JPH0620210A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 強磁性金属薄膜の磁気特性劣化をもたらすこ
となく、溶着用ガラスの接着強度、耐摩耗性、耐食性を
向上させ、積層接合用ガラスの軟化による磁気ヘッドの
特性低下を防ぐことができる磁気ヘッドの製造方法を提
供する。 【構成】 非磁性基板２上にセンダスト等の強磁性金属
薄膜４とＳｉＯ２などの絶縁薄膜５とを交互に被着して
積層薄膜３を形成し、その上にＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３な
どの高融点酸化物薄膜１５を形成する。そして基板１１
ｄの積層薄膜３を形成した面と反対側の面に積層接合用
ガラス６を形成する。積層接合用ガラス６は強磁性金属
薄膜４の磁気特性劣化をもたらさない、熱処理温度とし
て６００℃前後の作業温度を有するガラスを使用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
（以下ＶＴＲ）、ディジタルオーディオテープレコーダ
（以下ＤＡＴ）などの磁気記録再生装置に使用される磁
気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＶＴＲ、ＤＡＴなどの磁気記録再
生装置においては記録信号の高密度化が進められてお
り、この高密度記録に対応して、磁性粉としてＦｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉなどの強磁性金属粉末を用いた抗磁力の高いメ
タルテープが使用されるようになっている。この高い抗
磁力を有するメタルテープの性能を十分に活用すること
ができる磁気ヘッドとして、磁気コアの飽和磁束密度が
大きいことが要求される。

【０００３】かかる磁気ヘッドは、次の３種に分類され
る。即ち、 （１）金属磁性体のみでヘッド・チップを形成したも
の。 （２）フェライトなどの酸化物磁性材料と金属磁性体を
複合したもの。 （３）非磁性基板と金属磁性体を複合したもの。

【０００４】これらのうち、（１）に属するものは、高
周波での損失が大きいことや摩耗が激しいという欠点を
有する。（２）に属するものは、摺動ノイズというフェ
ライト特有の欠点を持っている。摺動ノイズはテープ・
ヘッド相対速度が高速になるほど顕著となる。従って、
実際の使用においては、（３）のタイプのものが有利で
ある。

【０００５】尚、非磁性基板と金属磁性体を複合した
（３）のタイプの磁気ヘッドの製造方法として、例えば
特開昭６２−１１９７０９号公報（Ｇ１１Ｂ５／１２
７）等に開示されているような、所謂積層型磁気ヘッド
が提案されている。

【０００６】第５図に積層型磁気ヘッドの概観を示す。
図中、１ａ、１ｂはそれぞれ、結晶化ガラスなどの非磁
性基板２、２、２、２間にセンダストなどの強磁性金属
薄膜４とＳｉＯ２などの絶縁薄膜５との積層薄膜３より
なる主コア半体が挟持されている第１、第２コア半体で
ある。前記第２コア半体１ｂには巻線溝７および溶着用
ガラス充填溝８が形成されている。前記第１、第２コア
半体１ａ、１ｂは、その磁気ギャップ形成面同士が突き
合わされた状態で前記溶着用ガラス充填溝８および巻線
溝７の上端に充填された溶着用ガラス９により溶着され
ており、該接合面にはＳｉＯ２などから成る磁気ギャッ
プ１０が形成されている。

【０００７】上記の積層型磁気ヘッドの製造方法の一例
を以下に示す。

【０００８】先ず、第６図に示すように、非磁性基板２
上にスパッタリングなどにより強磁性金属薄膜４と絶縁
薄膜５とを交互に被着して積層薄膜３を形成して基板１
１ａを作成する。

【０００９】そして、第７図に示すように、基板１１ａ
の積層薄膜３を形成した面と反対側の面に積層接合用ガ
ラス６を形成して基板１１ｂを作成する。

【００１０】次に、第８図に示すように、非磁性基板２
上に積層接合用ガラス６のみを形成して基板１１ｃを作
成する。

【００１１】更に、第９図に示すように、基板１１ａ、
１１ｂ、１１ｃを積み重ね、積層接合用ガラスの溶融に
より接合一体化することで積層ブロック１２を形成す
る。

【００１２】前記積層ブロック１２を破線Ａ−Ａ’、Ｂ
−Ｂ’で切断して、第１０図に示す切断積層ブロック１
３ａを形成する。

【００１３】その後、第１１図に示すように、前記切断
積層ブロック１３ａを一対用意し、一方の切断積層ブロ
ック１３ａに巻線溝７および溶着用ガラス充填溝８を回
転砥石などにより形成して切断積層ブロック１３ｂを形
成する。

【００１４】そして、第１２図に示すように、切断積層
ブロック１３ａ、１３ｂを溶着用ガラス９の溶融により
溶着一体化することで積層ヘッド・ピース１４を形成す
る。

【００１５】最後に、積層ヘッド・ピース１４を破線Ｃ
−Ｃ’で切断して、第５図に示すようなヘッド・チップ
を得る。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、前述の磁気
ヘッドの製造方法では、積層接合用ガラス６、溶着用ガ
ラス９の溶融のために２回のガラス溶融工程が必要であ
る。そして、溶着用ガラス９の溶融時に積層接合用ガラ
ス６が軟化すると磁気ギャップの精度が損われて磁気ヘ
ッドの特性低下を惹起するおそれがあるため、積層接合
用ガラス６の軟化温度は溶着用ガラス９の作業温度より
高温側に設定されている。

【００１７】このために積層接合用ガラス６の作業温度
は強磁性金属薄膜の最適熱処理温度に関係なく高くせざ
えるを得ず、強磁性金属薄膜４の磁気特性の劣化をもた
らすことになる。更に、溶着用ガラス９は低作業温度ガ
ラスであるため、一般に接着強度、耐摩耗性、耐食性な
どに劣る。

【００１８】本発明は前述した従来の磁気ヘッドの製造
方法の欠点に鑑み為されたものであり、強磁性金属薄膜
の磁気特性劣化をもたらすことなく、溶着用ガラスの接
着強度、耐摩耗性、耐食性を向上させ、積層接合用ガラ
スの軟化による磁気ヘッドの特性低下を防ぐことを目的
とするものである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、非磁性基板上に強磁性金属薄膜と絶縁薄
膜からなる積層薄膜を被着形成し、該積層薄膜を挟むよ
うに非磁性基板をガラスにて接合してなる磁気コア半体
対を接着一体化し、前記積層薄膜により磁路を構成して
なる磁気ヘッドの製造方法において、前記積層薄膜上に
高融点酸化物薄膜を形成し、該積層薄膜を形成した面と
反対側の面に積層接合用ガラスを形成した成膜基板を複
数枚作成してこれらを接合して磁気コア半体を構成する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法を提供せんとす
るものである。

【００２０】

【作用】上記の如く構成したので、基板の積層接合時の
熱処理による強磁性金属薄膜の磁気特性劣化をもたらす
ことがない。また、該熱処理によって上記高融点酸化物
が積層接合用ガラス内に拡散して積層接合用ガラスの軟
化点が上昇するため、溶着用ガラスの作業温度を従来よ
りも比較的高温度とすることができ、溶着用ガラスの接
着強度、耐摩耗性、耐食性を向上させることができる。

【００２１】更に、積層接合用ガラスの軟化点上昇によ
って、溶着用ガラス溶融時の積層接合用ガラスの軟化が
防止されるため、磁気ギャップの精度が損われて磁気ヘ
ッドの特性が低下するということがない。そして、上記
高融点酸化物が積層接合用ガラス内に拡散するため、積
層接合用ガラスの接着強度、耐摩耗性、耐食性が向上す
る。

【００２２】

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例に
つき詳述する。

【００２３】第１図乃至第４図は、本発明における磁気
ヘッドの製造方法を示している。先ず、第１図に示すよ
うに、非磁性基板２上にスパッタリングなどによりセン
ダストなどの強磁性金属薄膜４とＳｉＯ２などの絶縁薄
膜５とを交互に被着して積層薄膜３を形成し、更にその
上に厚さ約１μｍのＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの高融点
酸化物薄膜１５を形成して基板１１ｄを作成する。

【００２４】次に、第２図に示すように、基板１１ｄ
の、積層薄膜３を形成した面と反対側の面に厚さ約５μ
ｍの積層接合用ガラス６を形成して基板１１ｅを作成す
る。このとき、積層接合用ガラス６としては強磁性金属
薄膜４の磁気特性劣化をもたらすことのない作業温度の
ガラスを使用する。例えば強磁性金属薄膜４がセンダス
トの場合には、熱処理温度として最適な６００℃前後の
作業温度を有するガラスを使用する。

【００２５】そして、第３図に示すように、基板１１
ｄ、１１ｅ、１１ｃを積み重ね、６００℃の熱処理によ
って積層接合用ガラス６を溶融させて接合一体化するこ
とによって積層ブロック１６を形成する。このとき、適
切な作業温度にて基板の積層接合を行なうので、熱処理
による強磁性金属薄膜４の磁気特性劣化をもたらすこと
がない。また、上記積層接合時の熱処理によって上記高
融点酸化物１５が積層接合用ガラス６内に拡散して、積
層接合用ガラスの軟化点が４５０℃から５４０℃へと上
昇し、積層接合用ガラスはその特性が変化した積層接合
用ガラス１７となる。このときさらに、上記高融点酸化
物の積層接合用ガラス内への拡散により、積層接合用ガ
ラスの接着強度、耐摩耗性、耐食性が向上する。

【００２６】以降の工程は前述した従来の磁気ヘッドの
製造方法とほぼ同様であるが、積層接合用ガラス１７の
軟化点が従来の磁気ヘッドの製造方法よりも高くなるの
で、溶着用ガラスの作業温度を従来の４００℃から本実
施例では５００℃へと高温度にすることができ、接着強
度、耐摩耗性、耐食性に優れた溶着用ガラスを選択する
ことができる。

【００２７】以上の工程を経て、第４図に示す如きヘッ
ド・チップを得る。図中、１ａ、１ｂはそれぞれ、結晶
化ガラスなどの非磁性基板２、２、２、２間にセンダス
トなどの強磁性金属薄膜４とＳｉＯ２などの絶縁薄膜５
との積層薄膜３よりなる主コア半体が挟持されている第
１、第２コア半体である。第２コア半体１ｂには巻線溝
７および溶着用ガラス充填溝８が形成されている。前記
第１、第２コア半体１ａ、１ｂは、その磁気ギャップ形
成面同士が突き合わされた状態で前記溶着用ガラス充填
溝８および巻線溝７の上端に充填された溶着用ガラス１
８により溶着されており、該接合面にはＳｉＯ２などよ
りなる磁気ギャップ１０が形成されている。

【００２８】このようにして得られたヘッド・コア・チ
ップでは、溶着用ガラス１８溶融時に積層接合用ガラス
１７が軟化することがないので、磁気ギャップ１０の精
度が損われず良好な磁気ヘッド特性を実現できるもので
ある。

【００２９】

【発明の効果】以上、詳述した如く本発明に依れば、非
磁性基板上に強磁性金属薄膜と絶縁薄膜からなる積層薄
膜を被着形成し、該積層薄膜を挟むように非磁性基板を
ガラスにて接合してなる磁気コア半体対を接着一体化
し、前記積層薄膜により磁路を構成してなる磁気ヘッド
の製造方法において、前記積層薄膜上に高融点酸化物薄
膜を形成し、該積層薄膜を形成した面と反対側の面に積
層接合用ガラスを形成した成膜基板を複数枚作成してこ
れらを接合して磁気コア半体を構成するようにしたの
で、強磁性金属薄膜の磁気特性劣化をもたらすことな
く、溶着用ガラスの接着強度、耐摩耗性、耐食性を向上
させ、積層接合用ガラスの軟化による磁気ヘッドの特性
低下を防ぎ、積層接合用ガラスの接着強度、耐摩耗性、
耐食性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法における基板の斜視図。

【図２】本発明の製造方法における基板の斜視図。

【図３】本発明の製造方法における積層ブロックの斜視
図。

【図４】本発明の製造方法におけるヘッド・チップの斜
視図。

【図５】従来の製造方法におけるヘッド・チップの斜視
図。

【図６】従来の製造方法における基板の斜視図。

【図７】従来の製造方法における基板の斜視図。

【図８】従来の製造方法における基板の斜視図。

【図９】従来の製造方法における積層ブロックの斜視
図。

【図１０】従来の製造方法における切断積層ブロックの
斜視図。

【図１１】従来の製造方法における切断積層ブロックの
加工組み立て図。

【図１２】従来の製造方法における積層ヘッド・ピース
の斜視図。

【符号の説明】

１ａ コア半体 １ｂ コア半体 ２ 非磁性基板 ３ 積層膜 ４ 強磁性金属薄膜 ５ 絶縁薄膜 ６ 積層接合用ガラス ７ 巻線溝 ８ 溶着ガラス用充填溝 ９ 溶着用ガラス １０ 磁気ギャップ １１ａ 基板 １１ｂ 基板 １１ｃ 基板 １１ｄ 基板 １１ｅ 基板 １２ 積層ブロック １３ 切断積層ブロック １４ 積層ヘッド・ピース １５ 高融点酸化物 １６ 積層ブロック １７ 積層接合用ガラス １８ 溶着用ガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大久保 晃 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板上に強磁性金属薄膜と絶縁薄
   膜からなる積層薄膜を被着形成し、該積層薄膜を挟むよ
   うに非磁性基板をガラスにて接合してなる磁気コア半体
   対を接着一体化し、前記積層薄膜により磁路を構成して
   なる磁気ヘッドの製造方法において、前記積層薄膜上に
   高融点酸化物薄膜を形成し、該積層薄膜を形成した面と
   反対側の面に積層接合用ガラスを形成した成膜基板を複
   数枚作成してこれらを接合して磁気コア半体を構成する
   ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。