JPS60170014A - 多素子薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

多素子薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法

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JPS60170014A
JPS60170014A JP2429484A JP2429484A JPS60170014A JP S60170014 A JPS60170014 A JP S60170014A JP 2429484 A JP2429484 A JP 2429484A JP 2429484 A JP2429484 A JP 2429484A JP S60170014 A JPS60170014 A JP S60170014A
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JP
Japan
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magnetic
layers
thin film
magnetic head
layer
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JP2429484A
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Masamichi Yamada
雅通 山田
Takumi Sasaki
佐々木 卓美
Katsuo Konishi
小西 捷雄
Hideo Zama
座間 秀夫
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
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    • G11B5/3109Details
    • G11B5/3116Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は電子カメラ等に好適な巻線型の多素子薄膜磁気
ヘッドおよびその製造方法疋関する。
〔発明の背景〕
電子カメラやビデオテープレコーダ用の磁気ヘッドとし
て、製造プロセスの容易な巻線型の採用が考えられる。
しかしながら、この巻線型は以下図面を用いて説明する
ように、クロストークが多くなってしまうという欠点が
あり、この解決が望まれていbo 第1図は従来の巻線凰多素子磁気ヘッドを示す斜視図で
あって、lおよび2は磁気へラドコア、3aおよび3b
は非磁性体、4aおよび4bは巻線、5aおよび5bは
巻線窓である。
同図は、2つの薄膜磁気ヘッド素子からなる多素子磁気
ヘッドを示すものであって、バルク材あるいは薄膜より
成る薄膜磁気ヘッド素子の磁気へラドコア1.2は、そ
れぞれ2枚のコアを接合し、摺動面側に非磁性体3a、
3bY介在してヘッドギャップな形成している。磁気ヘ
ッドコア1. 2を構成する各コアの接合対向部には巻
線窓5a。
5bが形成され、この巻線窓5a。5bを利用して巻線
4a、4bが施されている。
このように構成された磁気ヘッドは、高密度記録をする
ためトラック間隔lを小さくするに従って、クロストー
クが増大し記録再生特性の信頼性が低下してしまう。こ
れは、隣接する磁気へラドコア1.2の対向面積が太き
いために、トランク間隔jを小さくすると、隣接する磁
気へラドコア1.2の一方から他方へ磁束が漏れ易くな
り、この磁束が巻線をきる量が増えるからである。
このクロストークを低減した従来方法を次に説明する。
第2図はクロストークを低減した従来の多素子薄膜磁気
ヘッドを示す斜視図で、6ぼ非磁性基板、7aおよび7
bは信号コイル、8aおよび8bは下部磁性体層、9a
および9bは上部磁性体層、10aおよび10bは非磁
性体である。
同図は、非磁性基板6上に磁性薄膜な被着して下部磁性
体層8a、gbを形成し、非磁性体10a、10b釦よ
ってヘッドギャップを形成すると共に、薄膜コイルを配
線して信号コイル7a、7bとし、その上に磁性薄膜な
被着して上部磁性体層9a、9bを形成している。
このような構成の薄膜磁気ヘッドによれば、各磁性体層
8a、8b、9a、9bとし薄膜を用いるため、第1図
に示したバルク材を用いたものより、隣接せる磁気ヘッ
ドコア対向面積が十分小さくなり、このためクロストー
クが低減する。
しかしながら、次のような欠点があった。
すなわち、基板6上に磁性体層、ヘッドギャップとなる
非磁性層、信号コイルのための導電層、磁気回路を制限
するための絶縁層等を薄膜形成技術やフォトエツチング
忙より順次積層するため、製造工程が複雑で難しくなり
、製造歩留が低下してしまう。また高周波における渦電
流損失が大きく、これを改善しようとするとコンタ−効
果を示してアナログ記録再生特性の信頼性を損う。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、コンタ−効果を低減すると共にクロス
トークの低減なはかった多素子薄膜磁気ヘッドおよびそ
の製造法を提供するにある。
〔発明の概要〕
この目的を達成するために、本発明は、互いに近接して
並置される各薄膜磁気ヘッド素子の磁性体層が非磁性基
板に積層されていて、該各薄膜磁気ヘッド素子間の該磁
性体層の対向面積を小さくしてクロストークを低減し、
かつ、該各薄膜磁気ヘッド素子におけるテープ摺動面の
該磁性体層の厚さを使用最長記録波長と同程度あるいは
それ以上忙設定し、コンタ−効果を軽減した点に特徴が
ある。
また上述の構成は、ヘッドギャップを境に対称形にする
ことができるので、同一構造基板を接合する製造法によ
って工程数を減少することができる。
〔発明の実施例〕
以下本発明の実施例を図面によって説明する。
第3図は本発明の一実施例による多素子薄膜磁気ヘッド
の斜視図で、11 a、1 l b、12 a。
12bは非磁性基板、13a、13b、14a*14b
は磁性体層、15a、15bは巻線窓、16a、16b
は巻線、17a、17bは非磁性体である。
同図は、2つの薄膜磁気ヘッド素子からなる多素子薄膜
磁気ヘッドな例忙示すものであって、ガラス、セラミッ
クスあるいはフェライトから成る1対の非磁性体118
,128および1 l b。
12bは、それぞれ対向部の中間に凹部な有していて、
との凹部面に沿ってパーマロイ、センダスト、アモルフ
ァス等で成る磁性体層13a、14aおよび13b、1
4bを積層している。このため巻線窓15a、15bが
形成され、この巻線用窓を利用して巻線16a、16b
を施している。磁性体層13a、143間、および磁性
体層13b。
14b間には8 iO2,k120g等の非磁性体17
g、17bによって磁気ギャップが形成されている。ま
た、トラック間隔が1となるよう2つの薄膜磁気ヘッド
素子が並置されている。
このような構成であるため、各薄膜磁気ヘッド素子間の
磁性体部分の対向面積は、薄膜より成る磁性体層13a
、14gもしくは13b、14bの厚さによって従来よ
り充分小さくすることができ、クロストークの低減をは
かることができる。
第4図は第3図の磁性体層13a、14aの詳細を示す
断面図で、18 a、18 b、19 a。
19b、20a、20b、21a、21bは部分磁性体
層、22a、22b、23a、23.b。
24a、24bは層間材、他の第3図に対応する部材に
は同一符号をつけている。
磁性体層13a、14aは、4層の部分磁性体層と、そ
れら部分磁性体層間の眉間材から成っている。部分磁性
体層18a、18bから20a。
20bまでは、高周波におけろ渦電流損失が生じない程
度の膜厚に薄くし、・磁気ギャップ17aに最も近接し
た部分磁性体層21a、21bの膜厚Pは使用最長記録
波長と同程度あるいはそれ以上としている。
第5図は本発明による多素子薄膜磁気ヘッドの他の実施
例における磁性体層の詳細を示す断面図で、第4図に対
応する部分には同一符号をつけている。
巻線16aが施される巻線窓15aを覆う部分の磁性体
層13 a、l 4 Bは1層間材22a。
22b、23a、23b、24a、24bによって、高
周波における渦電流損失が生じない程度の薄膜とした部
分磁性体層18a、18b、19a。
19b、20a、20b、21a、21bからなってい
る。一方、テープ摺動面近傍では眉間材を設けず、1層
の磁性体層とし、この磁性体層の膜厚Pt−使用最長記
録波長と同程度以上としている。
上述した第4図および第5図の構成によれば、巻線窓を
包囲する部分の磁性体層を眉間材によって多層にしたた
め、高周波における渦電流損失による高周波帯の出力劣
化を防止すると共K、テープ摺動面に最も近い磁性体層
の膜厚を規定することによってコンタ−効果を小さくシ
、アナログ記録再生゛特性の信頼性を向上することがで
きる。
次に第4図忙示した実施例による多素子薄膜磁気ヘッド
の製造方法について説明す・る。
第6図(a)〜(flは製造工程を示す斜視図で、25
a、25b、26.27a、27b、27c、2Bは切
溝、29a、29b、30a、30bは巻線である。
先ず、第6図(a)に示すように非磁性基板11に、ダ
イシングソー等の機械加工あるいはエツチングにより巻
線窓となる溝15を形成する。この溝15の幅Wは約3
00μm、深さhは約70μm。
溝15のテーパ角θは約45度である。荷15のテーパ
角が90度近傍の急峻な傾きになると、上に形成する磁
性体層のステップカバーが不充分釦なって特性が劣下す
るので、テーパ角としては30度から60度の間が適当
である。
次に、第6図(b)に示す様に部分磁性体層18を5μ
m程度、層間材22として5102あるいはAn、03
等を0.02 p mから0.1μmの膜厚で順次積層
する。最後の部分磁性体層19については、本実施例で
は最長記録波長が10μmなので10数μmの膜厚を形
成する。一方、第5図に示した他の実施例は、この工程
において、層間材22を形成した後、シツピング忙より
、ヘッドギャップ部および後部磁気コア接続部の層間材
を取り去り、部分磁性層19を順次積層するか、または
、層間材22を積層する場合に該磁気ギャップ部と後部
磁気コア接続部をマスクすることにより得られる。次い
で、S iO,、Al2O3等を所望の磁気ギャップ長
となるように非磁性体17を積層しく第6図(C) )
 、機械加工により、トラック間隔lをとるための切溝
25a、25bと、トランク幅Twを決め磁気コアのし
ぼりを実現するたW)I)切溝27a、27b、27C
と、巻線用の切溝26を形成する(第6図(d))。各
薄膜磁気ヘッド素子の磁気コアを分割するための切溝2
8を入れた後1巻線29a、29bを各1個おきの薄膜
磁気ヘッド素子に巻回しく第6図(e))、第6図(f
lに示す様に、上記1対の基板を突き合わせ、ガラスボ
ンド等の手法により接着し、A−N面で切断することに
より本実施例の多素子薄膜磁気ヘッドが得られる。
このような構成の多素子薄膜磁気ヘッドでは、磁性体層
が簿膜よりなるので、隣接トラック間の磁気コア対向面
積が第1図に示したバルク材を用いた従来例より充分小
さくでき、クロストークの低減ができろ。また、第2図
に示した薄膜磁気ヘッドの従来例釦比較して薄膜積層数
が少なく、フォトエツチング等のプロセスが殆んどない
ため、製造プロセスが容易で、製造歩留の向上が計られ
る。更に、磁性体は多層化になっており高周波における
渦電流損失がないとともに、磁気ギャップに最も近い磁
性体層の膜厚が使用最長記録波長と同程度以上に大きい
構造なので、従来例に見られた再生波形の位相干渉(コ
ンタ−効果)を充分小さくすることができ、アナログ記
録再生特性の信頼性を高めろことができる。
第7図は本発明の他の実施例による多素子薄膜磁気ヘッ
ドの斜視図で、31a、31b、31.Cは耐摩耗性非
磁性部材であり、他の第6図に対応する部材には同一符
号をつけている。
先の実施例では各トラック間に切溝27a。
27b、27Cが形成されていたのに対し、第7図の実
施例では各切溝に耐摩耗性非磁性部材31a、31b、
31Cv接着している。このため、テープ摺動面は耐摩
耗性非磁性部材3.la、31b、31Cによって保饅
される。
上記各実施例は2トラツクの場合について説明したが、
更にトラック数の多い多素子薄膜磁気ヘッドについても
同様に適用でき、同等の効果を得ることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明圧よれば、各薄膜磁気ヘッ
ド素子の磁性体部分の対向面積を小さくしてクキストー
クを低減し、テープ摺動面での磁性体層の膜厚を使用最
長記録波長以上とし多層化することによって高周波にお
ける渦電流損失を少なくすると共にコンタ−効果を低減
でき、従来技術の欠点を除いて優れた機能をもつ多素子
薄膜磁気ヘッドを提供することができる。
また本発明は、ヘッドギャップを中心にして対称形の構
造としたため、巻線を施すための巻線窓を容易に得るこ
とができ、また同一工程によって得たブロックを接着す
ることによって、製造工程を従来のほぼ半分とした多素
子薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は夫々多素子磁気ヘッドおよび多素
子薄膜磁気ヘッドの従来例を示す斜視図、第3図は本発
明による多素子薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図
、第4図は第3図の磁性体層部分を示す要部縦断面図、
第5図は本発明による多素子薄膜磁気ヘッドの他の実施
例における磁性層部分を示す要部縦断面図、第6図(a
)〜(f)は本発明による多素子薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を示す工程図、第7図は本発明による多
素子薄膜磁気ヘッドのさらに他の実施例を示す斜視図で
ある。 11 a、1 l b、12 a、12 b−”・非磁
性基板−113a、13b、14a、14b・・・・・
・磁性体、15a、15b・・・・・・巻線窓、16a
、16b・・・・・・巻線、17a、17b・・・・・
・磁気ギャップ。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 n 薦27 第6r!J (f) 。 第7図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 一対の非磁性基板の凹部な有する夫々の対向面
    に夫々磁性体層が形成され、該磁性体層はヘッドギャッ
    プを形成する非磁性体を介して結合されてなる薄膜磁気
    ヘッド素子が複数個近接して並置されてなり、該薄膜磁
    気ヘッド素子のテープ摺動面における前記磁性体層の厚
    さを使用最長記録波長と同程度あるいはそれ以上に設定
    したことを特徴とする多素子薄膜磁気ヘッド。
  2. (2) 非磁性基板の表面に四部を形成する工程と、該
    凹部を有する該表面釦磁性体層を形成する工程と、該磁
    性体層が形成された非磁性基板に該凹部忙垂直に複数の
    切り溝を設けかつ該切り溝によって区分される該磁性体
    層間を分離して複数のコアブロックの集合体を形成する
    工程と、該集合体の所定の該コアブロックの前記凹部部
    分に巻線を施とす工程と、該集合体の一対な夫々の前記
    磁性体層が対向しヘッドギャップを形成する非磁性体を
    介して一体化する工程とからなり、該一対の集合体の対
    向せる2つのコアブロックでもって薄膜磁気ヘッド素子
    をなし、該薄膜磁気ヘッド素子のテープ摺動面釦おける
    前記磁性体層の厚さを、使用最長記録波長と同程度ある
    いはそれ以上に設定したことを特徴とする多素子薄膜磁
    気ヘッドの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0559432A2 (en) * 1992-03-04 1993-09-08 Ampex Systems Corporation Laminated, high frequency, magnetic transducer and manufacturing method therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0559432A2 (en) * 1992-03-04 1993-09-08 Ampex Systems Corporation Laminated, high frequency, magnetic transducer and manufacturing method therefor
EP0559432A3 (en) * 1992-03-04 1993-10-27 Ampex Systems Corporation Laminated, high frequency, magnetic transducer and manufacturing method therefor

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