JPH0423209A - 浮動型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はハードディスク型の記録媒体に対して用いられ
る浮動型磁気へノドに関する。

（ロ）従来の技術 近年、ハードディスクドライブ装置においても、小型化
の要求が著しく記録媒体への高密度記録が重要な問題に
なっている。このため、従来の酸化物の塗布型の磁気デ
ィスクに代って抗磁力（Ｈｃ）の高い金属薄膜型の磁気
ディスクが記録媒体として開発されている。この様な金
属薄膜型の磁気ディスクに対応する磁気へノドとしては
、例えば特開昭６２−２９５２０７号公報（Ｇ］１Ｂ　
５　／　２３　）等に開示されているように従来のモノ
リシ、り型やコンポジット型の浮動型磁気ヘノドのギャ
ップ衝き合わせ面にセンダストやアモルファス磁性合金
等の高飽和磁束密度材料をスパッタリングによって成膜
したＭＩＧ型（メタル・イン・ギャップ型）の浮動型磁
気ヘッドが提案されている。

第１５図はＭＩＧ型の浮動型磁気へノドの外観を示す斜
視図である。

図中、（１６）はチタン酸カルシウム等の非磁性セラミ
ックよりなるスライダーであり、該スライダー（１６）
に開設したスリット（１５）にはコアチップ（３９）が
装着固定されている。

前記コアチップ（３９）は第１６図に示すようにＭ　ｎ
　−Ｚ　ｎフェライト等の酸化物磁性材料よりなる一対
の第１、第２コア半体（１ａ）　　（１ｂ）により構成
されている。前記第１コア半体（１ａ）のギャップ対向
面（４１）上にはセンダスト等の強磁性金属薄膜（２）
が形成されている。また、前記第２コア半体（１ｂ）の
ギャップ対向面（４４）上には巻線溝（８）及びギャッ
プ下端規制溝（１９）が形成されている。前記第１、第
２コア半体（１ａ）（１ｂ）は前記強磁性金属薄膜（２
）と第２コア半体（１ｂ）のギャップ対向面（４４）と
がＳ１０．等の非磁性材料よりなるギャップスペーサを
介して衝き合わされており、磁気ギャップ（３）が形成
されている。前記ギャップ下端規制溝（１９）には高融
点の第１のガラス（１０）が充填されており、該ガラス
（１０）により前記第１、第２コア半体（１ａ）（１ｂ
）は接合固定されている。前記コアチップ（３９）の上
向にはトラック幅規制溝（１２）（１２）により幅が規
定されている媒体対向突部（２３）が形成されており、
前記媒体対向突部（２３）の幅が磁気ギャップ（３）の
トラック輻ｔ、となる。また前記磁気ギャップ（３）の
ギャップ深さは前記ギャップ下端規制溝（１９）により
規定されている。

前記コアチップ（陳）は第２コア半体（ｌ　ｂ）が奥側
に位置するように前記スライダー（］６）のスノッ）　
（１５）に装着され、前記トランク幅規制溝（１２）（
１２）内に充填した低融点の第２のガラス（５）（５）
により固定されている。

上記浮動型磁気へノドは第１７図に示す如く磁気ディス
ク（５６）に対向するようにハードディスクドライブ装
置に装着され、磁気ディスク（５６）が矢印入方向に高
速で回転することにより、磁気ディスクと磁気ヘッドと
の間には安定した空気流の層が形成され、これによって
磁気ヘッドはディスク面に対して所定の浮上姿勢に維持
される。即ち、前記磁気ディスク（５６）は磁気ヘッド
には第２コア半体（１ｂ）側から進入し、第１コア半体
（１ａ）側から退出する。

しかし乍ら、上述のような浮動磁気ヘッドの場合、第１
コア半体（１ａ）と強磁性金属薄膜（２）との界面が前
記磁気ギャップ（３）と平行であるため、この界面が擬
似ギャップとして作用し、特に再生特性が劣化する虞れ
がある。

しかし乍ら、従来、第１、第２コア半体（１ａ）（１ｂ
）を単結晶フェライトで形成した場合、前記第１、第２
コア半体（１ａ）　　（１ｂ）のギャップ対向面（４１
）（４４）の結晶面を共に（１００）面とすることによ
り、上述の擬似ギャップとしての作用を実用上無視出来
る程度まで抑えることが出来る。

しかし乍らギャップ対向面（４１）（４４）の結晶面を
（１００）面とした上述の磁気ヘッドの場合、擬似ギャ
ップの影響は小さくなるが、第１、第２コア半体（１ａ
）（１ｂ）のギャップ対向面（４１）（４４）を共に（
１１１）面とした磁気ヘッドに比べて出力が１０％程度
低くなる。また、ギャップ対向面（４１）（４４）を（
１１１）面とした上述の磁気ヘッドの場合、再生出力が
高い反面、擬似ギャップによる影響も大きく、使用する
ことが出来なかった。

また、第１、第２コア半体（１ａ）　　（１ｂ）を多結
晶フェライトで形成した磁気ヘッドの場合、材料コスト
は安くなるが、その反面、再生出力はギャップ対向面を
（１００）面とした場合と同様に小さく、擬似ギャップ
による影響はギャップ対向面を（１００）面とした場合
と（１１１）面とした場合との間となる。

（ハ）発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
擬似ギャップによる影響を抑え、且つ再生出力の低下を
防止し、更に材料コストの低減を可能にした浮動型磁気
へノドを提供することを目的とするものである。

（ニ）課題を解決するための手段 本発明は、第１コア半体のギャップ対向面に強磁性金属
薄膜を形成し、該強磁性金属薄膜に磁気ギャップとなる
ギャップスペーサを介して第２コア半体のギャップ対向
面を接合してコアチップを形成し、該コアチップを非磁
性材料よりなるスライダーに固定してなる浮動型磁気ヘ
ッドにおいて、前記第１コア半体をそのギャップ対向面
が（１００）面となる単結晶フェライトで形成し、前記
第２コア半体をそのギャップ対向面が（１１１）面とな
る単結晶フェライトで形成するが、或いは前記第１コア
半体をそのギャップ対向面が（１００）面となる単結晶
フェライトで形成し、前記第２コア半体を多結晶フェラ
イトで形成することを特徴とする。

（ホ）作用 り述の如く、強磁性金属薄膜がら形成される第１コア半
体のギャップ対向面を（１１１）面とすると、前記強磁
性金属薄膜と第１コア半体との境界部が擬似ギャップと
して作用するのが抑えられる。また、第２コア半体のギ
ャップ対向面を（１００）面とした場合、再生出力の低
下が抑えられ、第２コア半体を多結晶フェライトで形成
じだ場合、材料コストが低減する。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の第１実施例を詳細に説
明する。

第１図は第１実施例の浮動型磁気ヘッドのコアチップの
外観を示す斜視図であり、第１６図と同一部分には同一
符号を付し、その説明は割愛する。

第１実施例の浮動型磁気ヘッドでは、コアチップ（２５
）の第１、第２コア半体（１ａ）　　（１ｂ）は共にＭ
　ｎ　−Ｚ　ｎ単結晶フェライトで形成されている。前
記第１コア半体（１ａ）はギャップ対向面（４１）の結
晶面が（１００）面で形成されており、該ギャップ対向
面（４１）上はセンダスト等の強磁性金属膜（２）及び
Ｓｉｎ、等のギャップスペーサが被着形成されている。

また、前記第２コア半体（１ｂ）はギャップ対向面（４
４）の結晶面が（１１１）面で形成されている。前記第
１コア半体（１ａ）は磁路構成面（４２）及び媒体対向
面（４３）が共に（１１０）面で形成されており、前記
第２コア半体（１ｂ）は磁路構成面（４５）が（１１０
）、媒体対向面（４６）が（２１１）面で形成されてい
る。また、前記第２コア半体（１ｂ）においては、磁路
構成面（４５）の（１１０）面内における＜１００＞方
向は前記ギャップ対向面（４４）に対して３５°傾斜し
ている。

次に、上記第１実施例の磁気ヘッドの製造方法について
説明する。

先ず、第４図に示すようにＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ単結晶フェ
ライトよりなる第１の基板（６ａ）を用意する。前記第
１の基板（６ａ）はギャップ対向面となる上面（６１）
の結晶面が（１００）面で形成されており、磁路構成面
、媒体対向面となる側面（６２）（６３）の結晶面が夫
々（１，１０）面で形成されている。

次に、前記第１の基板（６ａ）の上面（６１）及び下面
に鏡面研磨を施した後、第５図に示すように前記基板（
６ａ）の上面（６１）にセンダスト等よりなる強磁性金
属薄膜（２）を３．５μｍ厚被着膨成し、該強磁性金属
薄膜（２）の上面にＳｉｎ、等よりなるギャップスペー
サ（３１）を０．　８μｍ厚被着膨成する。尚、前記強
磁性金属薄膜（２）は対向ターゲット型スパッタ装置に
より、基板温度２００℃、ガス圧力２ｍｔｏｒｒ、放電
電力４ＫＷ、バイアス電圧５０Ｖ、成膜速度１４ｏＯ人
／分の条件下で形成される。また、前記ギャップスペー
サ（３１）はイオンブレーティング装置により基板温度
２００℃、真空度１，０ＸＩＯ−ｔｏｒｒ、成膜速度６
００人／分の条件下で形成される。

次に、イオンビームエツチング装置等のドライエツチン
グ装置を用いて第６図に示すように所望のトラック幅ｔ
２よりも少許幅広の予備トラック幅ｔ１の分だけ強磁性
金属薄膜（２）及びギャップスペーサ（３１）がピッチ
Ｐの間隔で残るように他の余分な薄膜を除去する。上述
のイオンビームエツチングは、ガス圧力２　Ｘ　１０−
”ｔｏｒｒ、放ｉｔ圧３４．５Ｖ、加速電圧７５０　Ｖ
、入射角４０’の条件下で予備トランク幅ｔｌ以外の強
磁性金属膜（２）が完全になくなるまで約１３５分間行
った。

尚、イオンビームエツチング等を行わず、直接第６図の
ように第１の基板（６ａ）の上面に強磁性金属薄膜（２
）及びギャップスペーサ（３１）を被着形成してもよい
。

一方、第７図に示すようにＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ単結晶フェ
ライトよりなる第２の基板（６ｂ）を用意し、該第２の
基板（６ｂ）のギャップ対向面となる上面（６４）に予
備トラック幅ｔ１の予備トラック面（２０）が残るよう
に一定のピッチＰで予備加工溝（７）を形成する。前記
第２の基板（６ｂ）は上面（６４）の結晶面が（１１１
）面で形成されており、磁路構成面となる側面（６５）
の結晶面が（１１０）面で形成されており、媒体対向面
となる側面（６６）の結晶面が（２１１）面で形成され
ている。また、前記側面（６５）の（１１０）面内にお
ける＜１００＞方向は前記上面（６４）に対して３５°
傾斜している。

次に、第８図に示すように前記予備加工溝（７）と直交
する方向にデプスエンド溝（１９）を形成する。次に、
前記第１のガラスからなるガラス板を前記第２の基板（
６ｂ）に圧接し加熱することにより第９図に示すように
前記予備加工溝（７）及びデプスエンド溝（１９）内に
軟化点が５９０℃である第１のガラス（１０）を充填し
、その後前記基板（６ｂ）の上面に鏡面研磨を施す。尚
、前述のガラス充填は５９０℃の真空中で７０分間保持
することにより行われる。

次に、前記第２の基板（６ｂ）の上面（６４）に前記デ
プスエンド溝（１９）と平行且っデプスエンド溝（１９
）の一部を削る位置に断面長方形状の巻線溝（８）を形
成し、その後、第１０図に示すように前記両基板（６ａ
）（６ｂ）の上面（６１）（６４）同士ヲギヤップスペ
ーサ（３］）と予備トラック面（２０）とが対向するよ
うに衝き合わせた状態で前記第１のガラス（１０）を再
び溶融固化することにより前記両基板（６ａ）（６ｂ）
をガラス接合してブロフク（２１）を形成する。尚、こ
の時のガラス溶着は６７０℃の真空中で１２分間保持す
るこにより行われる。

次に、前記ブロフク（２１）を破線Ｂ−Ｂ’に沿って切
断してコアブロック（２２）を形成した後、第１１図に
示すように前記コアブロック（２２）の媒体対向面にト
ラック幅規制溝（１２）を加工形成してトラック幅ｔ２
を有する媒体対向突部（２３）を形成する。

次に、前記コアブロック（２２）を第１１図に示す斜線
（２４）の位置でスライスして第１図に示すコアチップ
（２５）を形成する。前記コアチップ（２５）はＭｎ−
Ｚｎフェライトからなる一対のコア半体（１ａ）（ｌｂ
）からなり、該コア半体（ｌａ）（１ｂ）は強磁性金属
薄膜（２）及びギャップスペーサ（３１）を介してギャ
ップ接合されている。

以後は、第２図に示すように前記コアチンプ（２５）を
第２コア半体（１ｂ）が奥側に位置するようにスライダ
ー（１６）のスリン）　（１５）に嵌め込み、その上面
に軟化点が４６０℃であるガラス板を載置し該ガラス板
を溶融固化することにより第２図に示すように前記コア
チップ（２５）の媒体対向突部（２３）の両側及び前記
スリット（１５）の内壁と前記コアチンプ（鍾）との間
に第２のガラス（５）を充填して前記スリット（１５）
内に前記コアチンプ（２５）を固定する。尚、この時の
ガラス充填は真空中で５００℃まで昇温することにより
行われる。そして最後に、前記スライダー（１６）にチ
ャンファ一部等の外形成型を施すことにより浮動型磁気
ヘッドが完成する。

上述の浮動型磁気へノドは第３図に示すようにハードデ
ィスクドライブ装置に装着される。即ち、矢印入方向に
回転する磁気ディスク（５６）は上記磁気ヘッドに対し
て第２コア半体（１ｂ）側から進入し、第１コア半体（
１ａ）側から退出する。

上述のような第１実施例の浮動型磁気ヘッドで−は、強
磁性金属薄膜（２）が被着形成される第１コア半体（］
　ａ）のギャップ対向面（４１）が（１０（１）面で形
成されているため前記第１コア半体（１ａ）と強磁性金
属薄膜（２）の境界部が擬似ギャップとして作用するの
が抑えられる。また、第２コア半体（１ｂ）のギャップ
対向面（４４）が（］１１）面で形成されているため再
生出力の低下が抑えられる。

第１３図は上記第１実施例の浮動型磁気ヘッドと比較例
１．２の浮動型磁気へノドとの再生出力の周波数特性を
示す図である。尚、比較例１のコアチップは第１４図（
ａ）に示すような結晶面で構成されており、第１、第２
コア半体（１ａ）（１ｂ）のギャップ対向面の結晶面は
共に（１００）面である。また、比較例２のコアチップ
は第１４図（ｂ）に示すような結晶面で構成されており
、第１、第２コア半体（ｌａ）（ｌｂ）のギャップ対向
面の結晶面は共に（１１１）面である。

この第１３図から判るように、比較例２の浮動型磁気−
・ノドでは、擬似ギャップの影響により再生出力にうね
りが発生する。また、比較例１の浮動型磁気ヘッドでは
、再生出力にうねりは生じないが出力レベルが１０％程
度低下する。これに対して、第１実施例の浮動型磁気ヘ
ッドでは、再生出力にはうねりが生じず、しかも出力レ
ベルは低下しない。

次に、本発明の第２実施例について説明する。

第１２図は第２実施例の浮動型磁気へノドのコアチップ
の外観を示す斜視図である。

第２実施例の浮動型磁気ヘッドでは、コアチップ（２６
）の第１コア半体（１ａ）はＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ単結晶フ
ェライトで形成されている。前記第１コア半体（１ａ）
はギャップ対向面（４１）の結晶面（１００）面で形成
されており、該ギャップ対向面（４１）上には強磁性金
属薄膜（２）及びギヤ７プスベーサが被着形成されてい
る。また、前記コアチップ（２６）の第２コア半体（ｌ
ｂ）はＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ多結晶フェライトで形成されて
いる。

上記第２実施例の磁気ヘッドは、第２の基板（６ｂ）と
してＭ　ｚ　−Ｚ　ｎ多結晶フェライトよりなるものを
用いる以外は第１実施例と同様にして製造される。

上述のような第２実施例の浮動型磁気ヘッドでは、第１
コア半体（１ａ）のギャップ対向面（４１）が第１実施
例と同様に（１００）面で形成されているため、擬似ギ
ャップによる影響が抑えられる。また、第２コア半体（
１ｂ）が多結晶フェライトで形成されているため、再生
出力は少し低下するが、材料コストが低減する。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、擬似ギャップによる再生特性の劣化を
抑え、且つ再生出力の低下を防止した浮動型磁気ヘノド
、若しくは擬似ギャップによる再生特性の劣化を抑え、
且つ材料コストの安い浮動型磁気へノドを提供し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第１１図は本発明の第１実施例に係り、第１
図はコアチップ′の外観を示す斜視図、第２図は浮動型
磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第３図は浮動型磁気ヘ
ッドの配置を示す斜視図、第４図、第５図、第６図、第
７図、第８図、第９図、第１０図及び第１１図は夫々浮
動型磁気へノドの製造方法を示す斜視図である。第１２
図は本発明の第２実施例のコアチップの外観を示す斜視
図、第１３図は再生出力の周波数特性曲線を示す図、第
１４図は比較例のコアチップの外観を示す斜視図である
。第１５図乃至第１７図は従来例に係り、第１５図は浮
動型磁気へノドの外観を示す斜視図、第１６図はコアチ
ップの外観を示す斜視図、第１７図は浮動型磁気ヘッド
の配置を示す斜視図である。 （１ａ）・・・第１コア半体、（１ｂ）・・・第２コア
半体、（２）・・強磁性金属薄膜、（３）・・・磁気ギ
ャップ、（１６）・・スライダー、（２５）（２６）・
・・コアチップ、（４１）（４４）・・・ギャップ対向
面。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１コア半体のギャップ対向面に強磁性金属薄膜
   を形成し、該強磁性金属薄膜に磁気ギャップとなるギャ
   ップスペーサを介して第２コア半体のギャップ対向面を
   接合してコアチップを形成し、該コアチップを非磁性材
   料よりなるスライダーに固定してなる浮動型磁気ヘッド
   において、前記第１コア半体をそのギャップ対向面が（
   １００）面となる単結晶フェライトで形成し、前記第２
   コア半体をそのギャップ対向面が（１１１）面となる単
   結晶フェライトで形成したことを特徴とする浮動型磁気
   ヘッド。
2. （２）第１コア半体のギャップ対向面に強磁性金属薄膜
   を形成し、該強磁性金属薄膜に磁気ギャップとなるギャ
   ップスペーサを介して第２コア半体のギャップ対向面を
   接合してコアチップを形成し、該コアチップを非磁性材
   料よりなるスライダーに固定してなる浮動型磁気ヘッド
   において、前記第１コア半体をそのギャップ対向面が（
   １００）面となる単結晶フェライトで形成し、前記第２
   コア半体を多結晶フェライトで形成したことを特徴とす
   る浮動型磁気ヘッド。