JPH04255903A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
ー等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴い、例え
ば、メタルテープ等の高保磁力媒体が主流になってきて
いる。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料は、
高い飽和磁束密度を有するものが要求されている。

【０００３】このような状況の下、磁気ヘッドには、例
えば図９に示すように、一対の基板２１・２１の各片側
傾斜面に、高い飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜２２・
２２をそれぞれ形成した後、これら軟磁性薄膜２２・２
２が一平面状に連なるように低融点ガラス２３・２３に
て両基板２１・２１を相互に溶着接合してなるヘッドチ
ップ２４が用いられている。なお、このとき、両軟磁性
薄膜２２・２２の間には、ＳｉＯ２　等の非磁性材料か
ら成るギャップ材を介装することによってギャップ２５
が設けられる。

【０００４】上記基板２１としては、その一部が磁気テ
ープとの摺接面となることから、耐摩耗性に優れた感光
性結晶化ガラス、結晶化ガラス、あるいはセラミックス
等の非磁性材料や、軟磁性フェライト等の酸化物磁性材
料が、また、磁気回路を構成する上記軟磁性薄膜２２と
しては、例えば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金等が選定され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記磁気ヘ
ッドにおいては、基板２１と軟磁性薄膜２２が直接接し
ているため、軟磁性薄膜２２が基板２１によって侵蝕さ
れ、磁気回路を構成する軟磁性薄膜２２の特性が劣下し
、この結果、磁気ヘッドの歩留りが低下するという問題
を生じている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、上記課題を解決するために、基板の所定領域に磁気
回路を構成する軟磁性薄膜を形成して成る磁気ヘッドに
おいて、上記基板と軟磁性薄膜との間に、非磁性酸化物
よりなる膜が設けられていることを特徴としている。

【０００７】

【作用】上記の構成においては、基板と軟磁性薄膜とは
、化学的により安定な非磁性酸化物の膜により遮られて
いるため、基板材料による軟磁性薄膜の侵蝕が従来より
も抑制される。この結果、軟磁性薄膜の特性劣下が抑え
られる。

【０００８】

【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図８に
基づいて説明すれば、以下の通りである。

【０００９】本実施例の磁気ヘッドには、図１に示すよ
うに、高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜１と、この軟
磁性薄膜が形成される基板２とからなるヘッドチップ３
が用いられる。

【００１０】この磁気ヘッドの製造工程を順を追って説
明する。まず、図２に示すように、感光性結晶化ガラス
、結晶化ガラス、あるいはセラミックス等の非磁性材料
や、軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料からなる略直
方体形状の基板２の表面に、所定のピッチＡで複数の断
面略Ｖ字状の溝４…が相互に隣接して互いに平行に延び
る形状で形成される。上記溝４…の加工は、基板２が耐
摩耗性に優れる反面、難加工性であるため、例えば、溝
形状に応じた断面Ｖ字状の研削面を周縁に有する回転ブ
レードを用いたダンシング加工によって行われる。

【００１１】続いて、図３に示すように、上記各溝４…
の一方の壁面に、真空蒸着、あるいはスパッタ法等によ
り、非磁性酸化物、例えば、ＳｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３
　の膜５…が５０００Å程度形成される。その後、図４
に示すように、非磁性酸化物の膜５…上に、高い飽和磁
束密度を有する軟磁性金属、例えば、Ｆｅ−ＡｌーＳｉ
系合金からなる軟磁性薄膜１…がトラック幅に相当する
膜厚で形成される。

【００１２】次に、図５に示すように、各溝４…に低融
点ガラス６が充填され、その後、図６に示すように、基
板２に形成された各溝４…の頂点位置に達するまで、低
融点ガラス６の表面が平面状に研磨される。

【００１３】次いで、図７に示すように、基板２に、内
部巻線溝７と外部巻線溝８が形成され、さらに、ＳｉＯ
２　等の非磁性ギャップ材が、真空蒸着、あるいはスパ
ッタ法等により前記研磨面に膜付けされて、ギャップ面
９として形成され、コアブロック１０が作製される。

【００１４】この後、図８に示すように、一対の上記コ
アブロック１０・１０が各ギャップ面９・９同士を互い
に対面させた状態で加圧固定が行われ、溶着接合されて
、磁気ヘッドブロック１１が形成される。次に、上記の
磁気ヘッドブロック１１が図中破線に沿って所定のピッ
チＢで順次切断されることによって、図１に示すヘッド
チップ３が得られる。そしてこのヘッドチップ３が図示
しないベース板へ接着固定され、その後、コイル巻線お
よび、テープ摺動面研磨が施されて、磁気ヘッドとして
完成される。

【００１５】このように上記構成では、基板２に非磁性
酸化物からなる膜５を形成した後、この膜５上に軟磁性
薄膜１が形成される。従来は、基板に形成された溝壁面
に直接軟磁性薄膜が形成されており、この場合、前記し
たように、軟磁性薄膜が基板材料によって侵蝕され、磁
気回路を構成する軟磁性薄膜に特性劣下が生ずるものと
なっていた。

【００１６】しかしながら、上記の構成では、軟磁性薄
膜１と基板２との間に、非磁性酸化物、例えば、ＳｉＯ
２　、Ａｌ２　Ｏ３　からなる膜５が介在するため、軟
磁性薄膜１の基板２による侵蝕が防止され、軟磁性薄膜
１の特性劣下が抑制される。この結果、電気信号と磁界
との所定の変換効率を有する磁気ヘッドを得ることがで
き、磁気ヘッドの歩留りが向上する。

【００１７】また、上記構成による磁気ヘッドは、軟磁
性薄膜１がギャップ１２に対して斜めに形成されている
ため、磁気テープが摺動する際の偏摩耗が抑制される。 また、基板２にフェライト等の酸化物磁性材料を用いた
場合には、基板２と軟磁性薄膜１との境界の両側で磁気
特性が不連続になるため、この境界がギャップ２３と平
行になっていると、擬似ギャップの作用をして磁気ヘッ
ドの性能に悪影響を与えるが、上記構成では、このよう
な問題も回避される。

【００１８】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、以上のように、
磁気回路を構成する軟磁性薄膜と、この軟磁性薄膜が形
成される基板との間に、非磁性酸化物よりなる膜が設け
られている構成である。

【００１９】このように、基板と軟磁性薄膜との間に化
学的により安定な非磁性酸化物が介在しているため、基
板材料による軟磁性薄膜の侵蝕が抑制される。したがっ
て、軟磁性薄膜の特性劣下が抑えられ、磁気ヘッドの歩
留りが向上するという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における磁気ヘッドチップの
斜視図である。

【図２】上記磁気ヘッドチップの製造過程における溝が
形成された基板の形状を示す斜視図である。

【図３】上記溝壁面に非磁性酸化物の膜が形成された基
板の正面図である。

【図４】上記非磁性酸化物の膜上に軟磁性薄膜が形成さ
れた基板の正面図である。

【図５】上記溝に低融点ガラスが充填された基板の正面
図である。

【図６】上記低融点ガラスが平面状に研磨された基板の
正面図である。

【図７】上記基板に内部巻線と外部巻線が形成され、さ
らに、ギャップ材の設けられたコアブロックの斜視図で
ある。

【図８】一対の上記コアブロックを対面させた状態で接
合して得られた磁気ヘッドブロックの斜視図である。

【図９】従来例における磁気ヘッドチップの斜視図であ
る。

【符号の説明】

１　　　　軟磁性薄膜 ２　　　　基板 ５　　　　非磁性酸化物膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の所定領域に磁気回路を構成する軟磁
   性薄膜を形成して成る磁気ヘッドにおいて、上記基板と
   軟磁性薄膜との間に、非磁性酸化物よりなる膜が設けら
   れていることを特徴とする磁気ヘッド。