JPS61126611A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS61126611A JPS61126611A JP24807984A JP24807984A JPS61126611A JP S61126611 A JPS61126611 A JP S61126611A JP 24807984 A JP24807984 A JP 24807984A JP 24807984 A JP24807984 A JP 24807984A JP S61126611 A JPS61126611 A JP S61126611A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- G—PHYSICS
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、さらに詳しくは
高い周波数の信号を記録するための磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
高い周波数の信号を記録するための磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
［従来技術］
ビデオテープに磁気ヘッドにより信号を記録再生する、
家庭用のビデオテープレコーダにおいては、ビデオ信号
は最高７ＭＨ２程度までの周波数成分を含んでおり、ビ
デオテープレコーダ用のヘッド（以下ビデオヘッドと略
称する）はこれだけの周波数成分を記録再生する能力を
必要とする。
家庭用のビデオテープレコーダにおいては、ビデオ信号
は最高７ＭＨ２程度までの周波数成分を含んでおり、ビ
デオテープレコーダ用のヘッド（以下ビデオヘッドと略
称する）はこれだけの周波数成分を記録再生する能力を
必要とする。
さらに、現在検討されている高品位テレビジョン信号を
記録するビデオテープレコーダにおいては、最高２０Ｍ
Ｈｚ程度までの周波数帯域を必要とすると考えられてい
る。
記録するビデオテープレコーダにおいては、最高２０Ｍ
Ｈｚ程度までの周波数帯域を必要とすると考えられてい
る。
ところで、ビデオヘッドの記録能力のうち、記録レベル
の上限は磁気ヘッドを構成するコア素材の飽和磁束密度
により決定され、記録効率はコア素材の透磁率により決
定される。
の上限は磁気ヘッドを構成するコア素材の飽和磁束密度
により決定され、記録効率はコア素材の透磁率により決
定される。
従ってビデオヘッドのコア材料としては飽和磁束密度が
高く、かつ透磁率も高いものが望まししかし、飽和磁束
密度の高い金属磁性材料は、渦電流が発生するため、高
い周波数帯域、特に４．５ＭＨｚ以上の周波数帯域にお
いては、透磁率が実効的に低下する欠点がある。
高く、かつ透磁率も高いものが望まししかし、飽和磁束
密度の高い金属磁性材料は、渦電流が発生するため、高
い周波数帯域、特に４．５ＭＨｚ以上の周波数帯域にお
いては、透磁率が実効的に低下する欠点がある。
一方、酸化物磁性体は透磁率の周波数特性に優れている
が、飽和磁束密度が小さい。
が、飽和磁束密度が小さい。
一方、これら２種類の磁性材料の欠点を補うものとして
、金属磁性材料で形成したヘッドコアに、酸化物磁性材
料を並列して配置し、記録磁界を発生するギャップ部分
では、金属材料の高飽和磁束密度を利用し他の部分では
酸化物磁性体の高透磁率特性を利用する構造のヘッドが
提案されている。
、金属磁性材料で形成したヘッドコアに、酸化物磁性材
料を並列して配置し、記録磁界を発生するギャップ部分
では、金属材料の高飽和磁束密度を利用し他の部分では
酸化物磁性体の高透磁率特性を利用する構造のヘッドが
提案されている。
従来のこの種のビデオヘッドの製造方法を第１図を用い
て説明する。
て説明する。
まず、第１図（Ａ）に示すようにセンダストなどから成
る高悠和磁束密度磁性材料（以下高飽和材料と略称する
）の薄板１を用意し、これを第１図（Ｂ）に示すように
２枚のコア半体１ａ、ｌｂに分割し、一方のコア半体１
ｂに巻線窓５を形成する。
る高悠和磁束密度磁性材料（以下高飽和材料と略称する
）の薄板１を用意し、これを第１図（Ｂ）に示すように
２枚のコア半体１ａ、ｌｂに分割し、一方のコア半体１
ｂに巻線窓５を形成する。
続いて第１図（Ｃ）に示すように２枚のコア半体１ａ、
ｌｂを磁気ギャップ材を介して再び突き合わせて接着し
、突き合わせ面にギャップ６を形成する。
ｌｂを磁気ギャップ材を介して再び突き合わせて接着し
、突き合わせ面にギャップ６を形成する。
一方、第１図ＣＤ）に示すように巻線窓８を形成したフ
ェライトなどの高透磁率磁性材料（以下高透磁率材料と
略称する）の薄板３の巻線窓８側の端縁にガラスなどの
非磁性材料の薄板２を接着して成る保護板９を２枚用意
し、これを磁気コア１０の両側から貼り合わせ、磁気記
録媒体の摺動面７を切削研摩した後、巻線４を巻１．Ｘ
でビデオヘッドを完成する。
ェライトなどの高透磁率磁性材料（以下高透磁率材料と
略称する）の薄板３の巻線窓８側の端縁にガラスなどの
非磁性材料の薄板２を接着して成る保護板９を２枚用意
し、これを磁気コア１０の両側から貼り合わせ、磁気記
録媒体の摺動面７を切削研摩した後、巻線４を巻１．Ｘ
でビデオヘッドを完成する。
なお、第１図においては１チップ分のみの製造方法を説
明したが、多チップを１度にまとめて製造する場合にも
基本的な手順は同一である。
明したが、多チップを１度にまとめて製造する場合にも
基本的な手順は同一である。
このようにして得られた従来のビデオへ、ンドは以下に
述べるような欠点がある。
述べるような欠点がある。
すなわち、ビデオヘッドの特性を向上させるためには、
例えば第２図に示すように非磁性材料２を小さくし、高
透磁率材料３をヘッドギャップ６の近傍にまで接近させ
ることが必要であるが、非磁性材料２の寸法が小さくな
るため、第１図（Ｄ）で示した保護板９の貼り合わせの
工程において、位置合わせが極めて困難となる。
例えば第２図に示すように非磁性材料２を小さくし、高
透磁率材料３をヘッドギャップ６の近傍にまで接近させ
ることが必要であるが、非磁性材料２の寸法が小さくな
るため、第１図（Ｄ）で示した保護板９の貼り合わせの
工程において、位置合わせが極めて困難となる。
従って、従来の製造方法では、保護板９の高透磁率材料
３をヘッドギャップ６の近傍にまで十分に近付けられず
、ビデオヘッドの特性の改善には限界があった。
３をヘッドギャップ６の近傍にまで十分に近付けられず
、ビデオヘッドの特性の改善には限界があった。
換言すれば、ヘッドの特性を改善しようとする・１ と
、製造が極めて困難になるという問題があった。
、製造が極めて困難になるという問題があった。
［目 的］
本発明は以上のような従来の欠点を除去するために成さ
れたもので、保護板を構成する高透磁率材料をヘッドキ
ャップ近傍にまで位置させることができ、ヘッド特性を
著しく向上させることができるようにした磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的としている。
れたもので、保護板を構成する高透磁率材料をヘッドキ
ャップ近傍にまで位置させることができ、ヘッド特性を
著しく向上させることができるようにした磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的としている。
［実施例］
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明方法の詳細を
説明する。
説明する。
［第１実施例］
第３図は本発明方法を説明するもので、まず第３図（Ａ
）に示すようにＭ ｎ −Ｚ ｎフェライトやＮｉ−Ｚ
ｎフェライトなどの高抵抗で、かつ高透磁率材料から成
る薄板１３を用意する。
）に示すようにＭ ｎ −Ｚ ｎフェライトやＮｉ−Ｚ
ｎフェライトなどの高抵抗で、かつ高透磁率材料から成
る薄板１３を用意する。
そして、この薄板１３の端縁に、グイシングツ−などの
方法により、溝１７を形成する。
方法により、溝１７を形成する。
続いて第３図（Ｃ）に示すように溝１７中にガラスなど
の非磁性材料１２を埋設した後、その表面を研摩して平
面度を向上させ、保護板１９とする。
の非磁性材料１２を埋設した後、その表面を研摩して平
面度を向上させ、保護板１９とする。
次に、第３図（Ｄ）に示すように保護板１９の側面に、
センダストやアモルファス合金などの高飽和材料の薄板
１１を貼り合せ、これを第３図（Ｅ）に示すように非磁
性材料１２の中央部において切断し、コア半体１９ａ、
１９ｂとする。
センダストやアモルファス合金などの高飽和材料の薄板
１１を貼り合せ、これを第３図（Ｅ）に示すように非磁
性材料１２の中央部において切断し、コア半体１９ａ、
１９ｂとする。
そして一方のコア半体１９ｂに巻線窓１５を形成し、切
断部を研摩した後、第３図（Ｆ）に示すように磁気ギャ
ップ材を介して再びコア半体１９ａ、１９ｂを貼り合わ
せ、ヘッドギャップ１６を形成し、ヘッドチップとする
。
断部を研摩した後、第３図（Ｆ）に示すように磁気ギャ
ップ材を介して再びコア半体１９ａ、１９ｂを貼り合わ
せ、ヘッドギャップ１６を形成し、ヘッドチップとする
。
次に、第３図ＣＧ）に示すように作成したチップの高飽
和材料の薄板１１の外側に、ガラスなどの非磁性材料２
３．２２を突き合わせて固定し、突き合わせ面に巻線窓
２５を形成した保護板２６を貼り付け、さらに第３図（
Ｈ）に示すように磁気記録媒体摺動面２０のトラック幅
方向の肩部１８を面取りする。
和材料の薄板１１の外側に、ガラスなどの非磁性材料２
３．２２を突き合わせて固定し、突き合わせ面に巻線窓
２５を形成した保護板２６を貼り付け、さらに第３図（
Ｈ）に示すように磁気記録媒体摺動面２０のトラック幅
方向の肩部１８を面取りする。
続いて、巻線窓１５．２５等を利用して巻線を行なえば
ビデオヘッドが完成する。
ビデオヘッドが完成する。
なお、上述した例では、ｌチップ分のみの製造方法を説
明したが多数のチップを１度にまとめて製造する場合に
も基本的な工程は同一である。
明したが多数のチップを１度にまとめて製造する場合に
も基本的な工程は同一である。
このような製造方法を採用すると、非磁性材料１２と、
ヘッドギャップ１６の位置合わせは、第３図（Ｅ）の切
断の工程の精度によっていることになり、この切断工程
において、精密な切断を行なえば、極めて精度良く非磁
性材料１２とへツじ′ギャップ１６の相対的な位置を決
定することができる。
ヘッドギャップ１６の位置合わせは、第３図（Ｅ）の切
断の工程の精度によっていることになり、この切断工程
において、精密な切断を行なえば、極めて精度良く非磁
性材料１２とへツじ′ギャップ１６の相対的な位置を決
定することができる。
このようにして高精度な切断を行なえば、保護板を構成
する高透磁率材料をヘッドキャップの近傍にまで十分に
、かつ精度良く接近させることができビデオヘッドの出
力を向上させることができる。
する高透磁率材料をヘッドキャップの近傍にまで十分に
、かつ精度良く接近させることができビデオヘッドの出
力を向上させることができる。
ところで、上述した実施例において、ヘッドギャップ１
６と高透磁率材料から成る薄板１３との間の距離を６０
１Ｌｍとしたところ、５〜７．５ＭＨｚの周波数帯域に
おいて、２．０〜２ 、５ ｄＢの出力向上が得られた
。
６と高透磁率材料から成る薄板１３との間の距離を６０
１Ｌｍとしたところ、５〜７．５ＭＨｚの周波数帯域に
おいて、２．０〜２ 、５ ｄＢの出力向上が得られた
。
ただしトラック幅は２５７Ｌｍとした。
［第２実施例］
また、上述した第１の実施例においては第３図ＣＧ）に
示す保護板２６として非磁性材料から成る保護板を用い
たが、第１図の従来例で示した高透磁率磁性材料と非磁
性材料とを結合させた保護板９を用いても良い。
示す保護板２６として非磁性材料から成る保護板を用い
たが、第１図の従来例で示した高透磁率磁性材料と非磁
性材料とを結合させた保護板９を用いても良い。
このような構成を採用すると、さらに０．５〜１．０ｄ
Ｂ程度向上する。
Ｂ程度向上する。
［第３実施例］
更に、上述した実施例にあっては第３図ＣＤ）に示すよ
うに保護板１９の側面に高飽和材料の薄板１１を貼り付
けた構造を示したが、この工程をこれに代えて保護板１
９の側面に、スパッタリングや蒸着などの薄膜堆積法に
より高飽和材料を製膜しても良い。
うに保護板１９の側面に高飽和材料の薄板１１を貼り付
けた構造を示したが、この工程をこれに代えて保護板１
９の側面に、スパッタリングや蒸着などの薄膜堆積法に
より高飽和材料を製膜しても良い。
この場合には保護板１９と高飽和材料１１との間に接着
層が存在しないため、保護板の高透磁率材料の薄板１３
と、高飽和材料の薄板１１との間のギャップがなくなり
、ビデオヘッドの効率をより向上させることができる。
層が存在しないため、保護板の高透磁率材料の薄板１３
と、高飽和材料の薄板１１との間のギャップがなくなり
、ビデオヘッドの効率をより向上させることができる。
また、薄膜堆積法を採用すると、第４図にしめすように
５ｉ０２などの絶縁材料３２を介して高飽和材料３１の
層を積層することが容易となる。
５ｉ０２などの絶縁材料３２を介して高飽和材料３１の
層を積層することが容易となる。
この層は第４図に示すように２層に限らず、さらに層数
を増加させることも可能である。
を増加させることも可能である。
このような構造を採用すると、高飽和材料の層３１の内
部で発生する渦電流を抑制することができ、ヘッド特性
をさらに向上させることができる。
部で発生する渦電流を抑制することができ、ヘッド特性
をさらに向上させることができる。
このような効果はトラック幅が大きい場合および周波数
が高い場合に特に顕著に現れる。
が高い場合に特に顕著に現れる。
例えば、トラック幅が６０ＪＬｍの場合、高飽和材料の
層３１を４層とすることにより１層の場合に比較して４
．５ＭＨｚの周波数において、１．５ｄＢ程度出力を向
上させることができる。
層３１を４層とすることにより１層の場合に比較して４
．５ＭＨｚの周波数において、１．５ｄＢ程度出力を向
上させることができる。
このように、製造に際し薄膜堆積法を採用すれば製造が
容易で量産性に優れコストダウンを実現できる。また、
薄膜堆積法を用いて多層構造とすると、渦電流が抑制さ
れ、高周波帯域における出力特性が増大する。
容易で量産性に優れコストダウンを実現できる。また、
薄膜堆積法を用いて多層構造とすると、渦電流が抑制さ
れ、高周波帯域における出力特性が増大する。
［効 果］
以上の説明から明らかなように、本発明による磁気ヘッ
ドの製造方法によれば、高透磁率磁性材料板に溝を形成
し、この溝中に非磁性物質を埋設して保護板としこの保
護板の非磁性材部にギヤップ部が対向する高飽和磁束密
度の磁性材料層を配設しているため、高透磁率磁性材料
をヘッドギャップの近傍にまで位置させることができ、
ヘッド特性を著しく向上させることができる。
ドの製造方法によれば、高透磁率磁性材料板に溝を形成
し、この溝中に非磁性物質を埋設して保護板としこの保
護板の非磁性材部にギヤップ部が対向する高飽和磁束密
度の磁性材料層を配設しているため、高透磁率磁性材料
をヘッドギャップの近傍にまで位置させることができ、
ヘッド特性を著しく向上させることができる。
第１図＃（Ａ）〜（Ｅ）は従来の製造方法を説明する製
造工程図、第２図は従来のビデオヘッドの他の構造例を
示す斜視図、第３図（Ａ）〜（Ｈ）は本発明の第１の実
施例を説明する製造工程図、第４図は本発明の第３の実
施例を説明する斜視図である。 １１．１３・・・高飽和材料 １２・・・非磁性材料 １５．２５・・・巻線窓１
６・・・ヘッドギャップ １７・・・溝１９・・・保護
板 第１図 第３ 第４Ｅ
造工程図、第２図は従来のビデオヘッドの他の構造例を
示す斜視図、第３図（Ａ）〜（Ｈ）は本発明の第１の実
施例を説明する製造工程図、第４図は本発明の第３の実
施例を説明する斜視図である。 １１．１３・・・高飽和材料 １２・・・非磁性材料 １５．２５・・・巻線窓１
６・・・ヘッドギャップ １７・・・溝１９・・・保護
板 第１図 第３ 第４Ｅ
Claims (3)
- （１）高透磁率磁性材料板に溝を形成した後、この溝中
に非磁性材を埋設して保護板とし、この保護板の非磁性
材部に磁気ギャップ部が対向する高飽和磁束密度磁性材
料層を設ける工程を含むことを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法。 - （２）高飽和磁束密度磁性材料層は高飽和磁束密度磁性
材料板を貼着して形成したことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。 - （３）高飽和磁束密度の磁性材料の層の少なくとも一部
は薄膜堆積法により形成したことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24807984A JPS61126611A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24807984A JPS61126611A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61126611A true JPS61126611A (ja) | 1986-06-14 |
Family
ID=17172890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24807984A Pending JPS61126611A (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61126611A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0229912A (ja) * | 1988-07-19 | 1990-01-31 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
-
1984
- 1984-11-26 JP JP24807984A patent/JPS61126611A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0229912A (ja) * | 1988-07-19 | 1990-01-31 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
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