、各コア片１
７ａ・１７ｂの加工精度に多少問題があっても、図１４
のヘッドチップ１０の軟磁性薄膜２部分だけを抜き出し
たイメージ図（内部巻線溝は省略されている）に示すよ
うに、磁気ギャップ１３から離れた位置におけるギャッ
プ面８での軟磁性薄膜２・２の対向断面積をある程度確
保できる。その結果、軟磁性薄膜２・２からなるヘッド
コアの磁気抵抗があまり大きくならずに済み、所定の性
能を有する磁気ヘッドが得られる。

【００２１】上記磁気ヘッドの一製造方法を、図２ない
し図１２に基づいて説明すれば、以下のとおりである。

【００２２】まず、図２に示すように、基板１の片面に
ほぼＶ字状の溝５を所定のピッチ寸法Ａにて連続して形
成する。

【００２３】続いて、図３に示すように、Ｖ字状の溝５
の一方の溝壁面上に、所定の膜厚（トラック幅に相当す
る寸法）の２〜３倍の膜厚になるように軟磁性薄膜２、
例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を形成する。

【００２４】そして、これを加工することにより、一対
のコアブロックを製造する。

【００２５】まず、一方のコアブロックの製造方法につ
いて、図８ないし図１１に基づいて説明する。

【００２６】図８に示すように、軟磁性薄膜２の膜厚が
磁気ギャップ１３（図１）付近でのみ磁気テープ等の磁
気記録媒体のトラック幅の寸法に相当する厚さになるよ
うに、軟磁性薄膜２の表面側（基板１側とは反対側）を
ダイシング等により削り込む。

【００２７】次に、図９に示すように、溝５に低融点ガ
ラス３を充填する。そして、図１０に示すように、低融
点ガラス３の表面と基板１の頂点とが一致するように低
融点ガラス３を平面状に研磨して、ギャップ面８を形成
する。

【００２８】それから、図１１に示すように、基板１の
両側面に内部巻線溝６と外部巻線溝７とを形成する。さ
らに、所定の磁気ギャップ１３（図１）が得られるよう
に、ギャップ面８上にＳｉＯ２　等の非磁性ギャップ材
料からなるギャップ充填層（図示されていない）を真空
蒸着法あるいはスパッタ法等により形成して、一方のコ
アブロック１１ａを得る。

【００２９】次に、他の一方のコアブロックの製造方法
について、図４ないし図７に基づいて説明する。

【００３０】前述のＶ字状の溝５の一方の溝壁面上に、
所定の膜厚（トラック幅に相当する寸法）の２〜３倍の
膜厚になるように軟磁性薄膜２を形成する工程（図３）
の後、図４に示すように、溝５に低融点ガラス３を充填
する。そして、図５に示すように、軟磁性薄膜２の膜厚
が磁気ギャップ１３（図１）付近でのみ磁気テープ等の
磁気記録媒体のトラック幅の寸法に相当する厚さになる
ように、軟磁性薄膜２の基板１側をダイシング等により
削り込む。

【００３１】その後、図６に示すように、上記削り込ん
だ部分に再度、低融点ガラス３を充填する。そして、図
７に示すように、低融点ガラス３の表面と軟磁性薄膜２
の先端とが一致するように低融点ガラス３を平面状に研
磨して、ギャップ面８を形成する。

【００３２】それから、前記コアブロック１１ａ（図１
１）の場合と同様にして、基板１の両側面に内部巻線溝
６（図１）と外部巻線溝７とを形成し、さらに、所定の
磁気ギャップ１３が得られるように、ギャップ面８（図
７）上にＳｉＯ２　等の非磁性ギャップ材料からなるギ
ャップ充填層（図示されていない）を真空蒸着法あるい
はスパッタ法等により形成して、他の一方のコアブロッ
ク１１ｂを得る。

【００３３】この後、図１２に示すように、コアブロッ
ク１１ａとコアブロック１１ｂとをギャップ面８同士が
対向するように位置合わせし、加圧固定を行って接合し
、磁気ヘッドブロック９を形成する。

【００３４】次いで、上記の磁気ヘッドブロック９を同
図に示されている二点鎖線に沿って、所定のピッチ寸法
Ｂで切断して、図１のヘッドチップ１０を得る。

【００３５】そして、このヘッドチップ１０をベース板
（図示されていない）に接着固定した後、内部巻線溝６
と外部巻線溝７とを利用して巻線を行いヘッドコイルを
形成し、磁気テープ等の磁気記録媒体との摺動面１５を
テープ研磨することにより、本実施例の磁気ヘッドが製
造される。

【００３６】以上のように、本実施例の磁気ヘッドの製
造では、軟磁性薄膜２（図１）の膜厚を磁気ギャップ１
３付近では磁気テープ等の磁気記録媒体のトラック幅の
寸法に相当する厚さに設定する一方、磁気ギャップ１３
から離れた位置ではトラック幅の寸法以上の厚さに設定
すると共に、一方のコア片１７ａにおける軟磁性薄膜２
の基板１側の面と、他の一方のコア片１７ｂにおける軟
磁性薄膜２の基板１側とは反対側の面とがほぼ同一平面
をなすように上記軟磁性薄膜２・２を形成しているので
、磁気ギャップ１３から離れた位置での軟磁性薄膜２の
膜厚をトラック幅の寸法よりも大きい膜厚にした分だけ
、磁気ギャップ１３から離れた位置におけるギャップ面
８での軟磁性薄膜２・２の対向断面積が増加する。これ
により、磁気ギャップ１３部で所定のトラック幅が得ら
れるように位置合わせして一対のコアブロック１１ａ・
１１ｂ（図１２）をギャップ面８にて接合する際、各コ
アブロック１１ａ・１１ｂの加工精度に多少問題があっ
ても、磁気ギャップ１３（図１）から離れた位置におけ
るギャップ面８での軟磁性薄膜２・２の対向断面積をあ
る程度確保できる。その結果、軟磁性薄膜２・２からな
るヘッドコアの磁気抵抗があまり大きくならずに済み、
所定の性能を有する磁気ヘッドが効率良く製造される。

【００３７】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、以上のように、
一方のコア片における軟磁性薄膜の基板側の面と、他の
一方のコア片における軟磁性薄膜の基板側とは反対側の
面とがほぼ同一平面をなすように上記軟磁性薄膜が形成
されているので、磁気ギャップから離れた位置での軟磁
性薄膜の膜厚をトラック幅の寸法よりも大きい膜厚にし
た分だけ、磁気ギャップから離れた位置における軟磁性
薄膜の対向断面積が増加する。これにより、磁気ギャッ
プ部で所定のトラック幅が得られるように位置合わせし
て一対のコア片を接合する際、各コア片の加工精度に多
少問題があっても、磁気ギャップから離れた位置での軟
磁性薄膜の対向断面積が確保されるので、軟磁性薄膜か
らなるヘッドコアの磁気抵抗が必要以上に大きくなるこ
とがなく、所定の性能を有する磁気ヘッドが得られると
いう効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。

【図２】図１の磁気ヘッドの製造工程を示すものであり
、Ｖ字状の溝が形成されている基板の斜視図である。

【図３】図２のＶ字状の溝の一方の壁面上に軟磁性薄膜
を形成する工程を示す平面図である。

【図４】図３のＶ字状の溝に低融点ガラスを充填する工
程を示す平面図である。

【図５】図４の軟磁性薄膜の基板側をダイシング等によ
って削り込む工程を示す平面図である。

【図６】図５の削り込んだ部分に再度、低融点ガラスを
充填する工程を示す平面図である。

【図７】図６の低融点ガラスを平面状に研磨して、ギャ
ップ面を形成する工程を示す平面図である。

【図８】図３の軟磁性薄膜の表面側をダイシング等によ
って削り込む工程を示す平面図である。

【図９】図８のＶ字状の溝に低融点ガラスを充填する工
程を示す平面図である。

【図１０】図９の低融点ガラスを平面状に研磨して、ギ
ャップ面を形成する工程を示す平面図である。

【図１１】図１０の基板の両側面に内部巻線溝と外部巻
線溝とを形成してコアブロックを作製する工程を示す斜
視図である。

【図１２】コアブロックを一対合わせて磁気ヘッドブロ
ックを形成する工程を示す斜視図である。

【図１３】理想的に製造された図１のヘッドチップから
軟磁性薄膜部分だけを抜き出したイメージ図である。

【図１４】加工精度に多少問題がある図１のヘッドチッ
プから軟磁性薄膜部分だけを抜き出したイメージ図であ
る。

【図１５】従来の磁気ヘッドに用いられるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。

【図１６】従来の狭トラック用の磁気ヘッドに用いられ
るヘッドチップの構成を示す斜視図である。

【図１７】理想的に製造された図１６のヘッドチップか
ら軟磁性薄膜部分だけを抜き出したイメージ図である。

【図１８】加工精度に多少問題がある図１６のヘッドチ
ップから軟磁性薄膜部分だけを抜き出したイメージ図で
ある。

【符号の説明】

１　　　　基板 ２　　　　軟磁性薄膜 ３　　　　低融点ガラス １０　　　　ヘッドチップ １１ａ　　コアブロック １１ｂ　　コアブロック １３　　　　磁気ギャップ １７ａ　　コア片 １７ｂ　　コア片 １８ａ　　面 １８ｂ　　面

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に軟磁性薄膜が成膜されている一対
   のコア片を、軟磁性薄膜の断面が対向するように低融点
   ガラスにより接合して、軟磁性薄膜の断面間に磁気ギャ
   ップを形成すると共に、前記軟磁性薄膜の膜厚を磁気ギ
   ャップ付近ではトラック幅の寸法に相当する膜厚にし、
   磁気ギャップから離れた位置ではトラック幅の寸法より
   も大きい膜厚にした磁気ヘッドにおいて、一方のコア片
   における軟磁性薄膜の基板側の面と、他の一方のコア片
   における軟磁性薄膜の基板側とは反対側の面とがほぼ同
   一平面をなすように上記軟磁性薄膜が形成されているこ
   とを特徴とする磁気ヘッド。