JPS61217921A - 薄膜ビデオヘツド - Google Patents
薄膜ビデオヘツドInfo
- Publication number
- JPS61217921A JPS61217921A JP5978685A JP5978685A JPS61217921A JP S61217921 A JPS61217921 A JP S61217921A JP 5978685 A JP5978685 A JP 5978685A JP 5978685 A JP5978685 A JP 5978685A JP S61217921 A JPS61217921 A JP S61217921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- winding
- laminated
- wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1274—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with "composite" cores, i.e. cores composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1276—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with "composite" cores, i.e. cores composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）およびデジ
タルオーディオ（ＤＡＴ）等の磁気記録再生装置におけ
る薄膜ビデオヘッドに関する。
タルオーディオ（ＤＡＴ）等の磁気記録再生装置におけ
る薄膜ビデオヘッドに関する。
（従来の技術）
従来、第６図および第７図に示すようなビデオヘッドが
用いられている。
用いられている。
第６図は単結晶フェライトａを材料としたヘッドコアｂ
の一例を示し、Ｃは巻線窓、ｄは溶着されたガラスであ
る。そして、このヘッドコアｂは。
の一例を示し、Ｃは巻線窓、ｄは溶着されたガラスであ
る。そして、このヘッドコアｂは。
巻線窓Ｃと１両側面に設けられた溝部ｅ、 ｅに亘っ
て巻線が施されて、第８図に示すヘッドベースｆに取付
けられる。
て巻線が施されて、第８図に示すヘッドベースｆに取付
けられる。
しかるに、近来、抗磁場（Ｈｅ）の大きいメタル磁性粉
を用いたメタルテープが実用化されつつあり９例えば、
抗磁場（Ｈ６）が１５００エルステツドと大きいため、
単結晶フェライトａを材料としたヘッドコアｂでは記録
に必要な磁界が得られず、メタルテープの性能を十分に
活かしきれない。そこで２例えばセンダスト、又は磁性
アモルファスの薄膜を積層したビデオ用磁気ヘッドが高
抗磁場に対応して実用されつつあり、この種のへラドコ
アｇの一例を第７図に示している。第７図において、ｈ
は磁性薄膜層、ｉは巻線窓、ｊはガラス、セラミック等
からなるベース材である。
を用いたメタルテープが実用化されつつあり９例えば、
抗磁場（Ｈ６）が１５００エルステツドと大きいため、
単結晶フェライトａを材料としたヘッドコアｂでは記録
に必要な磁界が得られず、メタルテープの性能を十分に
活かしきれない。そこで２例えばセンダスト、又は磁性
アモルファスの薄膜を積層したビデオ用磁気ヘッドが高
抗磁場に対応して実用されつつあり、この種のへラドコ
アｇの一例を第７図に示している。第７図において、ｈ
は磁性薄膜層、ｉは巻線窓、ｊはガラス、セラミック等
からなるベース材である。
（発明が解決しようとする問題点）
しかるに、このようなセンダストや、磁性アモルファス
薄膜を積層した磁気ヘッドのコア形状は単結晶フェライ
トとほとんど同じであって、０．３×０８４ｍ”程度の
大きさの前記巻線窓ｉに線径２５μｍ〜３０μｍのポリ
ウレタン線等の絶縁膜で被覆した線を１５ターン程度通
し９巻線する必要がある。そして、この巻線作業は手巻
する場合がほとんどであり、近来自動巻線機が開発され
実用化の方向にあるが９手巻に対するメリットがサイク
ルタイム等の点で十分でない、このため、ビデオヘッド
の製造においては、小さな巻線窓ｉにコイルを通して手
巻する作業が生産性のネックになっている。
薄膜を積層した磁気ヘッドのコア形状は単結晶フェライ
トとほとんど同じであって、０．３×０８４ｍ”程度の
大きさの前記巻線窓ｉに線径２５μｍ〜３０μｍのポリ
ウレタン線等の絶縁膜で被覆した線を１５ターン程度通
し９巻線する必要がある。そして、この巻線作業は手巻
する場合がほとんどであり、近来自動巻線機が開発され
実用化の方向にあるが９手巻に対するメリットがサイク
ルタイム等の点で十分でない、このため、ビデオヘッド
の製造においては、小さな巻線窓ｉにコイルを通して手
巻する作業が生産性のネックになっている。
本発明はかかる点に鑑み、従来手巻に頼っていた巻線を
薄膜技術、フォトリソグラフィにより生産可能な薄膜ビ
デオヘッドを提供し、生産効率の向上を図ることを目的
とする。
薄膜技術、フォトリソグラフィにより生産可能な薄膜ビ
デオヘッドを提供し、生産効率の向上を図ることを目的
とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、非磁性材料と単結晶フェライトとからなる複
合材料上に磁性薄膜と非磁性薄膜とを積層した基板を複
数枚ガラス溶着してブロックが構成され、このブロック
からピース状に切り出した積層ピースを２つガラス溶着
してヘッドコアが作られる薄膜ビデオヘッドであって、
ヘッドコア作成の際、一の積層ピースのギャップ面の磁
性層の位置に薄膜形成手段と１選択エツチングによって
ワイヤリングが形成されてなる薄膜ビデオヘッドに係わ
る。
合材料上に磁性薄膜と非磁性薄膜とを積層した基板を複
数枚ガラス溶着してブロックが構成され、このブロック
からピース状に切り出した積層ピースを２つガラス溶着
してヘッドコアが作られる薄膜ビデオヘッドであって、
ヘッドコア作成の際、一の積層ピースのギャップ面の磁
性層の位置に薄膜形成手段と１選択エツチングによって
ワイヤリングが形成されてなる薄膜ビデオヘッドに係わ
る。
（実施例）
以下９本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明に係る薄膜ビデオヘッド１を示し、この
薄膜ビデオヘッド１はギャップ部分２に薄膜によるワイ
ヤリング３が施されており、このワイヤリングの先端に
リード線４がハンダ付け。
薄膜ビデオヘッド１はギャップ部分２に薄膜によるワイ
ヤリング３が施されており、このワイヤリングの先端に
リード線４がハンダ付け。
またはボンディングによって接続されている。
第２図はこの薄膜ビデオへフド１がへラドベース５に取
付けられた状態を示している。
付けられた状態を示している。
次に、上記構成からなる薄膜ビデオヘッド１の製造方法
について説明する。
について説明する。
第３図において、セラミック、結晶化ガラス等の非磁性
材料と単結晶フェライトをガラスでボンディングした複
合材料を基板６としく工程■）。
材料と単結晶フェライトをガラスでボンディングした複
合材料を基板６としく工程■）。
鏡面仕上げを施しく工程■）、鏡面仕上げを施した面に
センダストまたは磁性アモルファス等の磁性薄膜７ａと
、ＳｉＯ□薄膜７ｂとを交互にスパッタリング、ＥＢ蒸
着、ＣＶＤ等の薄膜作成技術によって、ヘッドコアのト
ラック幅に相当する厚さの多層磁性薄膜層８を形成する
（工程■参照）。
センダストまたは磁性アモルファス等の磁性薄膜７ａと
、ＳｉＯ□薄膜７ｂとを交互にスパッタリング、ＥＢ蒸
着、ＣＶＤ等の薄膜作成技術によって、ヘッドコアのト
ラック幅に相当する厚さの多層磁性薄膜層８を形成する
（工程■参照）。
磁性薄膜７ａは数μｍ厚とし、ＳｉＱ□膜７ｂは１００
０人程度として積層する。ここで用いるＳｉｎ。
０人程度として積層する。ここで用いるＳｉｎ。
膜７ｂは高周波での渦電流損失による透磁率の低下を防
ぐために設けられている。従って、磁性薄膜７ａの厚さ
は使用周波数帯域における最高周波数での表皮の深さ程
度またはそれより薄くする必要がある。
ぐために設けられている。従って、磁性薄膜７ａの厚さ
は使用周波数帯域における最高周波数での表皮の深さ程
度またはそれより薄くする必要がある。
さらに工程■では、前記多層磁性薄膜層８の上面に低融
点のガラス膜９を２〜３μｍ程度形成する。このように
して工程■で形成したものを工程■で所定の大きさに切
り出してユニット１０ａとする。さらにこのユニット１
０ａを多数積層して。
点のガラス膜９を２〜３μｍ程度形成する。このように
して工程■で形成したものを工程■で所定の大きさに切
り出してユニット１０ａとする。さらにこのユニット１
０ａを多数積層して。
適当な温度と圧力を加え、前記ガラス膜９の層で溶着し
てブロック１０ｂを形成する（工程■）。
てブロック１０ｂを形成する（工程■）。
ついで、工程■にて、このブロックｌＯｂからピース状
に切り出して積層ピース１１を形成する。
に切り出して積層ピース１１を形成する。
このとき、ベッドギャップにアジマスが要求される場合
には、磁性層がアジマスに要求される角度になるように
切り出す。
には、磁性層がアジマスに要求される角度になるように
切り出す。
次に、前記積層ピース１１を２つ用いてヘッドコアを作
成する工程に入る。以降の工程を第４図に示′している
。工程■で２つの積層ピース１１ａ。
成する工程に入る。以降の工程を第４図に示′している
。工程■で２つの積層ピース１１ａ。
１１ｂのギャップ面１２ａ、１２ｂとなる部分を研削し
たのち、一方の積層ピースｌｌａのギャップ面１２ａに
、薄膜によるワイヤリング３を施す（工程■）。このワ
イヤリング３は、スパッタリング、ＥＢ蒸着、ＣＶＤ等
の薄膜技術に加え、ドライエツチング等のフォトリソグ
ラフィによる選択エツチングによって形成し１巻線の内
側より外側に巻線の一方を引き出す際には１巻線と引き
出し線の間はＳｉｎ、等の絶縁膜により絶縁する。
たのち、一方の積層ピースｌｌａのギャップ面１２ａに
、薄膜によるワイヤリング３を施す（工程■）。このワ
イヤリング３は、スパッタリング、ＥＢ蒸着、ＣＶＤ等
の薄膜技術に加え、ドライエツチング等のフォトリソグ
ラフィによる選択エツチングによって形成し１巻線の内
側より外側に巻線の一方を引き出す際には１巻線と引き
出し線の間はＳｉｎ、等の絶縁膜により絶縁する。
一方、他の積層ピース１１ｂは、前記多層磁性薄膜層８
の両端部に台座部Ａ２．８２を形成し、この台座部に相
当する部分を鏡面仕上げする（工程■′）。次に工程■
では、前記積層ピースｌｌａの多層磁性薄膜層８上の面
ＡＩ、Ｂｌが台座部Ａ２、Ｂ２に対面するように重ね、
適当な温度と圧力を加えガラス溶着する。ガラス溶着は
前記台座部Ａ２．８２面を有する面にスパッタリング等
によりガラス膜を作成し、このガラス膜により溶着する
。また、他の溶着方法としては、第５図（Ａ）（Ｂ）に
示すように、前記台座、部Ａ２．８２を含む面にガラス
１４をモールドし、 〔第５図（Ａ）参照３１次に第５
図（Ｂ）に示すようにガラス研削を行い、Ａ２，８２面
と同一面を鏡面仕上げし、モールドされたガラス部１５
で溶着する。
の両端部に台座部Ａ２．８２を形成し、この台座部に相
当する部分を鏡面仕上げする（工程■′）。次に工程■
では、前記積層ピースｌｌａの多層磁性薄膜層８上の面
ＡＩ、Ｂｌが台座部Ａ２、Ｂ２に対面するように重ね、
適当な温度と圧力を加えガラス溶着する。ガラス溶着は
前記台座部Ａ２．８２面を有する面にスパッタリング等
によりガラス膜を作成し、このガラス膜により溶着する
。また、他の溶着方法としては、第５図（Ａ）（Ｂ）に
示すように、前記台座、部Ａ２．８２を含む面にガラス
１４をモールドし、 〔第５図（Ａ）参照３１次に第５
図（Ｂ）に示すようにガラス研削を行い、Ａ２，８２面
と同一面を鏡面仕上げし、モールドされたガラス部１５
で溶着する。
上述の様にしてガラス溶着し積層ピースｌｌａ。
１１ｂはトラック面をＲ研磨したのち（工程＠）。
スライシングして（工程■）、前記薄膜ビデオヘッドｌ
に仕上げる。
に仕上げる。
（発明の効果）
以上述べたように９本発明によれば、ＩＣの製造方法で
用いられている薄膜形成技術、ドライエツチングプロセ
ス等の製造プロセスで薄膜ビデオヘッドの巻線工程を一
括して処理することができ。
用いられている薄膜形成技術、ドライエツチングプロセ
ス等の製造プロセスで薄膜ビデオヘッドの巻線工程を一
括して処理することができ。
生産の自動化、効率化を大幅に促進できる。また。
製品自体の均質性、信頼性の向上を図ることも可能とな
る。
る。
第１図は本発明に係る薄膜ビデオヘッドを示す斜視図、
第２図は同ヘッドを取付けた状態を示す正面図、第３図
および第４図は同ヘッドの製造方法を例示する工程図、
第５図（Ａ）（Ｂ）は積層ピースの他の溶着方法を説明
する図、第６図および第７図は従来のビデオヘッドを示
す斜視図、第８図は従来のビデオヘッドを取付けた状態
を示す正面図である。 １・・・薄膜ビデオヘッド、 ３・・・ワイヤリング
７ａ・・・磁性薄膜 ７ｂ・・・５１０ｇ１ｌ膜（非磁性薄膜）１１・・・積
層ピース ほか１名 第７図 箪８図 り 冨７１！１
第２図は同ヘッドを取付けた状態を示す正面図、第３図
および第４図は同ヘッドの製造方法を例示する工程図、
第５図（Ａ）（Ｂ）は積層ピースの他の溶着方法を説明
する図、第６図および第７図は従来のビデオヘッドを示
す斜視図、第８図は従来のビデオヘッドを取付けた状態
を示す正面図である。 １・・・薄膜ビデオヘッド、 ３・・・ワイヤリング
７ａ・・・磁性薄膜 ７ｂ・・・５１０ｇ１ｌ膜（非磁性薄膜）１１・・・積
層ピース ほか１名 第７図 箪８図 り 冨７１！１
Claims (1)
- １）非磁性材料と単結晶フェライトとからなる複合材料
上に磁性薄膜と非磁性薄膜とを積層した基板を複数枚ガ
ラス溶着してブロックが構成され、このブロックからピ
ース状に切り出した積層ピースを２つガラス溶着してヘ
ッドコアが作られる薄膜ビデオヘッドであって、ヘッド
コア作成の際、一の積層ピースのギャップ面の磁性層の
位置に薄膜形成手段と、選択エッチングによってワイヤ
リングが形成されてなることを特徴とする薄膜ビデオヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5978685A JPS61217921A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 薄膜ビデオヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5978685A JPS61217921A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 薄膜ビデオヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61217921A true JPS61217921A (ja) | 1986-09-27 |
Family
ID=13123315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5978685A Pending JPS61217921A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | 薄膜ビデオヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61217921A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62277612A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-02 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPS63220407A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-09-13 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド装置 |
| JPS63231713A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56107325A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-26 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording head |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP5978685A patent/JPS61217921A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56107325A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-26 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62277612A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-02 | Toshiba Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPS63220407A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-09-13 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド装置 |
| JPS63231713A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
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