JPS61184712A - 複合型浮上磁気ヘツド - Google Patents
複合型浮上磁気ヘツドInfo
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- JPS61184712A JPS61184712A JP2489685A JP2489685A JPS61184712A JP S61184712 A JPS61184712 A JP S61184712A JP 2489685 A JP2489685 A JP 2489685A JP 2489685 A JP2489685 A JP 2489685A JP S61184712 A JPS61184712 A JP S61184712A
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- magnetic
- glass
- core
- slit
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3186—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes parallel to the gap plane, e.g. "vertical head structure"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野］
本発明はコンピュータ用磁気ヘッドに関するものであり
、特に記録媒体と磁気ヘッドの間に１μｍ以下の僅かの
間隔を隔てて浮上させ記録再生を行うための磁気ヘッド
に関する。
、特に記録媒体と磁気ヘッドの間に１μｍ以下の僅かの
間隔を隔てて浮上させ記録再生を行うための磁気ヘッド
に関する。
［従来の技術］
従来、コンピューターのハードディスク用磁気ヘッドと
しては、いわゆる浮上型の磁気ヘッドが用いられている
。この磁気ヘッドの構造は第５図に示すように浮上を司
どるスライダ一部１とＣコア２より成り磁気ギャップ３
を介してガラスで接合された一体型のものである。この
ような構造の磁気ヘッドはスライダ一部１およびＣコア
２が同一のＭｎ−ＺｎあるいはＮｉ−Ｚｎフェライト材
料で構成されているため両部材の飽和磁束密度は高々５
５００Ｇ程度に留まるものである。
しては、いわゆる浮上型の磁気ヘッドが用いられている
。この磁気ヘッドの構造は第５図に示すように浮上を司
どるスライダ一部１とＣコア２より成り磁気ギャップ３
を介してガラスで接合された一体型のものである。この
ような構造の磁気ヘッドはスライダ一部１およびＣコア
２が同一のＭｎ−ＺｎあるいはＮｉ−Ｚｎフェライト材
料で構成されているため両部材の飽和磁束密度は高々５
５００Ｇ程度に留まるものである。
一方、磁気記録密度は年々高まっているが、記録密度を
高めるためには記録媒体の保磁力をより大きくする必要
があり、近年かかる要求に対応して高保磁力の記録媒体
が少なからず出現している。
高めるためには記録媒体の保磁力をより大きくする必要
があり、近年かかる要求に対応して高保磁力の記録媒体
が少なからず出現している。
しかし前述した如くフェライトの飽和磁束密度は比較的
小さく、このため高保磁力の媒体への十分な記録信号の
書込みがなし得ないという問題が生じている。従って、
磁気ヘッド材料として、ざらに飽和磁束密度の大きな金
属材料を用いた磁気へラドの出現が望まれており、この
ため、第６図に示すような構造のものが提案されている
（特開昭５ｉ３− １４３１１号公報）。
小さく、このため高保磁力の媒体への十分な記録信号の
書込みがなし得ないという問題が生じている。従って、
磁気ヘッド材料として、ざらに飽和磁束密度の大きな金
属材料を用いた磁気へラドの出現が望まれており、この
ため、第６図に示すような構造のものが提案されている
（特開昭５ｉ３− １４３１１号公報）。
すなわち、バルクの金属材料は１１７Ｆ！！な機械加工
に耐えないことから、基板上に薄膜として金属材料を形
成したことを特徴とする複合型の磁気ヘッドである。
に耐えないことから、基板上に薄膜として金属材料を形
成したことを特徴とする複合型の磁気ヘッドである。
第６図において、３３．３３’は磁性薄膜、３２は非磁
性のＣコア、３１はスライダ一部である。
性のＣコア、３１はスライダ一部である。
前記文献には、必ずしも高飽和磁束密度の磁性Ｉｌｌを
形成することを明示してはいないが、この構造から判断
して、３３．３３’の部分を高飽和磁束密度の金属磁性
膜とすることにより高保磁力の記録媒体に対して最適な
浮上型磁気ヘッドを得ることが出来る可能性のあること
は容易に推察出来る。この場合において、上記磁性薄膜
としては極力飽和磁束密度が大きいという点からは、Ｆ
ｅ−３ｉ合金薄膜を用いることが考えられる。
形成することを明示してはいないが、この構造から判断
して、３３．３３’の部分を高飽和磁束密度の金属磁性
膜とすることにより高保磁力の記録媒体に対して最適な
浮上型磁気ヘッドを得ることが出来る可能性のあること
は容易に推察出来る。この場合において、上記磁性薄膜
としては極力飽和磁束密度が大きいという点からは、Ｆ
ｅ−３ｉ合金薄膜を用いることが考えられる。
すなわち、合金薄膜としてはＦｅ −ＡＩ −８ｉ合金
薄膜、Ｎｉ−Ｆｅ合金薄膜なども知られているが、前者
の飽和磁束密度は約１０，０ＯＯＧ 、後者で１３．０
ＯＯＧ程度であるのに対し、Ｆｅ−８ｉ合金膜では容易
に１４，０ＯＯＧ以上を得ることが可能であるからであ
る。
薄膜、Ｎｉ−Ｆｅ合金薄膜なども知られているが、前者
の飽和磁束密度は約１０，０ＯＯＧ 、後者で１３．０
ＯＯＧ程度であるのに対し、Ｆｅ−８ｉ合金膜では容易
に１４，０ＯＯＧ以上を得ることが可能であるからであ
る。
［本発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、Ｆｅ Ｓ＋合金膜を用いて第６図に示
した構造の磁気ヘッドとして構成した場合には、タメガ
ラスと称する補強ガラス部３９にクラックを生じ易いと
いう問題点があり、このことは高い信頼性を要求される
浮上型磁気ヘッドとしては、致命的欠陥といえるもので
ある。
した構造の磁気ヘッドとして構成した場合には、タメガ
ラスと称する補強ガラス部３９にクラックを生じ易いと
いう問題点があり、このことは高い信頼性を要求される
浮上型磁気ヘッドとしては、致命的欠陥といえるもので
ある。
本発明はＦｅ−８ｉ合金膜を用い浮上型磁気ヘッドを構
成するに際して、上述したタメガラス部にクラックを生
じることによって、使用中に欠けおちて磁気ヘッドまた
は記録媒体などを損傷するなどして、高い信頼性を保証
出来ないという欠点を解決せんとするものである。
成するに際して、上述したタメガラス部にクラックを生
じることによって、使用中に欠けおちて磁気ヘッドまた
は記録媒体などを損傷するなどして、高い信頼性を保証
出来ないという欠点を解決せんとするものである。
［問題点を解決するための手段〕
本発明はかかるタメガラスにたとえクランクを生じても
高い信頼性を維持し得る様な構造を提供することを目的
とする。すなわち、本発明の複合型浮上磁気ヘッドでは
磁気ヘッドチップは非磁性あるいは磁性酸化物基板とそ
の上に形成した飽和磁束密度が１４０００Ｇ以上のＦｅ
−３ｉ ＷＪ膜がらなり、この磁気ヘッドチップの一
対がＦｅ −ｓｒ ｉｌ膜同志が対向するように磁気ギ
ャップを介して接合されて磁気ヘッド部が形成されてお
り、この磁気ヘッド部と非磁性スライダーのスリット壁
との間隔がガラスでモールドすることにより信頼性の保
証出来る構成となしたものである。
高い信頼性を維持し得る様な構造を提供することを目的
とする。すなわち、本発明の複合型浮上磁気ヘッドでは
磁気ヘッドチップは非磁性あるいは磁性酸化物基板とそ
の上に形成した飽和磁束密度が１４０００Ｇ以上のＦｅ
−３ｉ ＷＪ膜がらなり、この磁気ヘッドチップの一
対がＦｅ −ｓｒ ｉｌ膜同志が対向するように磁気ギ
ャップを介して接合されて磁気ヘッド部が形成されてお
り、この磁気ヘッド部と非磁性スライダーのスリット壁
との間隔がガラスでモールドすることにより信頼性の保
証出来る構成となしたものである。
以下に実施例を示し詳述する。
［実施例］
非磁性基板であるＭｎ ０−Ｎｉ Ｏ系酸化物（商品名
ＭＮ−１３０＞のブロックを加工し、Ｃコアおよび■コ
アを作製した。これらのコア上に７．Ｏｗｔ％Ｓｉ残部
Ｆｅより成るＦｅ−８ｉ合金薄膜を形成した。薄膜の形
成にはスパッタ法を用いたが、その条件は下記のとおり
である。
ＭＮ−１３０＞のブロックを加工し、Ｃコアおよび■コ
アを作製した。これらのコア上に７．Ｏｗｔ％Ｓｉ残部
Ｆｅより成るＦｅ−８ｉ合金薄膜を形成した。薄膜の形
成にはスパッタ法を用いたが、その条件は下記のとおり
である。
ＤＣマグネトロンスパッタ装置
ターゲット １２５φ
Ａｒ圧 ４ｘ １Ｏ−３Ｔ ｏｒｒ電極間距離
１００ｍｍ ５μｍ厚のＦｅ−８ｉ膜をｏ、１μｍ厚の５ｉ０２を介
して５層積層した。このＣコア４．１コア４′を第３図
に示す様にＳ！０２をスパッタして形成した １．１μ
…の層６．６′を磁気ギャップとしてはさみ６７０℃の
温度でガラスを流入しガラス５．５′で接合した。
１００ｍｍ ５μｍ厚のＦｅ−８ｉ膜をｏ、１μｍ厚の５ｉ０２を介
して５層積層した。このＣコア４．１コア４′を第３図
に示す様にＳ！０２をスパッタして形成した １．１μ
…の層６．６′を磁気ギャップとしてはさみ６７０℃の
温度でガラスを流入しガラス５．５′で接合した。
本発明において、チップの構造としては第３図以外の構
造の他に積層膜によるものや、例えば特開昭５６−１６
９２１４号公報に示された様なもの等いずれを用いても
同じである。かかるＦｅ−８ｉ膜を形成したチップを接
合して磁気ヘッドとしたものは、そのほとんどにおいて
、タメガラス５の部分にクラックが認められた。次に第
１図、第２図に示すように前記磁気ヘッド１０を、チタ
ン酸カルシウムのような機械的強度の優れたスライダー
８中のスリット１１中に挿入しガラスで間隙をモールド
した。第１図、第２図で９．９′は浮上を司どる空気ベ
アリングレール部である。判り易く説明するために、ス
リット１１中に磁気ヘッドを埋設しガラスでモールドさ
れた部分を浮上面側すなわち第１図、第２図における上
方より眺めた概略図を第４図に示し説明する。
造の他に積層膜によるものや、例えば特開昭５６−１６
９２１４号公報に示された様なもの等いずれを用いても
同じである。かかるＦｅ−８ｉ膜を形成したチップを接
合して磁気ヘッドとしたものは、そのほとんどにおいて
、タメガラス５の部分にクラックが認められた。次に第
１図、第２図に示すように前記磁気ヘッド１０を、チタ
ン酸カルシウムのような機械的強度の優れたスライダー
８中のスリット１１中に挿入しガラスで間隙をモールド
した。第１図、第２図で９．９′は浮上を司どる空気ベ
アリングレール部である。判り易く説明するために、ス
リット１１中に磁気ヘッドを埋設しガラスでモールドさ
れた部分を浮上面側すなわち第１図、第２図における上
方より眺めた概略図を第４図に示し説明する。
第４図で１６は第２図の９に示したレール部でスリット
１２中に、１５，１５’のＣ，Ｉコアの磁気ギャップ１
４の両端にＦｅ−５ｔ躾１３゜１３′を対向させた磁気
ヘッドを挿入しである。
１２中に、１５，１５’のＣ，Ｉコアの磁気ギャップ１
４の両端にＦｅ−５ｔ躾１３゜１３′を対向させた磁気
ヘッドを挿入しである。
この磁気ヘッドとスリット間の空隙にガラスとして３５
０℃の軟化点をを有するガラスを用い温度４８０℃で流
入させモールド固定しである。該ガラスモールド部分は
第４図中に示す部分１２である。
０℃の軟化点をを有するガラスを用い温度４８０℃で流
入させモールド固定しである。該ガラスモールド部分は
第４図中に示す部分１２である。
この様に磁気ヘッドをモールドしたガラス部には１０ケ
中僅か１ケに微少なりラックが認められたが、他の９ケ
にはクラックは全く認められず、チップのタメガラスに
ほとんどクラックが認められたことと比較すると格段の
相異である。この様なりラック発生頻度の差異の原因は
明らかではないが、チップ接合の場合は金属膜とガラス
の接触する部分が多いこと、チップ接合とスライダーへ
のモールドではガラスの流入していくべき空間の形状が
異なること等が考えられるが、未だ明確には出来ていな
い。
中僅か１ケに微少なりラックが認められたが、他の９ケ
にはクラックは全く認められず、チップのタメガラスに
ほとんどクラックが認められたことと比較すると格段の
相異である。この様なりラック発生頻度の差異の原因は
明らかではないが、チップ接合の場合は金属膜とガラス
の接触する部分が多いこと、チップ接合とスライダーへ
のモールドではガラスの流入していくべき空間の形状が
異なること等が考えられるが、未だ明確には出来ていな
い。
また、この様な構成、すなわち磁気ヘッドをスライダー
中に埋設しガラスでモールド固定したものでは、チップ
のタメガラス部はスライダー内部に位置し、浮上面側（
すなわち記録媒体対向面側）には瑛われない。しかもそ
の磁気ヘッドはモールドガラスで完全に固化され、かつ
モールドガラスにはクラックがほとんどないため、高い
信頼性を有する浮上型磁気ヘッドを構成することが出来
る。
中に埋設しガラスでモールド固定したものでは、チップ
のタメガラス部はスライダー内部に位置し、浮上面側（
すなわち記録媒体対向面側）には瑛われない。しかもそ
の磁気ヘッドはモールドガラスで完全に固化され、かつ
モールドガラスにはクラックがほとんどないため、高い
信頼性を有する浮上型磁気ヘッドを構成することが出来
る。
なお、実施例では、基板としてＮｉ Ｏ−Ｍｎ Ｏ系非
磁性材料を用いたが、他に加工性の良い酸化物磁性材料
を用いても同様である。
磁性材料を用いたが、他に加工性の良い酸化物磁性材料
を用いても同様である。
また、Ｆｅ−８ｉの薄膜組成と磁気特性の関係は必ずし
も明確でないが、飽和磁束密度を１４，０００Ｇ以上と
した場合に高保磁力媒体に対し顕著な効果が期待出来る
ことから、本発明におけるＦｅ −８１合金膜の飽和磁
束密度は１４，０ＯＯＧ以上であることが望ましい。
も明確でないが、飽和磁束密度を１４，０００Ｇ以上と
した場合に高保磁力媒体に対し顕著な効果が期待出来る
ことから、本発明におけるＦｅ −８１合金膜の飽和磁
束密度は１４，０ＯＯＧ以上であることが望ましい。
また、上記実施例ではスパッタ法によりＦｅ −８；合
金薄膜を得たが、蒸着法またはメッキ法により形成して
も本発明の効果を得ることは可能である。
金薄膜を得たが、蒸着法またはメッキ法により形成して
も本発明の効果を得ることは可能である。
［発明の効果］
以上述べた様に本発明によれば、高保磁力の媒体に対し
て高い信頼性を有する浮上型磁気ヘッドを提供出来ると
いう優れた効果を有する。
て高い信頼性を有する浮上型磁気ヘッドを提供出来ると
いう優れた効果を有する。
第１図、第２図はチップをスライダー中に埋設した本発
明による磁気ヘッドの構造を表わす斜視図、第３図はス
ライダー中に埋設される磁気ヘッドの一例を示す斜視図
、第４図は第２図の埋設された磁気ヘッド部の平面図、
第５図は従来のモノリシック型浮上磁気ヘッドの概略構
成を示す斜視図、第６図は従来の磁性薄膜を有する浮上
磁気ヘッドの概略構成を示す外観図である。 ４．４′・・・コア、５．５′・・・ガラス、７．７′
・・・１：ｅ−３ｉ膜、８・・・スライダ、１０・・・
磁気ヘッド第 ｌ ＠ ギ４面
明による磁気ヘッドの構造を表わす斜視図、第３図はス
ライダー中に埋設される磁気ヘッドの一例を示す斜視図
、第４図は第２図の埋設された磁気ヘッド部の平面図、
第５図は従来のモノリシック型浮上磁気ヘッドの概略構
成を示す斜視図、第６図は従来の磁性薄膜を有する浮上
磁気ヘッドの概略構成を示す外観図である。 ４．４′・・・コア、５．５′・・・ガラス、７．７′
・・・１：ｅ−３ｉ膜、８・・・スライダ、１０・・・
磁気ヘッド第 ｌ ＠ ギ４面
Claims (1)
- 非磁性スライダーのスリット内に一対の磁気ヘッドチッ
プを埋設保持している複合型浮上磁気ヘッドにおいて、
前記磁気ヘッドチップは非磁性あるいは磁性酸化物基板
とその上に形成した飽和磁束密度が１４０００Ｇ以上の
Ｆｅ−Ｓｉ薄膜からなり、この磁気ヘッドチップの一対
がＦｅ−Ｓｉ薄膜同志が対向するように磁気ギャップを
介して接合されて磁気ヘッド部が形成されており、この
磁気ヘッド部と非磁性スライダーのスリット壁との間隙
がガラスでモールド固化されていることを特徴とする複
合型浮上磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2489685A JPS61184712A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 複合型浮上磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2489685A JPS61184712A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 複合型浮上磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61184712A true JPS61184712A (ja) | 1986-08-18 |
Family
ID=12150946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2489685A Pending JPS61184712A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 複合型浮上磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61184712A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6482310A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Sumitomo Spec Metals | Composite type magnetic head |
| EP0508471A2 (en) * | 1991-04-10 | 1992-10-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying-type magnetic heads |
| US5290738A (en) * | 1990-11-16 | 1994-03-01 | Hitachi Metals, Ltd. | Material for nonmagnetic oxide substrate and magnetic head |
| US5508863A (en) * | 1991-04-10 | 1996-04-16 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying-type magnetic head comprising a slider/gimbal connection which suppresses slider height differences |
-
1985
- 1985-02-12 JP JP2489685A patent/JPS61184712A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6482310A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Sumitomo Spec Metals | Composite type magnetic head |
| US5290738A (en) * | 1990-11-16 | 1994-03-01 | Hitachi Metals, Ltd. | Material for nonmagnetic oxide substrate and magnetic head |
| EP0508471A2 (en) * | 1991-04-10 | 1992-10-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying-type magnetic heads |
| US5508863A (en) * | 1991-04-10 | 1996-04-16 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying-type magnetic head comprising a slider/gimbal connection which suppresses slider height differences |
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