JPS60226006A - 多素子薄膜磁気ヘツド - Google Patents
多素子薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS60226006A JPS60226006A JP8114284A JP8114284A JPS60226006A JP S60226006 A JPS60226006 A JP S60226006A JP 8114284 A JP8114284 A JP 8114284A JP 8114284 A JP8114284 A JP 8114284A JP S60226006 A JPS60226006 A JP S60226006A
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- Japan
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- magnetic
- thin film
- substrate
- thin films
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明杜フロッピーデスクおよび電子カメラなどに用い
られる多素子薄膜磁気ヘッド、例えば録再兼用ヘッドお
よび消去ヘッドを一体化した多素子薄膜磁気ヘッドに関
するものである。
られる多素子薄膜磁気ヘッド、例えば録再兼用ヘッドお
よび消去ヘッドを一体化した多素子薄膜磁気ヘッドに関
するものである。
上記多素子薄膜磁気ヘッドの従来例、すなわちＭ１ｓ第
２従来例を、第１図および第２図にそれぞれ示す斜視図
について説明する。
２従来例を、第１図および第２図にそれぞれ示す斜視図
について説明する。
まず、第１従来例を示す第１図において、１ｍはフェラ
イトバルクコア基板（以下バルクコア基板と称す）２ｍ
、２ｂ間に設けられた磁気ヘッドをなす磁気ギャップ材
、ｌｂ、ｌｃは前記基板２ａと同様なバルクコア基板３
１Ｌ、３ｂ間に設けられた磁気ヘッドをなす消去用の磁
気ギャップ材、４ａ。
イトバルクコア基板（以下バルクコア基板と称す）２ｍ
、２ｂ間に設けられた磁気ヘッドをなす磁気ギャップ材
、ｌｂ、ｌｃは前記基板２ａと同様なバルクコア基板３
１Ｌ、３ｂ間に設けられた磁気ヘッドをなす消去用の磁
気ギャップ材、４ａ。
４ｂは前記バルクコア基板２ｍ、３ｍにそれぞれ巻回さ
れた巻線コイル、５ａ、５ｂは前記バルクコア基板２ｍ
、２ｂおよび３ａ、３ｂの端部上面にそれぞれ設けられ
たフェライトバルク材製のリアコア、５ｍ、６ｂは前記
バルクコア基板２ａ。
れた巻線コイル、５ａ、５ｂは前記バルクコア基板２ｍ
、２ｂおよび３ａ、３ｂの端部上面にそれぞれ設けられ
たフェライトバルク材製のリアコア、５ｍ、６ｂは前記
バルクコア基板２ａ。
２ｂ問および３ｍ、３ｂ間に形成された溝に充填された
ガラス、７は前記バルクコア基板２ｂ、３ｂ間に介設さ
れ、録再用磁気ギャップ材と消去用磁気ギャップ材のク
ロストークを押えるための非磁性基板である。
ガラス、７は前記バルクコア基板２ｂ、３ｂ間に介設さ
れ、録再用磁気ギャップ材と消去用磁気ギャップ材のク
ロストークを押えるための非磁性基板である。
第１従来例は上記のような構成からなり、記録時に録再
兼用磁気ギャップ材１ａで記録した記号を、所定のトラ
フ２幅に規制すると共に、隣接する旧トラック信号によ
る影響を防止し、かつガートバンドを設けるために、消
去用磁気ギャップｌｂ。
兼用磁気ギャップ材１ａで記録した記号を、所定のトラ
フ２幅に規制すると共に、隣接する旧トラック信号によ
る影響を防止し、かつガートバンドを設けるために、消
去用磁気ギャップｌｂ。
１ｃにより余分の記録信号を消去する。
このような第１従来例では、バルクコア基板２１゜２ｂ
、３ｍ、３ｂとしてフェライトバルク材を使用している
が、この材料は飽和磁束密度（Ｂｇ）がせいぜい４０ｏ
Ｏ〜５０００ Ｇ程度である。そこで、記録密度の向上
をはかるために、メタル粉などの高保磁力記録媒体を用
いた場合には、十分に記録できない不都合がおる。
、３ｍ、３ｂとしてフェライトバルク材を使用している
が、この材料は飽和磁束密度（Ｂｇ）がせいぜい４０ｏ
Ｏ〜５０００ Ｇ程度である。そこで、記録密度の向上
をはかるために、メタル粉などの高保磁力記録媒体を用
いた場合には、十分に記録できない不都合がおる。
また、製造工程において、前記バルクコア基板２ｍ、２
ｂ、３ｍ、３ｂおよび非磁性基板７の５個の基板の接着
工程を必要とするため、前記各磁気ギャップ材１ ｍ
−１ａの位置合せの精度が良好でなく、かつ充填ガラス
６ｍ、６ｂの体積は大きいので、バルクコア基板２ ａ
ｔ ２ ｂ ｓ ３ ａ ｅ ３ ｂの熱膨張係数の
差によるり２ツクなどが発生し易い恐れがある。
ｂ、３ｍ、３ｂおよび非磁性基板７の５個の基板の接着
工程を必要とするため、前記各磁気ギャップ材１ ｍ
−１ａの位置合せの精度が良好でなく、かつ充填ガラス
６ｍ、６ｂの体積は大きいので、バルクコア基板２ ａ
ｔ ２ ｂ ｓ ３ ａ ｅ ３ ｂの熱膨張係数の
差によるり２ツクなどが発生し易い恐れがある。
一方、第２図に示す第２従来例は、上述の第１従来例と
基本的には同様に構成されているが、３個の非磁性基板
７ａ〜７Ｃを用い、消去用磁気ギャップ材１ｂ、ｌｃお
よび録再用磁気ギャップ材１＆をそれぞれ別個に形成し
た後、ラミネート接着によシ一体化した点が異なる。
基本的には同様に構成されているが、３個の非磁性基板
７ａ〜７Ｃを用い、消去用磁気ギャップ材１ｂ、ｌｃお
よび録再用磁気ギャップ材１＆をそれぞれ別個に形成し
た後、ラミネート接着によシ一体化した点が異なる。
このように構成された第２従来例では、バルクコア基板
２ ＆ ＠ ２ ｂ ＃ ３ａＩ Ｈ３ｍ２ 、３ｂ１
ｇ ３ｂ２としてフェライトバルク材を用いているの
で、第１従来例と同様に記録能力は十分でない不都合が
ある。
２ ＆ ＠ ２ ｂ ＃ ３ａＩ Ｈ３ｍ２ 、３ｂ１
ｇ ３ｂ２としてフェライトバルク材を用いているの
で、第１従来例と同様に記録能力は十分でない不都合が
ある。
また、製造工程において、前記バルクコア基板７ ａ
１３ａ１１３ｂ１％同２ｍ、２ｂ、７ｅおよび同７ ｂ
、 ３ｍ２ 、３ｂ２の９個のバルクコア基板の接着
工程を必要とするため、位置合せの精度が良好でなく、
かつ録再用磁気ギャップ材１ａおよび消去用磁気ギャッ
プ材１ｂ’、ｌａを一個づつ貼りつける２ミネート構造
であるので、量産性が低下する恐れがある。
１３ａ１１３ｂ１％同２ｍ、２ｂ、７ｅおよび同７ ｂ
、 ３ｍ２ 、３ｂ２の９個のバルクコア基板の接着
工程を必要とするため、位置合せの精度が良好でなく、
かつ録再用磁気ギャップ材１ａおよび消去用磁気ギャッ
プ材１ｂ’、ｌａを一個づつ貼りつける２ミネート構造
であるので、量産性が低下する恐れがある。
本発明は上記にかんがみ記録能力の向上をはかると共に
、製作時の接着工程における位置合せ精度を高め、かつ
量産性を向上させることを目的とするものである。
、製作時の接着工程における位置合せ精度を高め、かつ
量産性を向上させることを目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するために、両面に軟磁性薄膜
をそれぞれ埋込んだ第１非磁性基板の両側に、片面に軟
磁性薄膜を埋込んだ第２非磁性基板および第３非磁性基
板を、この両基板の各軟磁性薄膜がそれぞれ前記第１非
磁性基板の各軟磁性薄膜と磁気ギャップ材を介して相対
向するようにそれぞれ接着させると共に、前記第２非磁
性基板および第３非磁性基板に巻線コイルを巻回したこ
とを特徴とするものである。
をそれぞれ埋込んだ第１非磁性基板の両側に、片面に軟
磁性薄膜を埋込んだ第２非磁性基板および第３非磁性基
板を、この両基板の各軟磁性薄膜がそれぞれ前記第１非
磁性基板の各軟磁性薄膜と磁気ギャップ材を介して相対
向するようにそれぞれ接着させると共に、前記第２非磁
性基板および第３非磁性基板に巻線コイルを巻回したこ
とを特徴とするものである。
以下、本発明の一実施例を図面について説明する。
第３図は本実施例である多素子薄膜磁気ヘッドの斜視図
でおる。同図において、８ｂは長手方向の両側面に高飽
和磁束密度（Ｂ８）の軟磁性薄膜９ｂ。
でおる。同図において、８ｂは長手方向の両側面に高飽
和磁束密度（Ｂ８）の軟磁性薄膜９ｂ。
１０ ｍをそれぞれ埋込んだ第１非磁性基板で、この基
板８ｂはガラスまたはフェライトまたはセラミックから
なり、また前記軟磁性薄膜９ｂ、１０ｍはセンダストま
たはアモルファスで作られている。
板８ｂはガラスまたはフェライトまたはセラミックから
なり、また前記軟磁性薄膜９ｂ、１０ｍはセンダストま
たはアモルファスで作られている。
ｇａ、ｇｃは片面、（図では８＆の右面、８Ｃの左向）
に上記と同様な軟磁性薄膜９ａ、ｌＯｂそれぞれを埋込
んだ第２非磁性基板および第３非磁性基板で、その軟磁
性薄膜９ａ、ｌｏｂは第１非磁性基板８ｂの両面に埋込
んだ軟磁性薄膜９ｔｌ、１０ｍとそれぞれ磁気ヘッドを
なす録再兼用の磁気ギャップ材ｌ＆および消去用の磁気
ギャップ材１ｂ。
に上記と同様な軟磁性薄膜９ａ、ｌＯｂそれぞれを埋込
んだ第２非磁性基板および第３非磁性基板で、その軟磁
性薄膜９ａ、ｌｏｂは第１非磁性基板８ｂの両面に埋込
んだ軟磁性薄膜９ｔｌ、１０ｍとそれぞれ磁気ヘッドを
なす録再兼用の磁気ギャップ材ｌ＆および消去用の磁気
ギャップ材１ｂ。
ｌｃを介して相対向するように接着されている。
また第２．第３非磁性基板ｇａ、ｇｃには、その巻線窓
１３１，１３１をそれぞれ貫通する巻線コイル４ｍ、４
ｂがそれぞれ巻回されている。
１３１，１３１をそれぞれ貫通する巻線コイル４ｍ、４
ｂがそれぞれ巻回されている。
次に上記第１ないし第３非磁性基板ｇｂ、ｇｍ。
８ｃを製作する工程について詳述する。
説明の便宜上、まず第２非磁性基板８ａを第４図につい
て説明するに、最初に同図囚に示すように前記基板８ａ
の長手方向に溝１４＆を機械加工またはエツチングなど
によシ複数個設ける。これらの溝１４ ａの幅を録再兼
用ヘッドのトラック幅より大きく形成すると共に、９１
４ｍの深さを１０〜４０μｍ程度に設定し、かつ溝１４
ｍの底面を基板８＆の表面（ギャップとなる面）と非
平行になるように形成する。
て説明するに、最初に同図囚に示すように前記基板８ａ
の長手方向に溝１４＆を機械加工またはエツチングなど
によシ複数個設ける。これらの溝１４ ａの幅を録再兼
用ヘッドのトラック幅より大きく形成すると共に、９１
４ｍの深さを１０〜４０μｍ程度に設定し、かつ溝１４
ｍの底面を基板８＆の表面（ギャップとなる面）と非
平行になるように形成する。
また、前記基板８ａに巻線コイル４ａを巻回するために
、長手方向に溝傾斜内約４５°程度、溝幅２００〜５０
０μｍおよび溝深さ５Ｑ 〜ＩＱＱ Ｒｎ程度の溝１４
ｂを設けると共に、リアコア部の接続面積を大きくす
るために、前記溝１４＆と同じ深さを有する＃１１４Ｃ
を長手方向に設ける。
、長手方向に溝傾斜内約４５°程度、溝幅２００〜５０
０μｍおよび溝深さ５Ｑ 〜ＩＱＱ Ｒｎ程度の溝１４
ｂを設けると共に、リアコア部の接続面積を大きくす
るために、前記溝１４＆と同じ深さを有する＃１１４Ｃ
を長手方向に設ける。
ついで、膜厚的５ＩＲｎに形成されたセンダストまたは
アモルファスなどの高Ｂｍ軟磁性薄膜と、膜厚的ｓｏｏ
°Ａに形成された５１０２またはｈｔ２ｏ５などの層間
材とを、スパッタリングなどの方法により交互に積層し
てなる軟磁性薄１ａ９１の膜厚を溝１４ ａの深さ以上
に形成する。その後、非磁性基板８ａが現われるまで前
軟磁性薄膜９ａをラッピングなどの手段によシ平坦化す
れば、第５図ＣＢ）に示すように軟磁性薄膜９ａが埋込
まれた第２非磁性基板８ａをうろことができる。
アモルファスなどの高Ｂｍ軟磁性薄膜と、膜厚的ｓｏｏ
°Ａに形成された５１０２またはｈｔ２ｏ５などの層間
材とを、スパッタリングなどの方法により交互に積層し
てなる軟磁性薄１ａ９１の膜厚を溝１４ ａの深さ以上
に形成する。その後、非磁性基板８ａが現われるまで前
軟磁性薄膜９ａをラッピングなどの手段によシ平坦化す
れば、第５図ＣＢ）に示すように軟磁性薄膜９ａが埋込
まれた第２非磁性基板８ａをうろことができる。
次に第３非磁性基板８Ｃの製作工程を第５図について説
明する。この製作工程は同図（Ａ）ψ）に示すように、
長手方向に複数個設けた９１１ｍの幅を、第２非磁性基
板８ａの溝１４ ａの幅よシ若干広くした点が、第２非
磁性基板８ａと異なるのみで、その他は同一である。こ
のように第２非磁性基板８ａと同様な工程によシ、第５
図（Ｂ）に示すように軟磁性薄膜１０ ｂが埋込まれた
第３非磁性基板８Ｃをうることかできる。
明する。この製作工程は同図（Ａ）ψ）に示すように、
長手方向に複数個設けた９１１ｍの幅を、第２非磁性基
板８ａの溝１４ ａの幅よシ若干広くした点が、第２非
磁性基板８ａと異なるのみで、その他は同一である。こ
のように第２非磁性基板８ａと同様な工程によシ、第５
図（Ｂ）に示すように軟磁性薄膜１０ ｂが埋込まれた
第３非磁性基板８Ｃをうることかできる。
さらに、第１非磁性基板８ｂの製作工程を第６図につい
て説明する。まず、同図囚に示すように第１非磁性基板
８ｂの上面に、かつ長手方向に録再兼用ヘッドのトラッ
ク幅を規制するための溝１２ａを、巻線コイルを巻回す
るための溝１２Ｃおよびリアコア接続面積を確保するた
めの溝１２・を、また前記基板８ｂの下面に、かつ長手
方向に、消去ヘッドのトラック幅を規制するための溝１
２ｂ１巻線コイルを巻回するための溝１２ ｂおよびリ
アコア接続面積を確保するための溝１２ ｆをそれぞれ
設け、しかも所定の相対位置を保持するように設ける。
て説明する。まず、同図囚に示すように第１非磁性基板
８ｂの上面に、かつ長手方向に録再兼用ヘッドのトラッ
ク幅を規制するための溝１２ａを、巻線コイルを巻回す
るための溝１２Ｃおよびリアコア接続面積を確保するた
めの溝１２・を、また前記基板８ｂの下面に、かつ長手
方向に、消去ヘッドのトラック幅を規制するための溝１
２ｂ１巻線コイルを巻回するための溝１２ ｂおよびリ
アコア接続面積を確保するための溝１２ ｆをそれぞれ
設け、しかも所定の相対位置を保持するように設ける。
次に上記のように一上・下両面に設けた６溝１２ ｍ
。
。
１２ ｂに、第２非磁性基板ｇｍ（第４図）の軟磁性薄
膜９ａと同様に形成された軟磁性薄膜９ｂ、１０ａを挿
入し、ラッピングすることにより軟磁性薄膜９ｂ、ｌｏ
ａが埋込まれた第１非出性基板８ｂをうることができる
。
膜９ａと同様に形成された軟磁性薄膜９ｂ、１０ａを挿
入し、ラッピングすることにより軟磁性薄膜９ｂ、ｌｏ
ａが埋込まれた第１非出性基板８ｂをうることができる
。
上述したようにして製作した第１非磁性基板８ａ。
第２非磁性基板８ｂおよび第３非磁性基板８Ｃを第７図
に示すように、所定の磁気ギャップ長になるように非磁
性体を介してガラスなどによシ接着して一体に結合して
組立体を構成する。この組立体をＸ−ＸおよびＹ−Ｙ面
でそれぞれ切断することによシ、第３図に示す本実施例
の多素子薄膜磁気ヘッドをうろことができる。
に示すように、所定の磁気ギャップ長になるように非磁
性体を介してガラスなどによシ接着して一体に結合して
組立体を構成する。この組立体をＸ−ＸおよびＹ−Ｙ面
でそれぞれ切断することによシ、第３図に示す本実施例
の多素子薄膜磁気ヘッドをうろことができる。
このような本実施例では、コア材として飽和磁束密度が
１０，０００ Ｇ 程度のセンダストあるいはアモルフ
ァス磁性薄膜を用いているので、メタル粉などを用いた
高Ｈｅ記録媒体に十分に記録することができる。
１０，０００ Ｇ 程度のセンダストあるいはアモルフ
ァス磁性薄膜を用いているので、メタル粉などを用いた
高Ｈｅ記録媒体に十分に記録することができる。
また、軟磁性薄膜９ｂ 、１０ｍ 、 ９ａ 、ｌＯｂ
をそれぞれ埋込んだ第１ないし第３非磁性基板８ｂ。
をそれぞれ埋込んだ第１ないし第３非磁性基板８ｂ。
８ａ、ｇｃを同時に接着し、かつ第１非磁性基板８ｂの
上・下両面に設けた＠１２ｍ、１２ｂにより、録再兼用
磁気ギャップのトラップ幅および消去用磁気ギャップの
トラップ幅を規制するように構成したので、高精度化を
はかると共に、量産性を向上させることができる。
上・下両面に設けた＠１２ｍ、１２ｂにより、録再兼用
磁気ギャップのトラップ幅および消去用磁気ギャップの
トラップ幅を規制するように構成したので、高精度化を
はかると共に、量産性を向上させることができる。
一般に軟磁性多層膜の層間材を、磁気ギャップ面と平行
に設けた場合、眉間材部が擬似磁気ギャップとなるコン
タ−効果、すなわち主信号と擬似信号との干渉を生ずる
ので、再生特性の忠実度を損うことになる。ところが、
本実施例では前記溝１０ｍ 、 １１ ｍ 、 １２ｍ
、 １２ｂがギャップ面と非平行となっている、すな
わちアジマス角度を有するため、忠実な記録再生を行う
ことができる。
に設けた場合、眉間材部が擬似磁気ギャップとなるコン
タ−効果、すなわち主信号と擬似信号との干渉を生ずる
ので、再生特性の忠実度を損うことになる。ところが、
本実施例では前記溝１０ｍ 、 １１ ｍ 、 １２ｍ
、 １２ｂがギャップ面と非平行となっている、すな
わちアジマス角度を有するため、忠実な記録再生を行う
ことができる。
以上説明したように、本発明によれば、軟磁性薄膜を埋
込んだ非磁性基板を有効に利用することによシ、記録能
力の向上、接着工程における位置合せの高精度化および
量産性の向上をはかることができる。
込んだ非磁性基板を有効に利用することによシ、記録能
力の向上、接着工程における位置合せの高精度化および
量産性の向上をはかることができる。
第１図および第２図は従来の各多素子薄膜磁気ヘッドの
斜視図、第３図線本発明の多素子薄膜磁気ヘッドの一実
施例を示す斜視図、第４図に）（Ｂ）、第５図（Ａ）
（Ｂ）および第６図（６）（Ｂ）は同実施例の第２゜第
３．第１の各非磁性基板の製作工程の説明図、第７図は
第１ないし第３の各非磁性基板の組立体の斜視図である
。 １ ＆ 、 １ ｂ 、 ｌ ｃ−磁気ギャップ材、４
ｍ、４ｂ・・・巻線コイル、８ ａ 、 ８ ｂ 、
８ｃｍ第一２．第１゜第３の各非磁性基板、９ ＆ 、
９ ｂ 、 １０ ｍ 、 １０ ｂ ・・−軟磁性
薄膜。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第７図 第２図 第３図 第４図 第５図 （Ａ） （Ａ） （Ｂ） （９）
斜視図、第３図線本発明の多素子薄膜磁気ヘッドの一実
施例を示す斜視図、第４図に）（Ｂ）、第５図（Ａ）
（Ｂ）および第６図（６）（Ｂ）は同実施例の第２゜第
３．第１の各非磁性基板の製作工程の説明図、第７図は
第１ないし第３の各非磁性基板の組立体の斜視図である
。 １ ＆ 、 １ ｂ 、 ｌ ｃ−磁気ギャップ材、４
ｍ、４ｂ・・・巻線コイル、８ ａ 、 ８ ｂ 、
８ｃｍ第一２．第１゜第３の各非磁性基板、９ ＆ 、
９ ｂ 、 １０ ｍ 、 １０ ｂ ・・−軟磁性
薄膜。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第７図 第２図 第３図 第４図 第５図 （Ａ） （Ａ） （Ｂ） （９）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 両面に軟磁性薄膜をそれぞれ埋込んだ第１非磁性
基板の両側に、片面に軟磁性薄膜を埋込んだ第２非磁性
基板および第３非磁性基板を、この両差板の各軟磁性薄
膜がそれぞれ前記第１非磁性基板の各軟磁性薄膜と磁気
ギャップ材を介して相対向するようにそれぞれ接着させ
ると共に、前記第２非磁性基板および第３非磁性基板に
光線コイルを巻回したことを特徴とする多素子薄膜磁気
ヘッド。 ２、上記軟磁性薄膜によシ形成される２組のヘッド磁気
回路のうちの一方を記録再生に、他方を消去に用いたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の多素子薄膜
磁気ヘッド。 ３、 上記軟磁性薄膜として、センダストまたはアモル
ファス製の軟磁性薄膜を非磁性層間材を介して多層に形
成したものを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
１項または第２項記載の多素子薄膜磁気ヘッド。 ４、上記非磁性層間材面を、磁気ギャップ面と非平行に
形成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
第３項のうちの任意の１項記載の多素子薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8114284A JPS60226006A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 多素子薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8114284A JPS60226006A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 多素子薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226006A true JPS60226006A (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=13738157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8114284A Pending JPS60226006A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 多素子薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60226006A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0191635A2 (en) * | 1985-02-13 | 1986-08-20 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head |
-
1984
- 1984-04-24 JP JP8114284A patent/JPS60226006A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0191635A2 (en) * | 1985-02-13 | 1986-08-20 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head |
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