JPS5971113A - 磁気ヘツド用コア材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、２つの非磁性基板の間に磁性層が設けられ、
ヘッドギャップのトラック幅が比較的広い磁気ヘッドを
得るに適した磁気ヘッド用コア材に関する。

従来、ビデオテープレコーダなどに用いられる磁気ヘッ
ドとして、薄膜磁気ヘッドが開発されている。かかる薄
膜磁気ヘッドは、磁性層とこれを保護する非磁性基板と
からなり、磁性層は２つの非磁性基板間に形成され、該
磁性層の厚み方向に所定のへラドギャップが形成されて
。

いる。磁性層としては金属磁性材が用いられる。。

かかる薄膜磁気ヘッドの製造方法としては、一方の非磁
性基板上に、スパッタリング法や蒸着法などにより、金
属磁性膜を形成し、該金属磁性膜に、低融点ガラスなど
の非金属接着材により、他方の非磁性基板を接着してコ
ア材を得。

該コア材を形状加工などの処理をしてヘッドギャップ、
巻線窓の形成、テープ摺動面の加工などを行なっている
。

ところで、ビデオテープレコーダなどの比較的トラック
幅の広いヘッドギャップを有する薄膜磁気ヘッドの場合
、磁性層を単層の金属磁性膜でもって構成すると、該金
属磁性膜は膜厚を大きくしなければならず、しかも、た
とえば。

センダストのように、金属磁性膜の抵抗値が非常圧小さ
いことから、渦電流が生じて高周波での渦電流損失が非
常に大きくなる。

そこで、従来は、第１図で示すように、磁性層を多層の
金属磁性膜４（第１図では３層として示す）からなり、
各金属磁性膜４間に電気絶縁層間膜３を設けるようにし
て渦電流の発生を抑制するようにしている。なお、第１
図において、１．２は非磁性基板、５は低融点ガラス薄
膜である。

ところで、かかる磁気ヘッド用コア材を、上記の製造方
法により得ようとすると、一方の非磁性基板２にトラッ
ク幅に相当する膜厚の磁性層を形成することになるから
、該磁性層の形成したがって、コア材の作成に非常な時
間を要することになり、薄膜磁気ヘッドの生産効率が低
下して価格の上昇をきたすことになる。また、金属磁性
層４にガラス薄膜５を用いて非磁性基板を接着している
ことから、金属と非金属という異種物質間の接着となり
、接着強度が充分に得られずに膜の信頼性は低いことに
なる。

これに対して、２つの非磁性基板に夫々金属磁性膜を形
成し、夫々の金属磁性膜を金属ロウ材でもって溶着して
コア材を作成する方法があるが、かかるコア材では接着
材が金属ロウ材で・　３− あることから、接着された２つの金属磁性膜は一体とな
って厚さが２倍となった金属磁性膜となり、高周波での
渦電流損失が増大することになる。特に、トラック幅が
大きい薄膜磁気ヘッドにおいては、かかる渦電流損失が
大きく、磁気特性の著し込劣化をまねくことになる。。

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き８、作成所
要時間を短縮化し、機械的強度、磁気特性が向上した安
価な磁気ヘッド用コア材を提供するにある。

この目的を達成するために１本発明は、夫々が金属磁性
膜を含み、金属ロウ材で接着される第１．第２の部分磁
性層の少なくともいずれか一方を、電気絶縁膜を介して
多層の金属磁性膜からなるようにした点を特徴とする。

以下、本発明の実施例を図面について説明する。

第２図は本発明による磁気ヘッド用コア材の一実施例を
示す斜視図であって、１．２は非磁性基板、　３　、３
’は電気絶縁層間膜”　１　＊　４２ｓ　４ｊ４２′は
金属磁性膜、６は金属Ｏつ材である。

この実施例では、磁性層は４つの金属磁性膜を含むもの
として説明する。金属磁性膜４１　ｍ　４２間、金属磁
性膜４１’ｖ４２’間には電気絶縁層間材３゜３′が設
けてあり、渦電流の発生を抑制している。

金属ロウ材６は金属磁性層４２　、４２を接着しており
、このために、金属−金属の接着となって接着強度が向
上している。この場合、金属磁性膜４２　＊　４２’は
金属ロウ材６により電気的に一体となるが、金属磁性膜
４２　＊　４２’と金属ロウ材６との合計の厚さが、金
属磁性膜４１　＊　４１の厚さにほり等しくなるように
、金属磁性１ｉｆｔ　４２９４２’の厚さな設定するこ
とにより、渦電流損失を抑制する。

第３図（ａ）、　（Ｂ）は第２図の磁気ヘッド用コア材
の製造方法の一具体例を示す工程図であって。

第２図に対応する部分には同一符号をつけている。

非磁性基板１．２としては５機械的強度、耐摩耗性に優
れたガラスなどの非金属材料を用いる。非磁性基板１．
２は短冊状をなし、夫々−・　４　・ 表面を鏡面仕上げする。次に、非磁性基板１゜２の鏡面
仕上げされた百に、センダストなどの金属磁性膜４１　
ｓ　４１″を、次いで、アルミナなどの電気絶縁層間膜
３，３′を、さらに、金属磁性膜４２＃　４２’を、ス
パッタリング法や蒸着法などＫよって形成する。そして
、金属磁性ｉ　４２１４２’の上に夫々Ａｙ　−Ａｌ−
Ｃｕ系合金などの金属ロウ材６をスパッタリング法、蒸
着法などで形成して基板（コア材半片）ａ、ｂを得た（
第３図（Ｉ４１　）。次忙、金属ロウ材６が互いに重な
るよう九基板α。

６を突き合わせ、非磁性基板１，２側から矢印方向に加
圧しながら、電気炉中で金属ロウ材６・の共晶点まで加
熱し、溶着させて第２図の磁気ヘッドのコア材を得た（
第３図（Ｂ））。

各基板α、ｈ（第３図（、（１）　Ｋ形成される非磁性
基板２．１上の部分磁性層（金属磁性膜４１−電気絶縁
層間材３−金属磁性膜４２および金属磁性膜４．゛−電
気絶縁層間材３゛−金属磁性膜４２′）は夫々所要トラ
ック幅の１７２の厚さにほり等しく形成される。金属磁
性膜４１　ｔ　４２　＃　４１’　ｊ　４２’の膜厚は
、使用帯域での渦電流損失による周波数特性。

膜形成に要する時間、抗磁力などのコア材に必要な諸条
件を考慮に入れ、これらのバランスが保たれるように適
宜決定される。特に、金属ロウ材６が形成される最上位
の金属磁性膜４２　ｗ　４２’ｓの膜厚は、金属ロウ材
接着による渦電流損失の増大を考慮し、他の金属磁性膜
の最大膜厚の１／１以下とする。電気絶縁層間膜３．３
′の膜厚は。

金属磁性膜の膜厚に比べて無視し得る程度の薄さにする
。

基板ａ、ｂ（第３図（、（１）の各部分磁性層は。

スパッタリング装置、蒸着装置などにより同時に形成す
ることができ、しかるに、各部分磁性層の形成に要する
時間は、先に述べた、順次各層を形成してい〈従来技術
に比べて大幅に短縮することができる。このために、コ
ア材、したがって、薄膜磁気ヘッドの製造に要する時間
も大幅に短縮され１価格の低下を実現することができる
。また、磁性層の厚さは、前述の諸条件の範囲内の金属
磁性膜の膜厚や金属磁性膜の形成される層数などを適当
忙定めることにより。

所定のトラック幅に合うように設定することができる。

なお、上記実施例においては、その製造方法として、夫
々の非磁性基板１．２上に等しい層数の金属磁性層を形
成する場合について説明したが、これに限ることなく、
たとえば、第４図に示すように、一方の非磁性基板２上
には１層の金属磁性層４．を形成し、他方の非磁性基板
１上には複数層（第４図では２層）の金属磁性層を形成
するようにしてもよく、各非磁性基板に形成する金属磁
性膜の層数は適宜設定し得る。

′　以上説明したように１本発明によれば、２つの非磁
性基板上に部分磁性層を形成し、該部分磁性層は層厚に
応じ、電気絶縁層間膜を介して金属磁性膜の多層構造と
して、金属ロウ材により夫々の非磁性基板の部分磁性層
を接着し、磁性層を金属磁性層と電気絶縁層間膜との多
層構造としたものであるから、作成時間を大幅に短縮す
ることができて生産効率が改善され、渦電−ｌ　　− 流損失が大幅に抑制されて広いトラック幅に対しても磁
気特性の劣化をまねくことはなく、さらに、金属ロウ材
と金属磁性層との親和度が高いことから金属磁性層間の
接着強度が増大し、機械的強度が高まって信頼性が向上
し、上記従来技術にない優れた機能の磁気ヘッド用コア
材な安価に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気ヘッド用コア材の一例を示す斜視図
、第２図は本発明による磁気ヘッド用コア材の一実施例
を示す斜視図、第３図（４１。 （Ｂ）は第２図の磁気ヘッド用コア材の製造方法の一具
体例を示す工程図、第４図は第２図の磁気ヘッド用コア
材の製造方法の他の具体例を示す一部工程図である。 １．２・・・非磁性基板、３．３′・・・電気絶縁層間
膜、　４１　＊　４２　＊　４４’ｅ　４２’・・・金
属磁性膜、６・・・金属ロウ材。 ・　８　・ 算　／罠　　　　　　第２図 九 茅　３　図 茅　４　図 第１頁の続き ０発　明　者　田村光治 横浜市戸塚区吉田町２９２番地株 式会社日立製作所家電研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ２つの非磁性基板と磁性層とが積層され、該磁性層が金
   属ロウ材により接着した第１．第２の部分磁性層からな
   る磁気ヘッド用コア材において、前記第１．第２の部分
   磁性層は金属磁性膜を含み、少なくともいずれか一方が
   電気絶縁膜を介して多層の該金属磁性膜からなることを
   特徴とする磁気ヘッド用コア材。