JP2665354B2 - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JP2665354B2 JP2665354B2 JP25589588A JP25589588A JP2665354B2 JP 2665354 B2 JP2665354 B2 JP 2665354B2 JP 25589588 A JP25589588 A JP 25589588A JP 25589588 A JP25589588 A JP 25589588A JP 2665354 B2 JP2665354 B2 JP 2665354B2
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- thin film
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- alloy thin
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体に対して情報の磁気記録又は再
生を行なう磁気ヘッドに関するものである。
生を行なう磁気ヘッドに関するものである。
［従来の技術］ 近年、磁気記録の分野で記録密度の向上は著しく、特
に8mmVTR（ビデオテープレコーダ）やDAT（デイタルオ
ーディオテープレコーダ）あるいは高密度、高容量FDD
（フロッピーディスクドライブ）等で磁気ヘッドと媒体
の組み合わせにより記録密度の向上が図られている。こ
れらの装置では媒体として保磁力の大きなメタル媒体が
用いられている。この場合磁気ヘッドは酸化物磁性材料
のフェライトから磁気コア全体を構成したものでは充分
に記録再生を行なえない。そこでフェライトから成る磁
気コアの磁気ギャップを挟む突き合わせ面に飽和磁束密
度の高い磁性合金の薄膜を成膜したいわゆる複合型の磁
気コアの構造が採用されている。
に8mmVTR（ビデオテープレコーダ）やDAT（デイタルオ
ーディオテープレコーダ）あるいは高密度、高容量FDD
（フロッピーディスクドライブ）等で磁気ヘッドと媒体
の組み合わせにより記録密度の向上が図られている。こ
れらの装置では媒体として保磁力の大きなメタル媒体が
用いられている。この場合磁気ヘッドは酸化物磁性材料
のフェライトから磁気コア全体を構成したものでは充分
に記録再生を行なえない。そこでフェライトから成る磁
気コアの磁気ギャップを挟む突き合わせ面に飽和磁束密
度の高い磁性合金の薄膜を成膜したいわゆる複合型の磁
気コアの構造が採用されている。
このような複合型の磁気コアは第３図（Ａ）〜（Ｆ）
に示すような工程で以下のように製造される。
に示すような工程で以下のように製造される。
即ちまずNi−Zn又はMn−Zn系のフェライトから第３図
（Ａ）に示すように略直方形のフェライト基板１を形成
する。
（Ａ）に示すように略直方形のフェライト基板１を形成
する。
次に第３図（Ｂ）に示すようにフェライト基板１に対
して磁気コアのトラック幅を規定するためのトラック溝
1aをトラック幅に対応した間隔で、所定のピッチＰで形
成する。尚ここではトラック溝1aの断面形状は略Ｖ字形
としているが、その形状はトラックピッチＰ及びトラッ
ク幅に応じて外にＵ字形あるいは台形に適宜選択され
る。
して磁気コアのトラック幅を規定するためのトラック溝
1aをトラック幅に対応した間隔で、所定のピッチＰで形
成する。尚ここではトラック溝1aの断面形状は略Ｖ字形
としているが、その形状はトラックピッチＰ及びトラッ
ク幅に応じて外にＵ字形あるいは台形に適宜選択され
る。
次にトラック溝1aを形成したフェライト基板１を２つ
用意し、一方のフェライト基板１に対して第３図（Ｃ）
に示すように磁気コアにコイル巻線を巻回するための巻
線逃げ溝2aを形成し、フェライト基板２とする。
用意し、一方のフェライト基板１に対して第３図（Ｃ）
に示すように磁気コアにコイル巻線を巻回するための巻
線逃げ溝2aを形成し、フェライト基板２とする。
次に第３図（Ｄ）に示すように、フェライト基板1,2
の後で突き合わされる図中上面に高飽和磁束密度の磁性
合金薄膜３を薄膜形成技術により、数μｍ〜数十μｍの
厚さで成膜する。尚磁性合金薄膜３の材料の磁性合金は
Fe系あるいはCo系の磁性合金の中から用途に応じて適当
に選択する。例えばFe−Al−Si合金が好ましく用いられ
る。
の後で突き合わされる図中上面に高飽和磁束密度の磁性
合金薄膜３を薄膜形成技術により、数μｍ〜数十μｍの
厚さで成膜する。尚磁性合金薄膜３の材料の磁性合金は
Fe系あるいはCo系の磁性合金の中から用途に応じて適当
に選択する。例えばFe−Al−Si合金が好ましく用いられ
る。
次にフェライト基板1,2のそれぞれの磁性合金薄膜３
の表面上に磁気ギャップを形成する磁気ギャップ材のSi
O2薄膜を成膜した後、第３図（Ｅ）に示すようにフェラ
イト基板1,2を突き合わせ、溶着ガラス５の溶着により
接合する。第３図（Ｅ）でSiO2薄膜を符号４で示してあ
る。
の表面上に磁気ギャップを形成する磁気ギャップ材のSi
O2薄膜を成膜した後、第３図（Ｅ）に示すようにフェラ
イト基板1,2を突き合わせ、溶着ガラス５の溶着により
接合する。第３図（Ｅ）でSiO2薄膜を符号４で示してあ
る。
次に第３図（Ｅ）のフェライト基板1,2の接合体を切
断線６に沿って切断して第３図（Ｆ）に示す磁気コア７
が得られる。第３図（Ｆ）で符号11,12はフェライト基
板１、２から切断された磁気コア半体である。又符号Ｇ
はSiO2薄膜４をギャップ材として構成される磁気ギャッ
プである。
断線６に沿って切断して第３図（Ｆ）に示す磁気コア７
が得られる。第３図（Ｆ）で符号11,12はフェライト基
板１、２から切断された磁気コア半体である。又符号Ｇ
はSiO2薄膜４をギャップ材として構成される磁気ギャッ
プである。
そしてこの磁気コア７に不図示のコイル巻線を巻装
し、不図示の基板に取り付けて磁気ヘッドが完成する。
し、不図示の基板に取り付けて磁気ヘッドが完成する。
［発明が解決しようとする課題］ ところが上述のような製造工程で製造される複合型の
磁気コアでは溶着ガラス５の溶着によりフェライト基板
1,2を接合する際に、SiO2薄膜４が溶着ガラス５と反応
して浸食されるとともに、磁性合金薄膜３も溶着ガラス
５と反応して第４図に符号８で示すように浸食されてし
まう。いわゆるクワレが発生してしまう。そしてこのク
ワレにより磁気ギャップＧの所定のトラック幅Ｔが満足
しなくなったり、クワレが磁気ギャップＧに沿って進ん
でギャップ幅が広くなったりして磁気ヘッドの特性が損
なわれてしまう。
磁気コアでは溶着ガラス５の溶着によりフェライト基板
1,2を接合する際に、SiO2薄膜４が溶着ガラス５と反応
して浸食されるとともに、磁性合金薄膜３も溶着ガラス
５と反応して第４図に符号８で示すように浸食されてし
まう。いわゆるクワレが発生してしまう。そしてこのク
ワレにより磁気ギャップＧの所定のトラック幅Ｔが満足
しなくなったり、クワレが磁気ギャップＧに沿って進ん
でギャップ幅が広くなったりして磁気ヘッドの特性が損
なわれてしまう。
そこでこの問題を解決するために、第５図（Ａ），
（Ｂ）に示すように磁気コアの磁性合金薄膜３上に耐蝕
性に優れたTa2O5やCr等から成る保護膜９を成膜し、そ
の上に磁気ギャップのギャップ材となるSiO2薄膜４を成
膜した構造が採用されている。尚第５図（Ａ）に示した
例ではトラック幅Ｔの磁気ギャップＧに面する部分を含
む磁性合金薄膜３の全面に保護膜９を成膜している。又
第５図（Ｂ）の例では磁性合金薄膜３において磁気ギャ
ップＧに面する部分を除く部分に保護膜９を成膜してい
る。この第５図（Ｂ）の場合はギャップ幅を狭く設定す
る場合であり、製造工程ではまず第５図（Ａ）のように
磁性合金薄膜３の全面に保護膜９を成膜したのち、磁気
ギャップＧに面する部分の保護膜９をラップ等により除
去する。
（Ｂ）に示すように磁気コアの磁性合金薄膜３上に耐蝕
性に優れたTa2O5やCr等から成る保護膜９を成膜し、そ
の上に磁気ギャップのギャップ材となるSiO2薄膜４を成
膜した構造が採用されている。尚第５図（Ａ）に示した
例ではトラック幅Ｔの磁気ギャップＧに面する部分を含
む磁性合金薄膜３の全面に保護膜９を成膜している。又
第５図（Ｂ）の例では磁性合金薄膜３において磁気ギャ
ップＧに面する部分を除く部分に保護膜９を成膜してい
る。この第５図（Ｂ）の場合はギャップ幅を狭く設定す
る場合であり、製造工程ではまず第５図（Ａ）のように
磁性合金薄膜３の全面に保護膜９を成膜したのち、磁気
ギャップＧに面する部分の保護膜９をラップ等により除
去する。
ところが第５図（Ａ）のような構造では磁気ギャップ
Ｇのギャップ幅が保護膜９とSiO2薄膜４の両者の膜厚に
より決まるため、ギャップ幅のばらつきが大きくなって
しまう。またギャップ幅を狭く設定する場合は保護膜９
に充分な厚さが取れず、充分な保護が行なえずに、前述
のクワレが生じてしまうことになる。
Ｇのギャップ幅が保護膜９とSiO2薄膜４の両者の膜厚に
より決まるため、ギャップ幅のばらつきが大きくなって
しまう。またギャップ幅を狭く設定する場合は保護膜９
に充分な厚さが取れず、充分な保護が行なえずに、前述
のクワレが生じてしまうことになる。
一方第５図（Ｂ）の構造の場合は、フェライト基板1,
2に対応する磁気コア半体11,12の突き合わせ位置のずれ
によるトラックずれがある場合には磁気ギャップＧのト
ラック幅方向の端部よりクワレが生じてしまう。
2に対応する磁気コア半体11,12の突き合わせ位置のずれ
によるトラックずれがある場合には磁気ギャップＧのト
ラック幅方向の端部よりクワレが生じてしまう。
又第５図（Ａ），（Ｂ）のいずれの構造でも製造工程
で保護膜９を成膜する工程を必要とし、工数の増加を招
きコストアップになるとともに、クワレを充分に効果的
に防止することができないという問題があった。
で保護膜９を成膜する工程を必要とし、工数の増加を招
きコストアップになるとともに、クワレを充分に効果的
に防止することができないという問題があった。
そこで本発明の課題は上述した複合型の磁気コアを有
した磁気ヘッドにおいて、磁気コアの磁性合金薄膜のク
ワレを効果的に防止でき、かつ安価に実施できる構造の
磁気ヘッドを提供することにある。
した磁気ヘッドにおいて、磁気コアの磁性合金薄膜のク
ワレを効果的に防止でき、かつ安価に実施できる構造の
磁気ヘッドを提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明においては上述した課題を解決するため、酸化
物磁性材からなり互いの突き合わせ面に磁性合金薄膜を
成膜した一対の磁気コア半体を磁気ギャップを介し突き
合わせガラス溶着により接合してなる磁気コアを有する
磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄膜上にCr2O3薄膜
を成膜し、このCr2O3薄膜を磁気ギャップ材とした構造
を採用した。
物磁性材からなり互いの突き合わせ面に磁性合金薄膜を
成膜した一対の磁気コア半体を磁気ギャップを介し突き
合わせガラス溶着により接合してなる磁気コアを有する
磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄膜上にCr2O3薄膜
を成膜し、このCr2O3薄膜を磁気ギャップ材とした構造
を採用した。
［作 用］ このような構造によれば耐蝕性に優れたCr2O3薄膜を
介して磁性合金薄膜の溶着ガラスによるクワレを防止で
きる。そしてその場合にCr2O3薄膜は磁気ギャップ材で
あるので、充分な厚さを取ることができ、クワレを効果
的に防止できる。
介して磁性合金薄膜の溶着ガラスによるクワレを防止で
きる。そしてその場合にCr2O3薄膜は磁気ギャップ材で
あるので、充分な厚さを取ることができ、クワレを効果
的に防止できる。
［実施例］ 以下、第１図及び第２図を参照して本発明の実施例の
詳細を説明する。尚第１図及び第２図中において従来例
の第３図から第５図中と共通の部分には共通の符号が付
してあり、その詳細な説明は省略する。
詳細を説明する。尚第１図及び第２図中において従来例
の第３図から第５図中と共通の部分には共通の符号が付
してあり、その詳細な説明は省略する。
第１実施例 第１図は本発明の第１実施例の磁気ヘッドに用いられ
る磁気コアの磁気記録媒体摺動面で磁気ギャップ周辺を
拡大して示している。
る磁気コアの磁気記録媒体摺動面で磁気ギャップ周辺を
拡大して示している。
第１図に示すように本実施例の磁気コアの基本的な構
造は先述の従来例と同様であり、先述したフェライト基
板1,2から切り出される磁気コア半体11,12のそれぞれの
突き合わせ面に磁性合金薄膜３を成膜し、磁気ギャップ
Ｇを介して突き合わせ、溶着ガラス５の溶着により接合
して磁気コアが構成される。
造は先述の従来例と同様であり、先述したフェライト基
板1,2から切り出される磁気コア半体11,12のそれぞれの
突き合わせ面に磁性合金薄膜３を成膜し、磁気ギャップ
Ｇを介して突き合わせ、溶着ガラス５の溶着により接合
して磁気コアが構成される。
ここで従来例と異なる点として、磁気コア半体11,12
のそれぞれの磁性合金薄膜３上に耐蝕性に優れたCr2O3
薄膜10を成膜するものとする。Cr2O3薄膜10はトラック
幅Ｔの磁気ギャップＧに面する部分を含む磁性合金薄膜
３の全面に成膜するものとする。そして図示のようにCr
2O3薄膜10どうしを突き合わせて磁気コア半体11,12が接
合され、Cr2O3薄膜10を磁気ギャップ材として磁気ギャ
ップＧが構成される。即ちCr2O3薄膜10はいわば磁性合
金薄膜３のクワレ防止のための保護膜と磁気ギャップＧ
を構成するためのギャップ材の薄膜を兼ねることにな
る。
のそれぞれの磁性合金薄膜３上に耐蝕性に優れたCr2O3
薄膜10を成膜するものとする。Cr2O3薄膜10はトラック
幅Ｔの磁気ギャップＧに面する部分を含む磁性合金薄膜
３の全面に成膜するものとする。そして図示のようにCr
2O3薄膜10どうしを突き合わせて磁気コア半体11,12が接
合され、Cr2O3薄膜10を磁気ギャップ材として磁気ギャ
ップＧが構成される。即ちCr2O3薄膜10はいわば磁性合
金薄膜３のクワレ防止のための保護膜と磁気ギャップＧ
を構成するためのギャップ材の薄膜を兼ねることにな
る。
このような本実施例の構造によれば、耐蝕性に優れた
Cr2O3薄膜10を介して磁性合金薄膜３の溶着ガラス５に
よるクワレを効果的に防止できる。そしてこの場合Cr2O
3薄膜10は保護膜兼ギャップ構成用の薄膜であるので、
第５図（Ａ）の従来例との比較から明らかなように磁気
ギャップＧの幅を狭く設定する場合に第５図（Ａ）の保
護膜９よりもCr2O3薄膜10の厚さを充分に取ることがで
き、磁性合金薄膜３のクワレを更に効果的に防止でき
る。又本実施例の構造によれば第５図（Ｂ）の従来例の
ようなトラック位置ずれによる磁気ギャップＧのトラッ
ク幅方向の端部におけるクワレの発生の恐れがない。
Cr2O3薄膜10を介して磁性合金薄膜３の溶着ガラス５に
よるクワレを効果的に防止できる。そしてこの場合Cr2O
3薄膜10は保護膜兼ギャップ構成用の薄膜であるので、
第５図（Ａ）の従来例との比較から明らかなように磁気
ギャップＧの幅を狭く設定する場合に第５図（Ａ）の保
護膜９よりもCr2O3薄膜10の厚さを充分に取ることがで
き、磁性合金薄膜３のクワレを更に効果的に防止でき
る。又本実施例の構造によれば第５図（Ｂ）の従来例の
ようなトラック位置ずれによる磁気ギャップＧのトラッ
ク幅方向の端部におけるクワレの発生の恐れがない。
さらに本実施例の構造によれば、磁性合金薄膜３上に
保護膜９とSiO2薄膜４を成膜する第５図（Ａ），（Ｂ）
の従来例に比べて磁気コアの製造工程で成膜工程が１つ
少なくて済み、その分コストダウンが図れる。
保護膜９とSiO2薄膜４を成膜する第５図（Ａ），（Ｂ）
の従来例に比べて磁気コアの製造工程で成膜工程が１つ
少なくて済み、その分コストダウンが図れる。
又本実施例のCr2O3薄膜10はその色及び光沢が磁性合
金薄膜３と顕著に異なるので、光学的に磁気ギャップＧ
のギャップ幅を確認するのに適している。
金薄膜３と顕著に異なるので、光学的に磁気ギャップＧ
のギャップ幅を確認するのに適している。
更にCr2O3は第５図（Ａ）、（Ｂ）の従来例の保護膜
９の材料としてあげたTa2O5等より溶着ガラス５の流れ
性が良く、これを用いることによりガラス溶着を良好に
行なえ、磁気コアの歩留まりを向上できる。
９の材料としてあげたTa2O5等より溶着ガラス５の流れ
性が良く、これを用いることによりガラス溶着を良好に
行なえ、磁気コアの歩留まりを向上できる。
第２実施例 次に第２図は本発明の第２実施例による磁気ヘッドに
用いられる磁気コアの磁気ギャップ周辺を拡大して示し
ている。
用いられる磁気コアの磁気ギャップ周辺を拡大して示し
ている。
図示のように本実施例では磁気コア半体11,12の突き
合わせ面の断面形状と磁性合金薄膜３の配置が第１実施
例と異なっている。即ち磁気コア半体11,12の突き合わ
せ面の断面形状は略三角形で先端部の片側が垂直に切り
欠かれた形状となっている。そして磁性合金薄膜３は磁
気コア半体11,12のそれぞれの突き合わせ面で切り欠か
れていない側の面上に成膜されている。そしてそれぞれ
の磁性合金薄膜3,3の端面どうしが磁気ギャップＧを介
して突き合わされる。この場合Cr2O3薄膜10を磁性合金
薄膜３の表面上及び磁気ギャップＧに面する端面上、及
び磁気コア半体11,12の突き合わせ面において磁性合金
薄膜３を成膜していない側の上に成膜するものとする。
そして第１実施例と同様にCr2O3薄膜10が磁気ギャップ
Ｇのギャップ材となる。
合わせ面の断面形状と磁性合金薄膜３の配置が第１実施
例と異なっている。即ち磁気コア半体11,12の突き合わ
せ面の断面形状は略三角形で先端部の片側が垂直に切り
欠かれた形状となっている。そして磁性合金薄膜３は磁
気コア半体11,12のそれぞれの突き合わせ面で切り欠か
れていない側の面上に成膜されている。そしてそれぞれ
の磁性合金薄膜3,3の端面どうしが磁気ギャップＧを介
して突き合わされる。この場合Cr2O3薄膜10を磁性合金
薄膜３の表面上及び磁気ギャップＧに面する端面上、及
び磁気コア半体11,12の突き合わせ面において磁性合金
薄膜３を成膜していない側の上に成膜するものとする。
そして第１実施例と同様にCr2O3薄膜10が磁気ギャップ
Ｇのギャップ材となる。
このような構造によっても第１実施例の場合と全く同
様の作用効果が得られる。即ち磁気コア半体11,12の突
き合わせ面の断面形状及び磁性合金薄膜３の配置は特に
限定されるものではなく、Cr2O3薄膜10は磁性合金薄膜
３において少なくとも磁気ギャップＧに面する部分の上
に成膜すれば良い。
様の作用効果が得られる。即ち磁気コア半体11,12の突
き合わせ面の断面形状及び磁性合金薄膜３の配置は特に
限定されるものではなく、Cr2O3薄膜10は磁性合金薄膜
３において少なくとも磁気ギャップＧに面する部分の上
に成膜すれば良い。
尚第２図の構造の場合、磁気コア半体11,12の突き合
わせ面（トラック溝1aにより形成される）において、Cr
2O3薄膜10が成膜される部分には垂直部1bがあり、この
部分にはCr2O3薄膜10が薄くしか付着しないが、Cr2O3薄
膜10の耐蝕性は極めて優れており、その厚さが10Å以上
あれば、クワレを防止できるので、問題はない。
わせ面（トラック溝1aにより形成される）において、Cr
2O3薄膜10が成膜される部分には垂直部1bがあり、この
部分にはCr2O3薄膜10が薄くしか付着しないが、Cr2O3薄
膜10の耐蝕性は極めて優れており、その厚さが10Å以上
あれば、クワレを防止できるので、問題はない。
又他の構造として、従来例の第５図（Ｂ）の構造にお
いて、SiO2薄膜４の代りにCr2O3薄膜を成膜して磁気ギ
ャップ材とする構造が考えられる。この場合製造工程で
磁性合金薄膜３上にあらかじめ保護膜９を成膜しておく
ことにより、加工途中の磁性合金薄膜３の酸化を防止で
きる。
いて、SiO2薄膜４の代りにCr2O3薄膜を成膜して磁気ギ
ャップ材とする構造が考えられる。この場合製造工程で
磁性合金薄膜３上にあらかじめ保護膜９を成膜しておく
ことにより、加工途中の磁性合金薄膜３の酸化を防止で
きる。
［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、酸
化物磁性材からなり互いの突き合わせ面に磁性合金薄膜
を成膜した一対の磁気コア半体を磁気ギャップを介し突
き合わせガラス溶着により接合してなる磁気コアを有す
る磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄膜上にCr2O3薄
膜を成膜し、このCr2O3薄膜を磁気ギャップ材とした構
造を採用したので、安価に実施できる構造により磁性合
金薄膜の溶着ガラスによる浸食を効果的に防止でき、磁
気ヘッドの磁気コアの磁気特性を向上できること、製造
工程で磁気ギャップのギャップ幅を容易に確認できるこ
と、及び磁気コアのガラス溶着の作業性が良く磁気コア
の歩留まりを向上できること等の優れた効果が得られ
る。
化物磁性材からなり互いの突き合わせ面に磁性合金薄膜
を成膜した一対の磁気コア半体を磁気ギャップを介し突
き合わせガラス溶着により接合してなる磁気コアを有す
る磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄膜上にCr2O3薄
膜を成膜し、このCr2O3薄膜を磁気ギャップ材とした構
造を採用したので、安価に実施できる構造により磁性合
金薄膜の溶着ガラスによる浸食を効果的に防止でき、磁
気ヘッドの磁気コアの磁気特性を向上できること、製造
工程で磁気ギャップのギャップ幅を容易に確認できるこ
と、及び磁気コアのガラス溶着の作業性が良く磁気コア
の歩留まりを向上できること等の優れた効果が得られ
る。
第１図は本発明の第１実施例による磁気ヘッドの磁気コ
アの構造を示す磁気記録媒体摺動面の磁気ギャップ周辺
の拡大した平面図、第２図は第２実施例による磁気コア
の磁気ギャップ周辺の平面図、第３図（Ａ）から（Ｆ）
はそれぞれ従来の磁気ヘッドの複合型の磁気コアの製造
工程の説明図、第４図は従来の磁気コアにおける磁性合
金薄膜のクワレを示す磁気ギャップ周辺の平面図、第５
図（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ異なる従来の磁気ヘッドの
磁気コアの構造を示す磁気ギャップ周辺の拡大平面図で
ある。 1,2……フェライト基板 ３……磁性合金薄膜 ４……SiO2薄膜、５……溶着ガラス ７……磁気コア、９……保護膜 10……Cr2O3薄膜 11,12……磁気コア半体 Ｇ……磁気ギャップ
アの構造を示す磁気記録媒体摺動面の磁気ギャップ周辺
の拡大した平面図、第２図は第２実施例による磁気コア
の磁気ギャップ周辺の平面図、第３図（Ａ）から（Ｆ）
はそれぞれ従来の磁気ヘッドの複合型の磁気コアの製造
工程の説明図、第４図は従来の磁気コアにおける磁性合
金薄膜のクワレを示す磁気ギャップ周辺の平面図、第５
図（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ異なる従来の磁気ヘッドの
磁気コアの構造を示す磁気ギャップ周辺の拡大平面図で
ある。 1,2……フェライト基板 ３……磁性合金薄膜 ４……SiO2薄膜、５……溶着ガラス ７……磁気コア、９……保護膜 10……Cr2O3薄膜 11,12……磁気コア半体 Ｇ……磁気ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】酸化物磁性材からなり互いの突き合わせ面
に磁性合金薄膜を成膜した一対の磁気コア半体を磁気ギ
ャップを介し突き合わせガラス溶着により接合してなる
磁気コアを有する磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄
膜上にCr2O3薄膜を成膜し、このCr2O3薄膜を磁気ギャッ
プ材としたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25589588A JP2665354B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 磁気ヘッド |
| DE3934284A DE3934284C2 (de) | 1988-10-13 | 1989-10-13 | Magnetkopf |
| US07/719,686 US5164870A (en) | 1988-10-13 | 1991-06-25 | Magnetic head employing a magnetic gap material composed of Cr2 O3 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25589588A JP2665354B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105304A JPH02105304A (ja) | 1990-04-17 |
| JP2665354B2 true JP2665354B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=17285059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25589588A Expired - Fee Related JP2665354B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2665354B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04245005A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0668414A (ja) * | 1992-08-20 | 1994-03-11 | Nec Kansai Ltd | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP25589588A patent/JP2665354B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH02105304A (ja) | 1990-04-17 |
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