JPS59162611A

JPS59162611A - ダブルアジマス磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS59162611A
Application number: JP3579183A
Authority: JP
Inventors: Juichi Morikawa; 森川　寿一; Makoto Matsunaga; 誠松永; Akira Iwama; 岩間　章; Yasuyuki Arikawa; 康之有川
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1983-03-07
Filing date: 1983-03-07
Publication date: 1984-09-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（利用分野）本発明は、ダブルアジマス磁気ヘッドに関し、特に磁性
薄膜Ｙヘッドコアとして用いたＶＴＲ用のダブルアジマ
ス磁気ヘッドに関′ｆる。

（従来技術）以下、ギャップ７２つ有する従来の磁気ヘッド（正確に
はへラドコア）を矛１図〜才４図のそれぞれに示し、こ
れらについて説明する。これらの図において、１０．２
０はサイドコア、　１１．２１はサイドコア用合金磁性
膜、１３はセンタコア用合金磁性膜、　１４．３１．４
１はセンタコア＋’　６０．７０はギャップ、８０は巻
線窓、９１は非磁性基板である。

牙１図、牙２図の磁気ヘッドは、サイドコア１０．２０
及びセンタコア１４か、フェライト等から形成されてお
り、図から明らかなように、２つのギャップ６０．７０
が、互いに平行に形成されている。この様な磁気ヘッド
は、周知の様に、主にオーディオ等の記帰モニタ用と、
して用いら江ＶＴ几用としては用いられない。

、！６図の磁気ヘッドは、図から明らかな様に、その中
心部が空隙であり、その−力側に、サイドコア１０及び
センタコア３１が配設され、その仙方体にサイドコア２
０及びセンタコア４１が配設されている。すなわち、こ
の磁気ヘッドは、実質上２つの磁気ヘッドが、前記空隙
を間にして、互いに近接配置された構成となっている。

なお、前記サイドコア１０，２０及びセンタコア３１，
４１は一牙１，２図の磁気ヘッドと同様、フェライト等
から形成されている。

この矛６図の様な構成の磁気ヘッドには、図の様に、互
いのギャップが平行しているものと、互いのギャップが
予定のアジマス角をもつ様に形成されたもの（ダブルア
ジマス磁気ヘッド）とがある。

ギャップが平行しているものは、矛１．２図の磁気ヘッ
ドと同様に、主にオーディオ等の記録モニタ用として用
いられ、ＶＴＲ用としては、用いられない。しかしなが
ら、ギャップがアジマス角をもつものは、周知の様に、
ヘリカルＶＴＲアジマス記録におけるフィールドスチル
再生等の特殊再生用として用いられろ。

牙４図の磁気ヘッドは、非母性基板９１上に、薄膜形成
方法により、サイドコア用合金磁性膜１１．２１及びセ
ンタコア用合金磁性膜１３が形成配置されたものであり
、２つのギャップ６０．７０は、予定のアジマス角をも
つ様に形成されている。

この磁気ヘッド（ダブルアジマス磁気ヘッド）は、矛３
図の様な構成のダブルアジマス磁気ヘッドと同様、ヘリ
カルＶＴＲアジマス記録におけるフィールドスチル再生
等の特殊再生用として用いられる。

ところで、ヘリカルＶＴＲアジマス記録におけるフィー
ルドスチル再生等の特殊再生機能は、今後ますます、そ
の需要が増大して（ると予想される。これに対し、矛３
図の様な構成のダブルアジマス磁気ヘッドでは、その量
産性が悪い為に、前記需要の増大を満し得ないという欠
点があった。

これは、この様なダブルアジマス磁気ヘッドは、コア材
がフェライト等である為、当然のことながら薄膜形成方
法によっては作成できず、又、矛１，２図の磁気ヘッド
と異なり、２つのギャップが平行していない為に、２つ
のギャップを有する一体ヘッドとして形成でき難いから
である。

すなわち、この様な構成の磁気ヘッドについて、２つの
ギャップのそれぞｔ’ＬＶｃ、予定のアジマス角をもた
せる為には、例えばヘッドベース等に接着する際、前・
記予定のアジマス角が得られる様に、再度調整する必要
があり、これに相当の時間を要するからである。

これに対し、之１４図の磁気ヘッドば、前述した様に、
薄膜形成方法によっ（，２つのギャップを有する一体ヘ
ッドとして形成できる為、牙３図の様な構成のダブルア
ジマス磁気ヘッドに比べて、量産には適している。

しかしながら、２つのギャップそれぞれの磁気回路が、
矛３図の磁気ヘッドの様に、それぞれ分割されていない
為に、］ア５図の磁気ヘッドが、不要のギャップが１つ
であるのに対し、これが６つ存在することとなり、磁気
抵抗が太き（なるという欠点があった。又、前記２つの
ギャップの磁気回路が、それぞれ分害すされて（・ない
為に、２つのギャップン同時に使用できず、かつクロス
トークも生じ易（・と（・う欠点力ζあった。

（目的）本発明の目的は、前記した従来技術の欠点をす＜シ、量
産性に優れ、かつ２つのギャップソれぞれの磁気回路Ｙ
２分割したダブルアジマス磁気ヘッドを提供するにある
。

（概要）本発明の％徴は、非磁性基板上のセンタコア用合金研性
膜及び一方のサイドコア用合国磁性膜の間に形成され、
前記非磁性基板面に対しα０（但し、０°くα０＜９０
°）のアジマス角をもつ牙１のギャップと、前記センタ
コア用合金磁性膜及び他方のサイドコア用合金磁性膜の
間に形成され、前記非磁性基板面に対し１８０°−α０
のアジマス角をもつ矛２のギャップとを有するタ°プル
アジマス磁気ヘッドにおし・て−前記センタコア用合金
磁性膜の中心線［溢って、前記センタコア用合金礎性膜
を２分割する様に予定幅の非磁性層を設けて、前記牙１
及び牙２ギャップそれぞれの磁気回路が分割されろ様に
した点にある。

（実施例）以下、本発明のダブルアジマス磁気ヘッドの製造工程を
図面を用いて説明し、かつ本発明のダブルアジマス磁気
ヘッドについて説明する。

】′５図（ａ）〜（ｇ）　’ｂｘ、本発明のダブルアジ
マス磁気ヘッドの製造工程の一例を説明する為の正面（
完成後テープ摺動面となる面）から見た工程図であり、
同図（ｇ）はその完成した状態を示す正面図である。す
なわち、同図（ｇ）は、本発明のダブルアジマス磁気ヘ
ッドの一実施例７示す正面図も兼ね℃いる。なお、矛４
図と同−個所及び同等部分は同一符号で示す。

不発−明のダブルアジマス磁気ヘッドの製造は、矛５図
（ａ）に示す様に、非磁性基板９１上に、スパッタ法又
は蒸着法等により、まず合金磁性膜１２を形成する。

その後、前記合金磁性膜１２ヲエツチング又は研削して
、牙５図（ｂｌに示す様に、非磁性基板９１０面に対し
てそれぞれα０（但し、０°くα０＜９０°）の傾斜面
６１．７１　”ａｊ有するサイドコア用合金出性膜１１
．２１を形成する。

次（、前記゛傾斜面６１．７１　Ｙ有するサイドコア用
合金磁性膜１１．２１の表面及び非磁性基板９１の露出
した面に、牙５図（Ｃ）に示す様に、ギャップ規制用の
非磁性薄膜７２ヲ形成する。

続いて、前記傾斜面６１．７１によってできた凹陥部を
埋込む様に、前記非出性薄膜７２上に、牙５図（ｄｌに
示す様な合金磁性膜２６を形成する。これにより、ギヤ
ノブ６０．７０が形成される。

その後、前記合金磁性膜２３のうち、前記凹陥部に埋込
まれたもの以外の部分乞、牙５図ｔｅｌに示１ｍに、エ
ツチング又は研磨により削除する。

次に、前記合金磁性膜２３乞２分割する様に、前記凹陥
部の中心線に沿って、エツチング又は研削等により、予
定幅の空隙を形成し、この空隙に、例えば、ガラス等の
非磁性材ケ充填する。

これにより、オー５図（ｆ）に示す様に、センタコア用
合金磁性膜’　３ａ、　１３ｂ、及び非磁性層５１が形
成される。

その後、以上の様にして形成されたものの上に、非磁性
板９２ヲ、ガラスや、エポキシ系の接着剤等で貼り付け
、さらにその後、テープ摺動面を整形、研磨することに
より、矛５図（ｇ）に示す様なダブルアジマス磁気ヘッ
ドが完成される。

なお、この磁気ヘッドの斜視図は、矛６図の通りである
。ところで、巻線窓８０ニ、非磁性基板９１及び非磁性
板９２に、予めその位置に窓が設けられたもの７用いる
ことによって、おのずから形成され得る。

次に、本発明のダブルアジマス磁気ヘッドの他の実施例
を説明する。

前記牙５図ｔｅ）　’Ｙ用いて説明した工程におこ・て
合金磁性膜２３のうち、前述した様に、凹陥部に埋込ま
れたもの以外の部分乞、全て削除せずへ前記凹陥部に埋
込まれたもの、及び左右両側の合金磁性膜３２．６３（
矛７図参照）が残る様に、ギャップ６０．７０間ｔより
もやや条目に削除する。

その後、牙５図（ｆ）を用（・て説明した工程において
、前述したと同様の予定幅の空隙ケ形成し、この空隙及
び前記左右両側の合金磁性膜３２．３３間に非磁性材を
充填して、非磁性層５１を形成する。この様にすれば、
牙７図に示す様なタ°プルアジマス磁気ヘッドを得るこ
とカーできる。

（効果）以上の説明から明らかな様に、本発明によれば、センタ
コア用合金磁性膜を非磁性層により２分割した構造とし
た為に、２つのギャップそれぞれの磁気回路が分割され
、その結果、そｊ。

ぞれのギャップの磁路に不要なギヤ・ンプをイ氏減でき
、磁気抵抗を小さくすることカーできた。又前記２つの
ギャップの磁気回路カーそれぞれ分害すされたことから
、２つのギャップ゛を同時に使用することができ、かつ
クロストークも）まとんど生じないという効果がある。

又、本発明者の実験によれば、前言己した様に、不要な
ギャップを低減できたこと力・ら、薄膜形成方法により
作成された従来の夕゛ブルアジマス磁気ヘッドに比べ、
ヘリカルＶＴＲでの各特性（例えば、記録特性、正常再
生特性、スチル再生特性、ファインスロー再生特性等）
乞、それぞれ約１ｄＢ性能アツプできることが明らかと
なった。

さらに又、本発明の様に、ダブルアジマス磁気ヘッド乞
薄膜形成方法により作成した場合には、その一般的効果
として、コストが安価となり、量産に適するというばか
りでにな（、ギャップ間隔を大幅に小さくヂぎろ。それ
と共に、ギャップの精度ケ、向上でさる結果、同期のく
るいも一水平走査期間で数チリ下に低減することができ
る。

又、本発明の様に、薄膜形成方法により作成される磁気
ヘッドでは、そのコア材として合金磁性材（例えば、セ
ンダスト、アモルファス等）を用いろ。これは、今後、
■Ｔ几テープとしてメタルテープ等の使用の増大を考え
る時、フェライト等乞用いる磁気ヘッドに比べ、コアの
飽和碍束密度が大ぎい故に、より一層適しているといえ
る。

【図面の簡単な説明】

牙１図〜第４図はそれぞれギャツフ゛ケ２つ有する従来
の磁気ヘッド（ダブルアジマスを有する磁気ヘッドも含
む）の−例を示す斜視図、第５図（ａｌ〜（ｇ）は本発
明のダブルアジマス磁気ヘッドの製造工程の一例を説明
する為の工程図であり、同図（ｇｌは本発明のダブルア
ジマス磁気へ・ノドの一実施例ケ示す正面図も兼ねｉｃ
（・る。又、牙６図は矛５図（ｇ）の斜視図、オ・７図【ま本発
明のダブルアジマス磁気ヘッドの他の実施例を示す正面
図である。１１．２１・・・サイドコア用合金磁性膜、１３ａ、１
３ｂ・・センタコア用合金磁性膜、３２ｊ３・・・合金
磁性膜、５１・・・非礎性層、６０．７０・・・ギャッ
プ、９１・・・非磁性基板、９２・・非磁性板第１図　　　　　　　第２図第３図　　　　　　　　第４区第６図第５閉

Claims

【特許請求の範囲】

非磁性基板上のセンタコア用合金磁性膜及び−力のサイ
ドコア用合金磁性膜の間に形成され、前記非磁性基板面
に対しＣｅ（但し、０°〈α０〈９０゜）のアジマス角
ヲ参つ牙１のギャップと、前記センタコア用合金磁性膜
及び他方のサイドコア用合金研性膜の間に形成され、前
記非磁性基板面に対し１８０°−α０のアジマス角乞も
つ矛２のギャップとを有するダブルアジマス磁気ヘッド
において、前記センタコア用合金磁性膜の中心線に溢っ
て、前記センタコア用合金磁性膜を２分割する様に予定
幅の非磁性層を設けて、前記矛１及び牙２ギャップそれ
ぞれの磁気回路が分割される様にしたことを特徴とする
ダブルアジマス磁気ヘッド。