JP2977112B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JP2977112B2 JP2977112B2 JP5150292A JP15029293A JP2977112B2 JP 2977112 B2 JP2977112 B2 JP 2977112B2 JP 5150292 A JP5150292 A JP 5150292A JP 15029293 A JP15029293 A JP 15029293A JP 2977112 B2 JP2977112 B2 JP 2977112B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの製造方法
に関し、より詳細には、ビデオテープレコーダ等の高密
度記録再生を行なうために必要な高い飽和磁束密度を有
する磁気ヘッドの製造方法に関する。
に関し、より詳細には、ビデオテープレコーダ等の高密
度記録再生を行なうために必要な高い飽和磁束密度を有
する磁気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴って、磁
気テープ等の磁気記録媒体の高保磁力化と共に磁気ヘッ
ドも狭トラック化や高飽和磁束密度を有する材料等が要
求されている。図５及び図６は、従来の磁気ヘッドの構
成図で、図５は磁気ヘッドの斜視図、図６は図５に示す
磁気ヘッドを摺動面から見た図である。図中、１１は基
板、１２はセンダスト（軟磁性薄膜）、１３は低融点ガ
ラス、１４は巻線用窓である。センダスト等から成る高
飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜１２を、基板１１に形
成される溝壁面に設け、低融点ガラス１３で対じ接着し
てなる磁気ヘッドチップが用いられている。
気テープ等の磁気記録媒体の高保磁力化と共に磁気ヘッ
ドも狭トラック化や高飽和磁束密度を有する材料等が要
求されている。図５及び図６は、従来の磁気ヘッドの構
成図で、図５は磁気ヘッドの斜視図、図６は図５に示す
磁気ヘッドを摺動面から見た図である。図中、１１は基
板、１２はセンダスト（軟磁性薄膜）、１３は低融点ガ
ラス、１４は巻線用窓である。センダスト等から成る高
飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜１２を、基板１１に形
成される溝壁面に設け、低融点ガラス１３で対じ接着し
てなる磁気ヘッドチップが用いられている。
【０００３】図７は、従来の磁気ヘッドの他の構成図
で、図中、１５は巻線で、その他、図５と同じ作用をす
る部分は同一の符号を付してある。記録密度の更なる向
上を目的とした狭トラック化に伴い、ヘッド・ギャップ
部が所定のトラック幅となるように絞り込みがなされて
いる。また巻線用窓１４を通して巻線１５が巻回されて
いる。図８は、図７に示す磁気ヘッドを摺動面から見た
図である。軟磁性薄膜１２に沿って非導体薄膜１６が設
けられている。前記の絞り込みは、軟磁性薄膜１２の厚
みを一定に保つことによって、ヘッド・チップそのもの
の電磁変換効率を下げることなく、磁気記録の高密度化
を図るためにトラック幅を小さくする一つの施策であ
る。
で、図中、１５は巻線で、その他、図５と同じ作用をす
る部分は同一の符号を付してある。記録密度の更なる向
上を目的とした狭トラック化に伴い、ヘッド・ギャップ
部が所定のトラック幅となるように絞り込みがなされて
いる。また巻線用窓１４を通して巻線１５が巻回されて
いる。図８は、図７に示す磁気ヘッドを摺動面から見た
図である。軟磁性薄膜１２に沿って非導体薄膜１６が設
けられている。前記の絞り込みは、軟磁性薄膜１２の厚
みを一定に保つことによって、ヘッド・チップそのもの
の電磁変換効率を下げることなく、磁気記録の高密度化
を図るためにトラック幅を小さくする一つの施策であ
る。
【０００４】図９及び図１０は、従来の磁気ヘッドの更
に他の構成図で、絞り込み加工代（しろ）と軟磁性薄膜
とにある角度を有する場合を示す図で、図中、１７は絞
り込み加工代（しろ）、１８はトラック幅で、その他、
図５と同じ作用をする部分は同一の符号を付してある。
絞り込み研削加工で行う際に、絞り込み加工代（しろ）
１７と軟磁性薄膜１２とにはある角度θを有している。
研削する深さ方向でトラック幅１８の寸法（Ｔｗ）が変
化するため、その後のヘッド・ギャップ接合面の研磨工
程での研削量ｄとトラック幅の寸法Ｔｗとは図１１に示
す関係となる。
に他の構成図で、絞り込み加工代（しろ）と軟磁性薄膜
とにある角度を有する場合を示す図で、図中、１７は絞
り込み加工代（しろ）、１８はトラック幅で、その他、
図５と同じ作用をする部分は同一の符号を付してある。
絞り込み研削加工で行う際に、絞り込み加工代（しろ）
１７と軟磁性薄膜１２とにはある角度θを有している。
研削する深さ方向でトラック幅１８の寸法（Ｔｗ）が変
化するため、その後のヘッド・ギャップ接合面の研磨工
程での研削量ｄとトラック幅の寸法Ｔｗとは図１１に示
す関係となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
磁気ヘッドにおいては、絞り込み研削加工をする際に研
削する深さ方向でトラック幅の寸法が変化し、高度な加
工精度が要求され、歩留り低下の要因となるという問題
点があった。
磁気ヘッドにおいては、絞り込み研削加工をする際に研
削する深さ方向でトラック幅の寸法が変化し、高度な加
工精度が要求され、歩留り低下の要因となるという問題
点があった。
【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たもので、非磁性基板に垂直面を有する溝を形成し、該
溝の垂直面に成膜することにより、絞り加工を容易にす
るようにした磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的としている。
たもので、非磁性基板に垂直面を有する溝を形成し、該
溝の垂直面に成膜することにより、絞り加工を容易にす
るようにした磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、基板に垂直面を有する溝を形成し、該溝
の垂直面に沿わせて軟磁性薄膜と非磁性非導体薄膜を交
互に積層蒸着して成膜部を設け、更に加工によって前記
成膜部を所定のトラック幅寸法に絞り込み、該絞り込み
部を対じさせて低融点ガラスで接着してなる磁気ヘッド
の製造方法において、前記トラック幅加工の深さ方向と
磁気ヘッドギャップ部が垂直方向となるように成膜部を
配することを特徴としたものである。
成するために、基板に垂直面を有する溝を形成し、該溝
の垂直面に沿わせて軟磁性薄膜と非磁性非導体薄膜を交
互に積層蒸着して成膜部を設け、更に加工によって前記
成膜部を所定のトラック幅寸法に絞り込み、該絞り込み
部を対じさせて低融点ガラスで接着してなる磁気ヘッド
の製造方法において、前記トラック幅加工の深さ方向と
磁気ヘッドギャップ部が垂直方向となるように成膜部を
配することを特徴としたものである。
【０００８】
【作用】基板に垂直面を有する溝を形成し、該溝の垂直
面に、非磁性非導体薄膜と軟磁性薄膜とを交互に形成し
て成膜部を設け、該成膜部の一部を硝削加工して絞り込
み部を設ける。磁気ヘッドを製造する際、ヘッド・ギャ
ップ部の接合面研磨を行う場合、トラック幅絞り込み加
工を行う場合の研削加工しろと軟磁性薄膜が水平である
ため、その後のヘッド・ギャップ接合部研磨での加工公
差によって、トラック幅の寸法不良となることがなくな
る。従って、歩留りが向上する。また、その後の摺動面
絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜の主磁路部を切り取る
こともなく、従って磁気持性の向上にもつながる。
面に、非磁性非導体薄膜と軟磁性薄膜とを交互に形成し
て成膜部を設け、該成膜部の一部を硝削加工して絞り込
み部を設ける。磁気ヘッドを製造する際、ヘッド・ギャ
ップ部の接合面研磨を行う場合、トラック幅絞り込み加
工を行う場合の研削加工しろと軟磁性薄膜が水平である
ため、その後のヘッド・ギャップ接合部研磨での加工公
差によって、トラック幅の寸法不良となることがなくな
る。従って、歩留りが向上する。また、その後の摺動面
絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜の主磁路部を切り取る
こともなく、従って磁気持性の向上にもつながる。
【０００９】
【実施例】実施例について、図面を参照して以下に説明
する。図１は、本発明による磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を説明するための説明図で、図中、１は基板、２
はレ字状溝、３は軟磁性薄膜、４は非磁性非導体薄膜、
５は絞り込み加工部代（しろ）である。結晶化ガラスあ
るいはセラミックス等の非磁性材料からなる略直方体形
状の基板１の表面に、あらかじめ絞り込み加工を行う加
工しろと水平となるように所定の寸法と深さを有する断
面略レ字状の複数の溝２が形成され、続いて、前記レ字
状溝２の垂直の面に、真空蒸着或いはスパッタ法等によ
り、例えば図２に示すＳｉＯ2等からなる非磁性非導体
薄膜４と、センダスト等からなる軟磁性薄膜３がそれぞ
れ所定の膜厚で交互に形成される。この際、前記レ字状
溝の形状と角度によって成膜する基板を傾斜させて成膜
し、特に蒸着で問題となる成膜入射角は特性上問題とな
らない±２０゜前後となるようにする。
する。図１は、本発明による磁気ヘッドの製造方法の一
実施例を説明するための説明図で、図中、１は基板、２
はレ字状溝、３は軟磁性薄膜、４は非磁性非導体薄膜、
５は絞り込み加工部代（しろ）である。結晶化ガラスあ
るいはセラミックス等の非磁性材料からなる略直方体形
状の基板１の表面に、あらかじめ絞り込み加工を行う加
工しろと水平となるように所定の寸法と深さを有する断
面略レ字状の複数の溝２が形成され、続いて、前記レ字
状溝２の垂直の面に、真空蒸着或いはスパッタ法等によ
り、例えば図２に示すＳｉＯ2等からなる非磁性非導体
薄膜４と、センダスト等からなる軟磁性薄膜３がそれぞ
れ所定の膜厚で交互に形成される。この際、前記レ字状
溝の形状と角度によって成膜する基板を傾斜させて成膜
し、特に蒸着で問題となる成膜入射角は特性上問題とな
らない±２０゜前後となるようにする。
【００１０】図３及び図４は、本発明による磁気ヘッド
の構成図で、図３は斜視図、図４は図３の摺動面から見
た図である。図中、６は低融点ガラス、７は巻線用窓、
８は巻線で、その他、図１と同じ作用をする部分は、同
一の符号を付してある。ヘッド・ギャプ部が所定のトラ
ック幅となるように研削加工によって絞り込みがなされ
る。さらに各レ字状溝２を埋めるように低融点ガラス６
が充填され、その後、前記レ字状溝２の頂点位置に達す
るまで、低融点ガラス６の表面が平面状に研磨され、次
に、コイル巻線用窓７が形成される。
の構成図で、図３は斜視図、図４は図３の摺動面から見
た図である。図中、６は低融点ガラス、７は巻線用窓、
８は巻線で、その他、図１と同じ作用をする部分は、同
一の符号を付してある。ヘッド・ギャプ部が所定のトラ
ック幅となるように研削加工によって絞り込みがなされ
る。さらに各レ字状溝２を埋めるように低融点ガラス６
が充填され、その後、前記レ字状溝２の頂点位置に達す
るまで、低融点ガラス６の表面が平面状に研磨され、次
に、コイル巻線用窓７が形成される。
【００１１】そして、ヘッド・ギャプ接合部の研磨が行
われ、さらにＳｉＯ2等の非磁性ギャプ材が真空蒸着あ
るいはスパッタ法により前記研磨面に膜付けされ、該膜
付け面を互いに対面させた２つのブロックをそれぞれの
軟磁性薄膜３が同一直線状に位置する状態で接合され、
その後、摺動面の絞り込み加工を行うが、この際にも図
６に示す従来の磁気ヘッドのように軟磁性薄膜３を切り
取ることがなく、従って、磁気特性の向上にもつなが
る。
われ、さらにＳｉＯ2等の非磁性ギャプ材が真空蒸着あ
るいはスパッタ法により前記研磨面に膜付けされ、該膜
付け面を互いに対面させた２つのブロックをそれぞれの
軟磁性薄膜３が同一直線状に位置する状態で接合され、
その後、摺動面の絞り込み加工を行うが、この際にも図
６に示す従来の磁気ヘッドのように軟磁性薄膜３を切り
取ることがなく、従って、磁気特性の向上にもつなが
る。
【００１２】そして、所定の寸法に切除して図４に示す
ような摺動面を有する磁気ヘッドが作成される。該磁気
ヘッドの製造方法によれば、トラック幅絞り込み加工を
行う際の研削加工しろと軟磁性薄膜が垂直であるため、
その後のヘッド・ギャップ接合部の研磨での加工公差に
よって、トラック幅の寸法不良となることがなくなる。
また、その後の摺動面絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜
を切り取ることも無く、従って磁気特性の向上にもつな
がる。
ような摺動面を有する磁気ヘッドが作成される。該磁気
ヘッドの製造方法によれば、トラック幅絞り込み加工を
行う際の研削加工しろと軟磁性薄膜が垂直であるため、
その後のヘッド・ギャップ接合部の研磨での加工公差に
よって、トラック幅の寸法不良となることがなくなる。
また、その後の摺動面絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜
を切り取ることも無く、従って磁気特性の向上にもつな
がる。
【００１３】すなわち、基板１にレ字状溝２を設け、該
レ字状溝２の垂直面に非磁性非導体薄膜４と軟磁性薄膜
３とを交互に形成して成膜部を設ける。さらに、該成膜
部の一部を研削加工して絞り込みしろ５を設けて基板ブ
ロックを構成する。該基板ブロックに対し、同じ構成の
基板ブロックを軟磁性薄膜３が同一直線状に位置するよ
うに、回転対称に接合し、接合された両基板ブロックに
より形成される空隙部に低融点ガラス６を充填する。こ
れにより、ヘッド・ギャップ部のトラック幅の絞り加工
を行う際の研削加工しろ５と軟磁性薄膜３とが水平であ
るため、研磨での加工公差によるトラック幅の寸法不良
がなくなる。
レ字状溝２の垂直面に非磁性非導体薄膜４と軟磁性薄膜
３とを交互に形成して成膜部を設ける。さらに、該成膜
部の一部を研削加工して絞り込みしろ５を設けて基板ブ
ロックを構成する。該基板ブロックに対し、同じ構成の
基板ブロックを軟磁性薄膜３が同一直線状に位置するよ
うに、回転対称に接合し、接合された両基板ブロックに
より形成される空隙部に低融点ガラス６を充填する。こ
れにより、ヘッド・ギャップ部のトラック幅の絞り加工
を行う際の研削加工しろ５と軟磁性薄膜３とが水平であ
るため、研磨での加工公差によるトラック幅の寸法不良
がなくなる。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、以下のような効果がある。すなわち、磁気ヘ
ッドの成膜部を形成する溝加工において、あらかじめ絞
り込み加工を行う加工しろと垂直に溝を形成し、その
後、該垂直面に軟磁性薄膜を形成し、さらに従来のトラ
ック幅の寸法絞り込みを行っていた際の研削加工を行
い、これによって、トラック幅の絞り込み加工を行う際
の研削加工しろと軟磁性薄膜が垂直であるため、その後
のヘッド・ギャップ接合部の研磨での加工公差によっ
て、トラック幅の寸法不良となることがなくなる。ま
た、その後の摺動面絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜を
切り取ることもなく、従って磁気特性の向上にもつなが
る。
によると、以下のような効果がある。すなわち、磁気ヘ
ッドの成膜部を形成する溝加工において、あらかじめ絞
り込み加工を行う加工しろと垂直に溝を形成し、その
後、該垂直面に軟磁性薄膜を形成し、さらに従来のトラ
ック幅の寸法絞り込みを行っていた際の研削加工を行
い、これによって、トラック幅の絞り込み加工を行う際
の研削加工しろと軟磁性薄膜が垂直であるため、その後
のヘッド・ギャップ接合部の研磨での加工公差によっ
て、トラック幅の寸法不良となることがなくなる。ま
た、その後の摺動面絞り込み加工の際にも軟磁性薄膜を
切り取ることもなく、従って磁気特性の向上にもつなが
る。
【図１】本発明による磁気ヘッドの製造方法の一実施例
を説明するための説明図である
を説明するための説明図である
【図２】本発明による断面略レ字状の複数溝を示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明による磁気ヘッドの斜視図である。
【図４】図３の摺動面から見た図である。
【図５】従来の磁気ヘッドの斜視図である。
【図６】図５の摺動面から見た図である。
【図７】従来の他の磁気ヘッドの斜視図である。
【図８】図７の摺動面から見た図である。
【図９】従来の磁気ヘッドにおける絞り込み加工代（し
ろ）と軟磁性薄膜の関係図である。
ろ）と軟磁性薄膜の関係図である。
【図１０】図９の拡大図である。
【図１１】従来の磁気ヘッドにおけるトラック幅と研削
量との関係を示す図である。
量との関係を示す図である。
１…基板、２…レ字状溝、３…軟磁性薄膜、４…非磁性
非導体薄膜、５…絞り込み加工部代（しろ）、６…低融
点ガラス、７…巻線用窓、８…巻線。
非導体薄膜、５…絞り込み加工部代（しろ）、６…低融
点ガラス、７…巻線用窓、８…巻線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−81610（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−220207（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−168404（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−224906（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−33709（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−231416（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/127 - 5/255
Claims (1)
- 【請求項１】 基板に垂直面を有する溝を形成し、該溝
の垂直面に沿わせて軟磁性薄膜と非磁性非導体薄膜を交
互に積層蒸着して成膜部を設け、更に加工によって前記
成膜部を所定のトラック幅寸法に絞り込み、該絞り込み
部を対じさせて低融点ガラスで接着してなる磁気ヘッド
の製造方法において、前記トラック幅加工の深さ方向と
磁気ヘッドギャップ部が垂直方向となるように成膜部を
配することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5150292A JP2977112B2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5150292A JP2977112B2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714111A JPH0714111A (ja) | 1995-01-17 |
| JP2977112B2 true JP2977112B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=15493807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5150292A Expired - Fee Related JP2977112B2 (ja) | 1993-06-22 | 1993-06-22 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2977112B2 (ja) |
-
1993
- 1993-06-22 JP JP5150292A patent/JP2977112B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0714111A (ja) | 1995-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080910 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |