JPH0664696B2

JPH0664696B2 - 磁気ヘツドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH0664696B2
Application number: JP60220184A
Authority: JP
Inventors: 俊作村岡; 瑛昌沢井
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1985-10-04
Filing date: 1985-10-04
Publication date: 1994-08-22
Anticipated expiration: 2009-08-22
Also published as: JPS6280808A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、VTRやＲ−DAT等に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。

（従来の技術）近年、磁気記録の高密度化に伴い、磁気ヘッドとして、
高飽和磁束密度、狭トラック化等が要求されている。高
飽和磁束密度に関しては、従来のフェライト等に代わっ
て、飽和磁束密度の大きなセンダクト・パーマロイ・ア
モルファス等の金属磁性材料が用いられ、狭トラック化
に関しては、従来のバルク材料からの加工に代わり、ス
パッタリング、蒸着等の真空薄膜形成技術により、磁気
コアとなる磁性層を形成する手法が多く用いられてい
る。しかし金属磁性材料は狭トラックにすると、機械的
強度が弱く、また耐摩耗性も悪くなるので、それらの向
上のため、従来から金属磁性材料の両側を非磁性基板で
挾持した構造として用いられている。

また、狭トラックにすると磁気コアを構成する金属磁性
材料の膜厚が薄くなり、ヘッド感度が低下する問題もあ
る。そのため、トラック幅を規制する前部ヘッドコア
は、金属磁性材料の両側を非磁性基板で挾持する構造に
し、後部ヘッドコアはフェライト等の強磁性酸化物で構
成した磁気ヘッドが考案されている。

第５図に従来の磁気ヘッドの構造を示す。前部磁気コア
29は金属磁性層21の両側を非磁性基板22で挾持した構造
で、金属磁性層21の片側は低融点ガラス23で非磁性基板
22に接着されている。また後部磁気コア30はフェライト
等の強磁性酸化物24から構成されている。また前部磁気
コア29を構成するコア半体の前部磁気ギャップ28におけ
る接合は、おもに巻線溝25中に設けたボンドガラス26で
行い、前部磁気コア29と後部磁気コア30との接合は低融
点ガラス27により行われている。

（発明が解決しようとする問題点）従来の磁気ヘッドは、前部磁気コアと後部磁気コアとの
接着を低融点接着ガラスで行っている上、この接着面積
も小さいことから、前部磁気コアと後部磁気コアとの接
着強度が小さく、製造時あるいは実機上での使用時に、
前部磁気コアと後部磁気コアが接着層で剥離するという
問題が生じた。また、前部磁気コアと後部磁気コアの接
合部に低融点ガラス等の非磁性層があると、ヘッドコア
のレラクタンスを増大させると共に、ヘッド効率を低下
させるという問題があった。

本発明の目的は、従来の欠点を解消し、加工能率が良
く、優れた高周波特性を有する磁気ヘッドおよびその製
造方法を提供することである。

（問題点を解決するための手段）本発明の磁気ヘッドは、非磁性体で挾持された金属磁性
層で前部磁気ギャップを構成した前部ヘッドコアと、強
磁性酸化物で後部磁気ギャップを構成した後部ヘッドコ
アとを接合した構造の磁気ヘッドにおいて、金属磁性層
が、スパッタリング等の薄膜形成技術により、強磁性酸
化物上に直接形成されたものである。

また、金属磁性層がアモルファス磁性層であり、アモル
ファス磁性層が非磁性層を介して積層されていることで
あり、また非磁性体が高融点ガラスであり、さらに強磁
性酸化物がフェライトであるものである。

また、強磁性酸化物の基板にＶ字型溝を形成する第１工
程と、このＶ字型溝内に、金属磁性層を非磁性体で挾持
した構造の複合体を、前記金属磁性層がＶ字型溝の片斜
面に平行に位置するように形成し、複合基板を構成する
第２工程と、この複合基板を短冊状に切断し、一対のコ
ア半体を形成したのち、第１のコア半体の磁気ギャップ
面内に、前記金属磁性層と直角に巻線溝を形成する第３
工程と、一対のコア半体を磁気ギャップ面でつき合わせ
た上、巻線溝中の低融点ガラスを溶融させて、合体さ
せ、ヘッドブロックを構成する第４工程と、このヘッド
ブロックを切断して複数個のヘッドチップを得る第５工
程とを有する磁気ヘッドの製造方法である。

また、金属磁性層を非磁性体で挾持した構造の複合体を
形成する場合、Ｖ字型溝中に第１の高融点ガラスを形成
し、この第１の高融点ガラス上に金属磁性層をスパッタ
リング等により形成したのち、この金属磁性層上に第２
の高融点ガラスを溶融して形成するものである。

（作用）前記構成による磁気ヘッドは、前記磁気コアと後部磁気
コアとが接着層を介さずに接合されているため、接合面
における機械強度が大きくなって、前部磁気コアと後部
磁気コアとが剥離するという問題が生じない。また、金
属磁性層が、スパッタリング等の薄膜形成技術により、
強磁性酸化物上に直接形成されているので、磁気能率も
よく、金属磁性層の形成能率もよくなる。

さらに、本発明の製造方法によれば、前記構成の磁気ヘ
ッドの量産化が可能である。

（実施例）本発明は一実施例を第１図ないし第４図に基づいて説明
する。

第１図は本発明の磁気ヘッドの斜視図である。同図にお
いて、１は金属磁性層であるアモルファス磁性層で、非
磁性体である高融点の補強ガラス２で挾持され、前記磁
気ギャップ３を構成した前部ヘッドコアと、強磁性酸化
物であるフェライト４で後部磁気ギャップ５を構成した
後部ヘッドコアを接合した構成で、アモルファス磁性層
１は、スパッタリング法により、フェライト４の上に直
接形成されており、アモルファス磁性層１とフェライト
４とは磁気的に連続している。この複合構造をなす磁気
ヘッドは、その半体ごとに作製され、巻線溝６中のボン
ドガラスである低融点ガラス７で接合されている。また
本実施例では、アモルファス磁性層１は、渦電流損失を
小さくし、高周波特性をよくするため、第２図に示すよ
うに、SiO_２絶縁層８を介して積層構造にしている。

本発明による磁気ヘッドは、製造時の歩留まりが従来は
20％であったものが80％に向上すると共に、実機上での
トラブルがほとんどなくなり、信頼性がきわめて高くな
る。また、本発明の磁気ヘッドの電磁変換特性は従来の
磁気ヘッドに比べ、１〜2dB上昇する。これは、後部ヘ
ッドコアが全て磁性体であるフェライトコアで構成さ
れ、さらに、前部ヘッドコアと後部ヘッドコアとが磁気
的に連続しているため、ヘッドコアのレラクタンスが低
下して、ヘッド効率が向上するためである。さらに、テ
ープ摺動面は高融点ガラスとアモルファス磁性層だけ構
成されているので、磁気テープとのなじみがよくなり、
磁気テープとのインターフェース上も好都合である。

次に本発明による磁気ヘッドの製造工程について説明す
る。

第３図（ａ）に示すように、フェライト４の基板にＶ字
型溝９を回転砥石、あるいは電解エッチング等により形
成する。次に、第３図（ｂ）に示すようにＶ字型溝９に
高融点ガラス２を充填し、そのうち、第３図（ｃ）に示
すように、Ｖ字型溝10を形成する。このとき、Ｖ字型溝
10の片面10aには高融点ガラス２を残し、他の面10bには
高融点ガラスが残らないようにする。次に第３図（ｄ）
に示すように、Ｖ字型溝10内にセンダストやアモルファ
ス等の金属磁性層１をスパッタリングや蒸着などの薄膜
形成方法によりSiO_２等の絶縁層を介して積層形成す
る。このうち、第３図（ｅ）に示すように、Ｖ字型溝11
の片面11aには金属磁性層１を残し、他の面11bには金属
磁性層１は残さず、フェライト４の面が出るように形成
した上、Ｖ字型溝11内に高融点ガラス２を充填して、平
面研磨を行なう。第３図（ｆ）は平面研磨後の基板を示
す。次に、第３図（ｇ）に示すように数回短冊状に切断
して、一対のコア半体12a,12bを作成する。そして、一
方のコア半体12aには巻線溝６を磁気ギャップ面13内の
金属磁性層１に直角の方向に形成して、両コア半体12a,
12bの磁気ギャップ面を平滑に研磨したのち、ギャップ
長に応じた厚さのSiO_２等の非磁性層をスパッタリング
方法等により形成する。そして、両コア半体12a,12bを
磁気ギャップ面13でつき合わせた上、巻線溝６中に挿入
されたボンドガラス７を溶融して、両コア半体を接合
し、ヘッドブロックを作成する。次に、第３図（ｈ）に
示すように、このヘッドブロックを所定のコア幅14で切
断して、ヘッドチップを作成し、前面のテープ摺動面を
研磨することにより、第１図に示したような磁気ヘッド
が得られる。

第４図は他の実施例で、アジマス記録用磁気ヘッドの製
造工程を示す。アジマス角θの磁気ヘッドの場合は、ヘ
ッドブロックからヘッドチップに切断するときの角度を
第４図（ａ）に示すようにアモルファス磁性層１に対し
て角度θだけ傾けて切断すればよい。15はその切断幅で
ある。第４図（ｂ）は以上のようにして作成したアジマ
ス記録用磁気ヘッドを示す。

以上のようにして、磁気ヘッドを作製することにより、
本発明の磁気ヘッドの量産化が可能となる。

（発明の効果）本発明の磁気ヘッドは、前部磁気コアと後部磁気コアと
が接着層を介さずに接合されているため、接合面におけ
る機械強度が大きくなって、前部磁気コアと後部磁気コ
アとが剥離しないという効果を奏する。

また、金属磁性層が、スパッタリング等の薄膜形成技術
により、強磁性酸化物上に一度に直接形成されているの
で、磁気能率もよく、金属磁性層の形成能率もよくなる
というという効果を奏する。

さらに、製造上、金属磁性層の積層化が可能であり、高
周波特性の優れた磁気ヘッドを得ることができるという
効果を奏する。

さらに、本発明の製造方法によると、前部磁気コアと後
部磁気コアとが接着層を介さずに接合された磁気ヘッド
の量産化が可能になり、その実用的効果大なるものがあ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視
図、第２図は同テープ摺動方向からの正面図、第３図
（ａ）ないし（ｈ）は本発明の磁気ヘッドの製造工程
図、第４図（ａ）は同磁気ヘッドの製造工程中の斜視
図、第４図（ｂ）は本発明の磁気ヘッドの斜視図、第５
図は従来の磁気ヘッドの斜視図である。 1,21……金属磁性層、２……補強ガラス、3,28……前部
磁気ギャップ、4,24……強磁性酸化物、５……後部磁気
ギャップ、6,25……巻線溝、7,26……ボンドガラス、８
……絶縁層、9,10,11……Ｖ字型溝、10a,10b,11a,11b…
…Ｖ字溝の面、12a,12b……コア半体、13……磁気ギャ
ップ面、14,15……切断幅、22……非磁性基板、23,27…
…低融点ガラス、29……前部磁気コア、30……後部磁気
コア。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性体で挾持された金属磁性層で前部磁
気ギャップを構成した前部ヘッドコアと、強磁性酸化物
で後部磁気ギャップを構成した後部ヘッドコアとを接合
した構造の磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性層が、前記強磁性酸化物上に直接形成され
ている薄膜層からなることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】前記金属磁性層がアモルファス磁性層であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁
気ヘッド。
【請求項３】前記アモルファス磁性層が非磁性層を介し
て積層されていることを特徴とする特許請求の範囲第
（２）項記載の磁気ヘッド。
【請求項４】前記非磁性体が高融点ガラスであることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項５】前記強磁性酸化物がフェライトであること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項６】強磁性酸化物の基板にＶ字型溝を形成する
第１工程と、前記Ｖ字型溝内に、金属磁性層を非磁性体
で挾持した構造の複合体を、前記金属磁性層が、前記Ｖ
字型溝の片斜面に平行に位置するように形成し、複合基
板を構成する第２工程と、前記複合基板を短冊状に切断
し、一対のコア半体を形成したのち、第１のコア半体磁
気ギャップ面に、前記金属磁性層と直角に巻線溝を形成
する第３工程と、前記一対のコア半体を磁気ギャップ面
でつき合わせた上、前記巻線溝中の低融点ガラスを溶融
させて、合体させ、ヘッドブロックを構成する第４工程
と、前記ヘッドブロックを切断して複数個のヘッドチッ
プを得る第５工程とを有することを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
【請求項７】前記金属磁性層を非磁性体で挾持した構造
の複合体を形成する場合、前記Ｖ字型溝中に第１の高融
点ガラスを形成し、該第１の高融点ガラス上に前記金属
磁性層を薄膜形成技術により形成したのち、前記金属磁
性層上に第２の高融点ガラスを溶融して形成することを
特徴とする特許請求の範囲第（６）項記載の磁気ヘッド
の製造方法。