JP2618860B2 - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JP2618860B2 JP2618860B2 JP61119313A JP11931386A JP2618860B2 JP 2618860 B2 JP2618860 B2 JP 2618860B2 JP 61119313 A JP61119313 A JP 61119313A JP 11931386 A JP11931386 A JP 11931386A JP 2618860 B2 JP2618860 B2 JP 2618860B2
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- Japan
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- magnetic
- film
- laminated film
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- laminated
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッド及
びその製造方法に係り、特に高抗磁力テープへの記録特
性の優れた磁気ヘッドの製造方法に関する。
びその製造方法に係り、特に高抗磁力テープへの記録特
性の優れた磁気ヘッドの製造方法に関する。
（従来の技術） 近年、ビデオテープレコーダなどの磁気記録再生装置
に用いられる磁気テープとして、その記録密度を高める
ためにメタルテープが開発されている。このメタルテー
プのように高抗磁力磁気記録媒体に対して十分な記録を
行なうためには、従来のフェライトなどの酸化物強磁性
体を材料とする磁気ヘッドでは、コアの飽和のため磁気
テープを十分に磁化することができず適当でない。この
ため酸化物強磁性体の代りに金属強磁性体を用い、さら
に高周波特性を改善するために材料を薄板化している。
このような磁気ヘッドは従来は第４図に示すように形成
されていた。すなわち、非磁性基板１上に真空技術を用
いて金属強磁性膜２と絶縁薄膜３とを交互に積層してト
ラック幅分の厚さとし、この積層部を挟持するように別
の非磁性基板４を接着した後、膜面に直角に分割して半
コア５を作る。そして同様な方法で作られ巻線溝６が形
成された半コア７を磁気ギャップ８を介してガラス９で
接合し、巻線溝６にコイル10を巻回して磁気ヘッド11を
形成する。
に用いられる磁気テープとして、その記録密度を高める
ためにメタルテープが開発されている。このメタルテー
プのように高抗磁力磁気記録媒体に対して十分な記録を
行なうためには、従来のフェライトなどの酸化物強磁性
体を材料とする磁気ヘッドでは、コアの飽和のため磁気
テープを十分に磁化することができず適当でない。この
ため酸化物強磁性体の代りに金属強磁性体を用い、さら
に高周波特性を改善するために材料を薄板化している。
このような磁気ヘッドは従来は第４図に示すように形成
されていた。すなわち、非磁性基板１上に真空技術を用
いて金属強磁性膜２と絶縁薄膜３とを交互に積層してト
ラック幅分の厚さとし、この積層部を挟持するように別
の非磁性基板４を接着した後、膜面に直角に分割して半
コア５を作る。そして同様な方法で作られ巻線溝６が形
成された半コア７を磁気ギャップ８を介してガラス９で
接合し、巻線溝６にコイル10を巻回して磁気ヘッド11を
形成する。
しかしながら上記の従来の磁気ヘッド11によると、半
コア5,7を接合するときに巻線溝６がガラス９で埋まっ
てコイル10の巻線ができなくなることを防ぐため、巻線
溝６の大きさはコイル径×巻き数より十分大きくする必
要があった。このため磁路長が長くなりヘッド効率が低
下するという問題があった。またコイル10を巻線溝６に
巻回しているため巻線の全長が長くなり、この結果浮遊
容量が大きくなるので、高周波領域ではコイル10の巻数
を制限しなければならないという問題もあった。
コア5,7を接合するときに巻線溝６がガラス９で埋まっ
てコイル10の巻線ができなくなることを防ぐため、巻線
溝６の大きさはコイル径×巻き数より十分大きくする必
要があった。このため磁路長が長くなりヘッド効率が低
下するという問題があった。またコイル10を巻線溝６に
巻回しているため巻線の全長が長くなり、この結果浮遊
容量が大きくなるので、高周波領域ではコイル10の巻数
を制限しなければならないという問題もあった。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は従来の磁気ヘッドにおいて問題であった巻線
溝が大きいために磁路長が長くなってヘッド効率が低下
し、またコイル長が長いため浮遊容量が大きくなって高
周波領域の特性が悪化するという問題を解決し、高周波
特性がよくヘッド効率のよい磁気ヘッドを製造すること
のできる磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを
目的とする。
溝が大きいために磁路長が長くなってヘッド効率が低下
し、またコイル長が長いため浮遊容量が大きくなって高
周波領域の特性が悪化するという問題を解決し、高周波
特性がよくヘッド効率のよい磁気ヘッドを製造すること
のできる磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを
目的とする。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明は上記の目的を達成するために、それぞれ第１
の非磁性基板と、この第１の非磁性基板上に金属磁性膜
と絶縁薄膜とを交互に積層して形成された積層膜と、こ
の積層膜を介して前記第１の非磁性基板に接合された第
２の非磁性基板とでなる第１及び第２の接合体と、前記
第１の接合体の前記積層膜と交差する面の一方に絶縁体
を介して形成された薄膜コイルと、前記積層膜と交差す
る面の一方が前記薄膜コイルを介して前記第１の接合体
に接合される第２の接合体であって、該第２の接合体の
前記第１の接合体に接合される面に前記積層膜と交差す
る方向に磁束リーク防止溝を形成することで磁気ヘッド
を得るようにしたものである。
の非磁性基板と、この第１の非磁性基板上に金属磁性膜
と絶縁薄膜とを交互に積層して形成された積層膜と、こ
の積層膜を介して前記第１の非磁性基板に接合された第
２の非磁性基板とでなる第１及び第２の接合体と、前記
第１の接合体の前記積層膜と交差する面の一方に絶縁体
を介して形成された薄膜コイルと、前記積層膜と交差す
る面の一方が前記薄膜コイルを介して前記第１の接合体
に接合される第２の接合体であって、該第２の接合体の
前記第１の接合体に接合される面に前記積層膜と交差す
る方向に磁束リーク防止溝を形成することで磁気ヘッド
を得るようにしたものである。
さらにまた、第１の非磁性基板上に金属磁性膜と絶縁
薄膜とを交互に積層して、ほぼトラック幅に等しい厚さ
の積層膜を形成する工程と、この積層膜の上に第２の非
磁性基板を接合する工程と、この接合体を前記積層膜に
対しほぼ直角な方向に切断し、この切断端面を鏡面状に
研磨する工程と、この鏡面状に研磨された切断端面の片
側の面上に磁気ギャツプ、薄膜コイル及び金属磁性膜ギ
ャップを形成する工程とにより第１の接合体を製造し、
前記第１の接合体の製造工程中の第１乃至第３の工程及
び前記研磨された切断端面の片側に磁束リーク防止溝を
形成する工程とにより第２の接合体を製造し、前記第１
の接合体と第２の接合体にそれぞれ形成された積層膜が
整合する位置になるように、これら第１及び第２の接合
体を接合して磁気ヘッドを製造するようにしたものであ
る。
薄膜とを交互に積層して、ほぼトラック幅に等しい厚さ
の積層膜を形成する工程と、この積層膜の上に第２の非
磁性基板を接合する工程と、この接合体を前記積層膜に
対しほぼ直角な方向に切断し、この切断端面を鏡面状に
研磨する工程と、この鏡面状に研磨された切断端面の片
側の面上に磁気ギャツプ、薄膜コイル及び金属磁性膜ギ
ャップを形成する工程とにより第１の接合体を製造し、
前記第１の接合体の製造工程中の第１乃至第３の工程及
び前記研磨された切断端面の片側に磁束リーク防止溝を
形成する工程とにより第２の接合体を製造し、前記第１
の接合体と第２の接合体にそれぞれ形成された積層膜が
整合する位置になるように、これら第１及び第２の接合
体を接合して磁気ヘッドを製造するようにしたものであ
る。
（作用） 上記の方法によると、従来巻線溝に巻回していたコイ
ルを薄膜で形成するため、磁路長は100乃至150μｍ程度
と短くなり、ヘッド効率が向上する。同時に浮遊容量が
小さいため高周波特性が改善される。
ルを薄膜で形成するため、磁路長は100乃至150μｍ程度
と短くなり、ヘッド効率が向上する。同時に浮遊容量が
小さいため高周波特性が改善される。
（実施例） 以下、本発明に係る磁気ヘッド及びその製造方法の一
実施例を図面を参照して説明する。
実施例を図面を参照して説明する。
第１図乃至第３図に本発明の一実施例を示す。第１図
（ａ）に示す第１の工程において、非磁性基板12上にFe
AlSiよりなる金属強磁性薄膜13とSiO2よりなる絶縁薄膜
14とを真空技術を用いて交互に積層して、トラック幅に
ほぼ等しい厚さの積層膜15を形成する。次に（ｂ）に示
す第２の工程において、積層膜15が形成された非磁性基
板12を複数枚積層膜15を介して重ね合わせて、ガラスな
どで融着する。次に（ｃ）に示す第３の工程で（ｂ）に
おいて点線で示すように積層膜15に直角な方向に切断
し、この切断端面を鏡面に研磨する。次に（ｄ）に示す
第４の工程で鏡面研磨された切断端面の一方の側に、公
知のリソグラフィ技術を用いて絶縁膜16を全面に形成
し、この絶縁膜16上に所定のピッチで複数個の薄膜コイ
ル17を形成する。この薄膜コイル17は磁気テープ摺接面
になる側にコイル部17aが形成され、反対側にコイルの
端部17bが形成されるようにする。そして絶縁膜16の前
記磁気テープの摺接面側の部分が磁気ギャップ16aとな
る。絶縁膜16上の摺接面側には前記薄膜コイル17のコイ
ル部17aのほぼ中心と外側とにそれぞれFeAlSiの薄膜よ
りなるバックギャップ部18及びフロントバック部19をリ
ソグラフィ技術を用いて形成する。このときバックギャ
ップ部18は非磁性基板12に直接当接し、両ギャップ部1
8,19の上面は前記薄膜コイル17のコイル部17aより僅か
に突出するような厚さとする。このようにして第１の接
合体20ができる。
（ａ）に示す第１の工程において、非磁性基板12上にFe
AlSiよりなる金属強磁性薄膜13とSiO2よりなる絶縁薄膜
14とを真空技術を用いて交互に積層して、トラック幅に
ほぼ等しい厚さの積層膜15を形成する。次に（ｂ）に示
す第２の工程において、積層膜15が形成された非磁性基
板12を複数枚積層膜15を介して重ね合わせて、ガラスな
どで融着する。次に（ｃ）に示す第３の工程で（ｂ）に
おいて点線で示すように積層膜15に直角な方向に切断
し、この切断端面を鏡面に研磨する。次に（ｄ）に示す
第４の工程で鏡面研磨された切断端面の一方の側に、公
知のリソグラフィ技術を用いて絶縁膜16を全面に形成
し、この絶縁膜16上に所定のピッチで複数個の薄膜コイ
ル17を形成する。この薄膜コイル17は磁気テープ摺接面
になる側にコイル部17aが形成され、反対側にコイルの
端部17bが形成されるようにする。そして絶縁膜16の前
記磁気テープの摺接面側の部分が磁気ギャップ16aとな
る。絶縁膜16上の摺接面側には前記薄膜コイル17のコイ
ル部17aのほぼ中心と外側とにそれぞれFeAlSiの薄膜よ
りなるバックギャップ部18及びフロントバック部19をリ
ソグラフィ技術を用いて形成する。このときバックギャ
ップ部18は非磁性基板12に直接当接し、両ギャップ部1
8,19の上面は前記薄膜コイル17のコイル部17aより僅か
に突出するような厚さとする。このようにして第１の接
合体20ができる。
次に（ｅ）に示す第５の工程で、（ｃ）に示す接合体
と同様な別の接合体を用意し、磁束リーク防止溝21とガ
ラス充填溝22を積層膜23と直角な方向に形成して第２の
接合体24を作る。そして最後の工程で第２図に示すよう
に第１の接合体20と第２の接合体24とをガラス25などで
融着する。このとき第１の接合体20の積層膜15と第２の
接合体24の積層膜23の位置が整合するようにし、磁路を
形成させる。しかる後に磁気テープの摺接面を所定の曲
率の曲面に加工し、チップごとに分割すれば第３図に示
す磁気ヘッドチップ26が得られる。
と同様な別の接合体を用意し、磁束リーク防止溝21とガ
ラス充填溝22を積層膜23と直角な方向に形成して第２の
接合体24を作る。そして最後の工程で第２図に示すよう
に第１の接合体20と第２の接合体24とをガラス25などで
融着する。このとき第１の接合体20の積層膜15と第２の
接合体24の積層膜23の位置が整合するようにし、磁路を
形成させる。しかる後に磁気テープの摺接面を所定の曲
率の曲面に加工し、チップごとに分割すれば第３図に示
す磁気ヘッドチップ26が得られる。
本実施例によって製造された磁気ヘッドチップ26は、
磁路長を100乃至150μｍ程度と小さくすることができ、
ヘッド効率を向上することができる。またコイルの巻線
長が短くなるため浮遊容量が小さくなり、高周波特性が
良くなる。さらに巻線溝がなくなるのでガラス充填によ
る目ずまりの問題は解消する。
磁路長を100乃至150μｍ程度と小さくすることができ、
ヘッド効率を向上することができる。またコイルの巻線
長が短くなるため浮遊容量が小さくなり、高周波特性が
良くなる。さらに巻線溝がなくなるのでガラス充填によ
る目ずまりの問題は解消する。
本実施例では金属強磁性薄膜をFeAlSiで形成し、絶縁
薄膜をSiO2で形成した場合について説明したが、これら
の材料はFeAlSi及びSiO2に限定されるものではない。
薄膜をSiO2で形成した場合について説明したが、これら
の材料はFeAlSi及びSiO2に限定されるものではない。
［発明の効果］ 上述したように本発明によれば、コイルを薄膜技術に
よって形成するようにしたので、高周波特性がよくヘッ
ド効率のよい磁気ヘッドを得ることができ、さらに該磁
気ヘッドを製造することができる。
よって形成するようにしたので、高周波特性がよくヘッ
ド効率のよい磁気ヘッドを得ることができ、さらに該磁
気ヘッドを製造することができる。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施例
による製造工程を示す斜視図、第２図は本実施例によっ
て製造された磁気ヘッドを示す断面図、第３図は第２図
の斜視図、第４図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。 12……非磁性基板、13……金属磁性膜 14……絶縁薄膜、15,23……積層膜 16……絶縁膜、16a……磁気ギャツプ 17……薄膜コイル 18,19……金属磁性膜ギャップ 20……第１の接合体、21,22……溝 24……第２の接合体
による製造工程を示す斜視図、第２図は本実施例によっ
て製造された磁気ヘッドを示す断面図、第３図は第２図
の斜視図、第４図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。 12……非磁性基板、13……金属磁性膜 14……絶縁薄膜、15,23……積層膜 16……絶縁膜、16a……磁気ギャツプ 17……薄膜コイル 18,19……金属磁性膜ギャップ 20……第１の接合体、21,22……溝 24……第２の接合体
Claims (3)
- 【請求項１】第１の非磁性基板と、この第１の非磁性基
板上に金属磁性膜と絶縁薄膜とを交互に積層して形成さ
れた第１の積層膜と、この第１の積層膜を介して前記第
１の非磁性基板に接合された第２の非磁性基板とでなる
第１の接合体と、 前記第１の接合体の前記積層膜と交差する面の一方に絶
縁体を介して形成された薄膜コイルと、 第３の非磁性基板と、この第３の非磁性基板上に前記第
１の積層膜と同構成に形成された第２の積層膜と、この
第２の積層膜を介して前記第３の非磁性基板に接合され
た第４の非磁性基板とで形成され、前記第２の積層膜と
交差する面の一方が前記薄膜コイルを介して前記第１の
接合体に、前記第２の積層膜が前記第１の積層膜と整合
するように接合され、かつ前記第１の接合体に接合され
る面に前記第２の積層膜と交差する方向に磁束リーク防
止溝が形成されている第２の接合体と で構成され、前記第１及び第２の積層膜が実質的にトラ
ック幅を構成し、前記絶縁体が実質的に磁気ギャップを
構成する磁気ヘッド。 - 【請求項２】第１の非磁性基板上に金属磁性膜と絶縁薄
膜とを交互に積層して、ほぼトラック幅に等しい厚さの
積層膜を形成する工程と、この積層膜の上に第２の非磁
性基板を接合する工程と、この接合体を前記積層膜に対
しほぼ直角な方向に切断し、この切断端面を鏡面状に研
磨する工程と、この鏡面状に研磨された切断端面の片側
の面上に磁気ギャップ、薄膜コイル及び金属磁性膜ギャ
ップを形成する工程とにより第１の接合体を製造し、前
記第１の接合体の製造工程中の第１乃至第３の工程及び
前記研磨された切断端面の片側に磁束リーク防止溝を形
成する工程とにより第２の接合体を製造し、前記第１の
接合体と第２の接合体にそれぞれ形成された積層膜が整
合する位置になるように、これら第１及び第２の接合体
を接合することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】金属磁性膜、絶縁膜、磁気ギャップ及び薄
膜コイルはそれぞれ薄膜技術により形成されることを特
徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61119313A JP2618860B2 (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61119313A JP2618860B2 (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62277612A JPS62277612A (ja) | 1987-12-02 |
| JP2618860B2 true JP2618860B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=14758349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61119313A Expired - Lifetime JP2618860B2 (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2618860B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120121935A1 (en) | 2009-06-30 | 2012-05-17 | National University Corporation Hokkaido University | Probe, method for manufacturing probe, probe microscope, magnetic head, method for manufacturing magnetic head, and magnetic recording/reproducing device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194618A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-29 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61217921A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Sharp Corp | 薄膜ビデオヘツド |
-
1986
- 1986-05-26 JP JP61119313A patent/JP2618860B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62277612A (ja) | 1987-12-02 |
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