JPH04268202A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH04268202A JPH04268202A JP2991291A JP2991291A JPH04268202A JP H04268202 A JPH04268202 A JP H04268202A JP 2991291 A JP2991291 A JP 2991291A JP 2991291 A JP2991291 A JP 2991291A JP H04268202 A JPH04268202 A JP H04268202A
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- magnetic head
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- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 11
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- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 abstract description 26
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- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置に用い
られる磁気ヘッドに関するものである。
られる磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ヘッドは記録密度の向上に伴
い、より高磁束密度、高透磁率が必要とされるようにな
ってきている。しかしながら現在最も一般的に使用され
ているフェライトからなる磁気ヘッドは、記録密度を向
上させるために使用する高保磁力のテープにおいて飽和
磁束密度が相対的に小さく、市場が要求する特性を得る
ことができないといううらみがあった。そのような状況
の中で要求される特性を得る方法として、記録、再生を
行う磁気ギャップ近傍にアモルファス磁性体などの金属
磁性体を堆積させたメタル・イン・ギャップ法（以下Ｍ
ＩＧ法という）、金属磁性体と絶縁層を交互に積層させ
た積層法などが開発されている。
い、より高磁束密度、高透磁率が必要とされるようにな
ってきている。しかしながら現在最も一般的に使用され
ているフェライトからなる磁気ヘッドは、記録密度を向
上させるために使用する高保磁力のテープにおいて飽和
磁束密度が相対的に小さく、市場が要求する特性を得る
ことができないといううらみがあった。そのような状況
の中で要求される特性を得る方法として、記録、再生を
行う磁気ギャップ近傍にアモルファス磁性体などの金属
磁性体を堆積させたメタル・イン・ギャップ法（以下Ｍ
ＩＧ法という）、金属磁性体と絶縁層を交互に積層させ
た積層法などが開発されている。
【０００３】積層法においては金属磁性体、絶縁層、支
持基板およびガラスとの接合、ＭＩＧ法においてはフェ
ライト、金属磁性体およびガラスとの接合を必要とする
。
持基板およびガラスとの接合、ＭＩＧ法においてはフェ
ライト、金属磁性体およびガラスとの接合を必要とする
。
【０００４】以下に従来の磁気ヘッドについて説明する
。図４は従来の積層型磁気ヘッドの要部拡大断面図であ
り、図５はＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図であり、
図６は従来の一般的なフェライトからなる磁気ヘッドの
要部拡大断面図である。１は支持基板、２は金属磁性体
、３は絶縁ガラス、４は接合ガラス、５はギャップガラ
ス、６，６′はフェライトである。
。図４は従来の積層型磁気ヘッドの要部拡大断面図であ
り、図５はＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図であり、
図６は従来の一般的なフェライトからなる磁気ヘッドの
要部拡大断面図である。１は支持基板、２は金属磁性体
、３は絶縁ガラス、４は接合ガラス、５はギャップガラ
ス、６，６′はフェライトである。
【０００５】異種の材料を接合する場合、材料特有の熱
膨張率α（以下、αと略す）の違いが問題となってくる
。接合を行う材料どうしのαに大きな違いがある場合、
接合部に発生する引張応力または圧縮応力により磁気特
性が劣化し、極端な場合においては接合部にクラックお
よび金属磁性体の剥離が発生するようになる。一方使用
するフェライト、金属磁性体、絶縁層、支持基板および
ガラス等においては超精密加工を行うために加工性が良
いことか、また使用する時に受ける衝撃に耐えうる機械
的強度を必要とすると共に、磁性媒体との相性（インタ
ーフェース耐摩耗性など）の良いことも必要となる。
膨張率α（以下、αと略す）の違いが問題となってくる
。接合を行う材料どうしのαに大きな違いがある場合、
接合部に発生する引張応力または圧縮応力により磁気特
性が劣化し、極端な場合においては接合部にクラックお
よび金属磁性体の剥離が発生するようになる。一方使用
するフェライト、金属磁性体、絶縁層、支持基板および
ガラス等においては超精密加工を行うために加工性が良
いことか、また使用する時に受ける衝撃に耐えうる機械
的強度を必要とすると共に、磁性媒体との相性（インタ
ーフェース耐摩耗性など）の良いことも必要となる。
【０００６】例えば図６に示すような従来の磁気ヘッド
においては、αが１２０×１０−７／℃のフェライト６
とフェライト６′の間に、ギャップ形成のためにαが１
２０×１０−７／℃のギャップガラス５を使用している
。またギャップの機械的強度を得るためにαが１２０×
１０−７／℃の接合ガラス４を使用している。
においては、αが１２０×１０−７／℃のフェライト６
とフェライト６′の間に、ギャップ形成のためにαが１
２０×１０−７／℃のギャップガラス５を使用している
。またギャップの機械的強度を得るためにαが１２０×
１０−７／℃の接合ガラス４を使用している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらαを満足
し、更に加工性がよく、機械的強度が強く、しかも媒体
との相性の良い材料を得ることは非常に困難であるとと
もに、理想的な組合せが非常に難しく、そのために最良
の磁気特性を有する磁気ヘッドを供給することができな
いという問題点があった。また、従来の一般的な磁気ヘ
ッドにおいても、完全に同じαのフェライト、ギャップ
ガラスおよび接合ガラスを得ることは困難である。その
ためフェライト、ギャップガラスおよび接合ガラスの若
干のαの違いにより発生する引張応力および圧縮応力で
磁気特性を劣化させるという問題点があった。
し、更に加工性がよく、機械的強度が強く、しかも媒体
との相性の良い材料を得ることは非常に困難であるとと
もに、理想的な組合せが非常に難しく、そのために最良
の磁気特性を有する磁気ヘッドを供給することができな
いという問題点があった。また、従来の一般的な磁気ヘ
ッドにおいても、完全に同じαのフェライト、ギャップ
ガラスおよび接合ガラスを得ることは困難である。その
ためフェライト、ギャップガラスおよび接合ガラスの若
干のαの違いにより発生する引張応力および圧縮応力で
磁気特性を劣化させるという問題点があった。
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、αの相違による引張応力や圧縮応力を吸収し、磁気
特性の劣化を防止した磁気ヘッドを提供することを目的
とする。
で、αの相違による引張応力や圧縮応力を吸収し、磁気
特性の劣化を防止した磁気ヘッドを提供することを目的
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドは、一対の磁気コア間に介在され
る磁気ギャップとなる非磁性物の各層間に部分安定化ジ
ルコニア（以後ＰＳＺと略す）の層を形成させた構成か
らなる。
に本発明の磁気ヘッドは、一対の磁気コア間に介在され
る磁気ギャップとなる非磁性物の各層間に部分安定化ジ
ルコニア（以後ＰＳＺと略す）の層を形成させた構成か
らなる。
【００１０】
【作用】この構成によって、磁気ヘッド用材料として加
工性が良く、機械的強度に優れ、媒体との相性が良い材
料であってもαが大きく違うために使用することができ
なかった材料を、前記材料間に部分安定化ジルコニア層
を介在させることにより引張応力または圧縮応力を減少
させ、各種材料の使用を可能にすることができる。
工性が良く、機械的強度に優れ、媒体との相性が良い材
料であってもαが大きく違うために使用することができ
なかった材料を、前記材料間に部分安定化ジルコニア層
を介在させることにより引張応力または圧縮応力を減少
させ、各種材料の使用を可能にすることができる。
【００１１】
【実施例】（実施例１）以下本発明の一実施例について
、図面を参照しながら説明する。
、図面を参照しながら説明する。
【００１２】図１は本発明のＰＳＺ薄膜を形成した一般
的なフェライトからなる磁気ヘッドの要部拡大断面図で
ある。４は接合ガラス、５はギャップガラス、６，６′
はフェライト、７はＰＳＺ薄膜である。フェライト６及
びフェライト６′の対向面にスパッタリング法により０
．１μｍの厚さのＰＳＺ薄膜を形成し、次いでギャップ
ガラス５により接合するとともにギャップの形成を行い
、更に接合ガラス４により接合してフェライト磁気ヘッ
ドを形成した。次に、ＰＳＺ薄膜の出力への効果を確認
したところ、ＰＳＺ薄膜を形成した磁気ヘッドはＰＳＺ
薄膜を形成しない磁気ヘッドに比べ、磁気ヘッドの出力
が２．０ｄＢ向上していた。
的なフェライトからなる磁気ヘッドの要部拡大断面図で
ある。４は接合ガラス、５はギャップガラス、６，６′
はフェライト、７はＰＳＺ薄膜である。フェライト６及
びフェライト６′の対向面にスパッタリング法により０
．１μｍの厚さのＰＳＺ薄膜を形成し、次いでギャップ
ガラス５により接合するとともにギャップの形成を行い
、更に接合ガラス４により接合してフェライト磁気ヘッ
ドを形成した。次に、ＰＳＺ薄膜の出力への効果を確認
したところ、ＰＳＺ薄膜を形成した磁気ヘッドはＰＳＺ
薄膜を形成しない磁気ヘッドに比べ、磁気ヘッドの出力
が２．０ｄＢ向上していた。
【００１３】（実施例２）同一材料からなるフェライト
６，６′と同一のαを有するギャップガラス及び接合ガ
ラス４を用いて、ＰＳＺの０．１μｍ厚みの薄膜を積層
形成した場合と形成しない場合の各々の磁気ヘッドを作
成し、αと磁気ヘッド出力との関係を確認した。
６，６′と同一のαを有するギャップガラス及び接合ガ
ラス４を用いて、ＰＳＺの０．１μｍ厚みの薄膜を積層
形成した場合と形成しない場合の各々の磁気ヘッドを作
成し、αと磁気ヘッド出力との関係を確認した。
【００１４】その結果を（表１）に示す。尚、表中に示
す磁気ヘッドの出力は、αの差が０でＰＳＺ薄膜を積層
形成しない場合の磁気ヘッドの出力（測定周波数は１Ｍ
Ｈｚ）と比較した値を示す。
す磁気ヘッドの出力は、αの差が０でＰＳＺ薄膜を積層
形成しない場合の磁気ヘッドの出力（測定周波数は１Ｍ
Ｈｚ）と比較した値を示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】この（表１）から明らかなように、ＰＳＺ
薄膜を積層形成した場合、材料間のαの差が２５×１０
−７／℃以上においては、ＰＳＺ薄膜の形成がない場合
のαの差が０の場合よりも磁気ヘッド出力が小さくなる
が、クラックの発生が認められないので、他の材料との
組み合わせが可能であることを示している。
薄膜を積層形成した場合、材料間のαの差が２５×１０
−７／℃以上においては、ＰＳＺ薄膜の形成がない場合
のαの差が０の場合よりも磁気ヘッド出力が小さくなる
が、クラックの発生が認められないので、他の材料との
組み合わせが可能であることを示している。
【００１７】尚、ＰＳＺ薄膜を形成しない場合には、α
の差が１５×１０−７／℃以上でフェライト６及びフェ
ライト６′とギャップガラス５及び接合ガラス４との間
にクラックが発生した。
の差が１５×１０−７／℃以上でフェライト６及びフェ
ライト６′とギャップガラス５及び接合ガラス４との間
にクラックが発生した。
【００１８】又、ＰＳＺ薄膜を積層形成した場合、αの
差が３０×１０−７／℃以上でクラックが発生した。
差が３０×１０−７／℃以上でクラックが発生した。
【００１９】（実施例３）図２は本発明の、ＰＳＺ薄膜
を積層形成したＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図であ
る。２はセンダスト合金からなる金属磁性体、４は接合
ガラス、５はギャップガラス、６，６′はフェライトで
、それぞれ熱膨張率αが１２０×１０−７／℃の材料を
使用して、フェライト６及び金属磁性体２とギャップガ
ラス５及び接合ガラス４との間に０．１μｍ厚みのＰＳ
Ｚ薄膜を積層した磁気ヘッドを作成した。これとＰＳＺ
加工しないＭＩＧ磁気ヘッドを形成し、磁気ヘッド出力
を測定し比較したところ、ＰＳＺ薄膜を積層したＭＩＧ
磁気ヘッドはヘッド出力が１．８ｄＢ向上した。
を積層形成したＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図であ
る。２はセンダスト合金からなる金属磁性体、４は接合
ガラス、５はギャップガラス、６，６′はフェライトで
、それぞれ熱膨張率αが１２０×１０−７／℃の材料を
使用して、フェライト６及び金属磁性体２とギャップガ
ラス５及び接合ガラス４との間に０．１μｍ厚みのＰＳ
Ｚ薄膜を積層した磁気ヘッドを作成した。これとＰＳＺ
加工しないＭＩＧ磁気ヘッドを形成し、磁気ヘッド出力
を測定し比較したところ、ＰＳＺ薄膜を積層したＭＩＧ
磁気ヘッドはヘッド出力が１．８ｄＢ向上した。
【００２０】次に、フェライト６′と金属磁性体２の対
向面でのＰＳＺ薄膜の出力への効果を確認した。
向面でのＰＳＺ薄膜の出力への効果を確認した。
【００２１】フェライト６′に０．００１μｍ厚みのＰ
ＳＺ薄膜をスパッタリング法で形成し、その上にセンダ
スト合金層２をスパッタリングにより形成すると、ＰＳ
Ｚ薄膜を形成しない場合に比べ磁気ヘッドの出力が１．
５ｄＢ向上した。
ＳＺ薄膜をスパッタリング法で形成し、その上にセンダ
スト合金層２をスパッタリングにより形成すると、ＰＳ
Ｚ薄膜を形成しない場合に比べ磁気ヘッドの出力が１．
５ｄＢ向上した。
【００２２】従来、ＭＩＧ磁気ヘッドは、フェライト対
向面へセンダスト合金層をスパッタする場合センダスト
合金の初期スパッタ層の歪みによりＭＩＧ磁気ヘッドの
出力が低下する現象があるが、ＰＳＺ薄膜をスパッタす
ることにより改善されることがわかった。
向面へセンダスト合金層をスパッタする場合センダスト
合金の初期スパッタ層の歪みによりＭＩＧ磁気ヘッドの
出力が低下する現象があるが、ＰＳＺ薄膜をスパッタす
ることにより改善されることがわかった。
【００２３】（実施例４）図３は、本発明のＰＳＺ薄膜
を形成した積層アモルファス磁気ヘッドの２層積層部の
要部拡大断面図である。
を形成した積層アモルファス磁気ヘッドの２層積層部の
要部拡大断面図である。
【００２４】２はαが１１０×１０−７／℃のアモルフ
ァスからなる厚さ５μｍの金属磁性体、３は厚さ０．３
μｍのαが５×１０−７／℃からなる絶縁ガラスで支持
基板１と金属磁性体２の間にＰＳＺを０．３μｍの厚み
に積層した。次に金属磁性体２と、絶縁ガラス３との間
にＰＳＺを０．１μｍの厚みに積層し、その上に絶縁ガ
ラス３を０．２μｍ積層し、これを繰り返して全体を８
層とし、図４と同様の積層型磁気ヘッドを得た。一方Ｐ
ＳＺを積層しない積層磁気ヘッドを作成し、磁気ヘッド
出力を比較したところ、ＰＳＺを積層したものは、磁気
ヘッド出力が１．４ｄＢ向上した。
ァスからなる厚さ５μｍの金属磁性体、３は厚さ０．３
μｍのαが５×１０−７／℃からなる絶縁ガラスで支持
基板１と金属磁性体２の間にＰＳＺを０．３μｍの厚み
に積層した。次に金属磁性体２と、絶縁ガラス３との間
にＰＳＺを０．１μｍの厚みに積層し、その上に絶縁ガ
ラス３を０．２μｍ積層し、これを繰り返して全体を８
層とし、図４と同様の積層型磁気ヘッドを得た。一方Ｐ
ＳＺを積層しない積層磁気ヘッドを作成し、磁気ヘッド
出力を比較したところ、ＰＳＺを積層したものは、磁気
ヘッド出力が１．４ｄＢ向上した。
【００２５】
【発明の効果】以上のように本発明は、フェライト、支
持基板、金属磁性体、絶縁ガラス、ギャップガラスおよ
び接合ガラス等との間にＰＳＺを積層することにより、
ＰＳＺ薄膜で材料間に発生する引張応力や圧縮応力を吸
収し、磁気ヘッドの耐久性を著しく向上させるとともに
、異種の材料を磁気ヘッドの構成材料として使用するこ
とを可能とし、更に磁気ヘッドの出力を向上させた優れ
た磁気ヘッドを実現できるものである。
持基板、金属磁性体、絶縁ガラス、ギャップガラスおよ
び接合ガラス等との間にＰＳＺを積層することにより、
ＰＳＺ薄膜で材料間に発生する引張応力や圧縮応力を吸
収し、磁気ヘッドの耐久性を著しく向上させるとともに
、異種の材料を磁気ヘッドの構成材料として使用するこ
とを可能とし、更に磁気ヘッドの出力を向上させた優れ
た磁気ヘッドを実現できるものである。
【図１】本発明のフェライト磁気ヘッドの要部拡大断面
図
図
【図２】本発明のＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図
【
図３】本発明の積層磁気ヘッドの要部拡大断面図
図３】本発明の積層磁気ヘッドの要部拡大断面図
【図４
】従来の積層磁気ヘッドの要部拡大断面図
】従来の積層磁気ヘッドの要部拡大断面図
【図５】従来
のＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図
のＭＩＧ磁気ヘッドの要部拡大断面図
【図６】従来のフ
ェライト磁気ヘッドの要部拡大断面図
ェライト磁気ヘッドの要部拡大断面図
１ 支持基板
２ 金属磁性体
３ 絶縁ガラス
４ 接合ガラス
５ ギャップガラス
６ フェライト
６′ フェライト
７ ＰＳＺ
Claims (2)
- 【請求項１】一対の磁気コアを磁気ギャップとなる非磁
性物を介して互いに接合した磁気ヘッドであって、前記
非磁性物と前記磁気コアの間に部分安定化ジルコニア層
を設けたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】各構成部材の３０℃から４００℃における
熱膨張率αの差が±３０×１０−７／℃以内にあること
を特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03029912A JP3089673B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03029912A JP3089673B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04268202A true JPH04268202A (ja) | 1992-09-24 |
| JP3089673B2 JP3089673B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=12289205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03029912A Expired - Fee Related JP3089673B2 (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3089673B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0679443U (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-08 | 吉扶 榎本 | 調理容器などの載置具 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP03029912A patent/JP3089673B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3089673B2 (ja) | 2000-09-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |