JPH0668414A - Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0668414A JPH0668414A JP22105192A JP22105192A JPH0668414A JP H0668414 A JPH0668414 A JP H0668414A JP 22105192 A JP22105192 A JP 22105192A JP 22105192 A JP22105192 A JP 22105192A JP H0668414 A JPH0668414 A JP H0668414A
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- magnetic head
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- pair
- metal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高線密度記録化が容易で、高保磁力の記録媒
体にも有効に適用できるＭＩＧ型磁気ヘッドの提供。 【構成】 強磁性体の一対のコア（1）の接合面（2）に
被着される高飽和磁束密度の金属磁性膜（4）の組成
が、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重
量％、残りが鉄である。金属磁性膜（4）は、窒素雰囲
気で蒸着により形成され、この上に非磁性体薄膜（5）
が磁気ギャップ（ｇ）として形成される。金属磁性膜
（4）の膜厚Ｔ〔μｍ〕と、磁気ヘッドで情報の記録、
再生が行われる記録媒体（10）の磁性層の保磁力Ｈc
〔Ｏｅ〕は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋２の関係式を満たす。
体にも有効に適用できるＭＩＧ型磁気ヘッドの提供。 【構成】 強磁性体の一対のコア（1）の接合面（2）に
被着される高飽和磁束密度の金属磁性膜（4）の組成
が、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重
量％、残りが鉄である。金属磁性膜（4）は、窒素雰囲
気で蒸着により形成され、この上に非磁性体薄膜（5）
が磁気ギャップ（ｇ）として形成される。金属磁性膜
（4）の膜厚Ｔ〔μｍ〕と、磁気ヘッドで情報の記録、
再生が行われる記録媒体（10）の磁性層の保磁力Ｈc
〔Ｏｅ〕は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋２の関係式を満たす。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、強磁性体の一対のコア
の接合面を、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と磁気
ギャップスペーサとなる非磁性体薄膜を介して接合一体
化したコアチップを備えたＭＩＧ型磁気ヘッドに関し、
ＦＤＤ装置やＶＴＲ装置、ＨＤＤ装置などの磁気ヘッド
に使用される。
の接合面を、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と磁気
ギャップスペーサとなる非磁性体薄膜を介して接合一体
化したコアチップを備えたＭＩＧ型磁気ヘッドに関し、
ＦＤＤ装置やＶＴＲ装置、ＨＤＤ装置などの磁気ヘッド
に使用される。
【０００２】
【従来の技術】フロッピーディスクなどの記録媒体に情
報を記録し、或いは、記録された情報を再生する磁気ヘ
ッドは、高密度記録が可能なＭＩＧ型磁気ヘッドが多用
されている。ＭＩＧ型磁気ヘッドは、フェライトなどの
強磁性体から成る一対のコアの接合面にセンダスト［Fe
AlSi］の金属磁性膜を被着形成し、この金属磁性膜同士
を磁気ギャップスペーサとなる非磁性体の薄膜を介して
接合して、一対のコアをガラス接合した薄板状のコアチ
ップを備える。
報を記録し、或いは、記録された情報を再生する磁気ヘ
ッドは、高密度記録が可能なＭＩＧ型磁気ヘッドが多用
されている。ＭＩＧ型磁気ヘッドは、フェライトなどの
強磁性体から成る一対のコアの接合面にセンダスト［Fe
AlSi］の金属磁性膜を被着形成し、この金属磁性膜同士
を磁気ギャップスペーサとなる非磁性体の薄膜を介して
接合して、一対のコアをガラス接合した薄板状のコアチ
ップを備える。
【０００３】上記一対のコアの接合面は、中央部がトラ
ック幅で残されて、その両側にトラック溝が形成され、
中央部とトラック溝にセンダストの金属磁性膜が被着さ
れる。一対のコアの接合面中央部の金属磁性膜が磁性体
薄膜を介して接合され、一対のコアの接合面両側のトラ
ック溝にガラスが溶着されて、一対のコアがガラス接合
される。
ック幅で残されて、その両側にトラック溝が形成され、
中央部とトラック溝にセンダストの金属磁性膜が被着さ
れる。一対のコアの接合面中央部の金属磁性膜が磁性体
薄膜を介して接合され、一対のコアの接合面両側のトラ
ック溝にガラスが溶着されて、一対のコアがガラス接合
される。
【０００４】コアチップの頂端面のコア接合部に露呈す
る磁性体薄膜の端面で、所定のトラック幅の磁気ギャッ
プが形成される。この磁気ギャップを記録媒体の磁性層
に摺接させて、情報の記録、再生が行われる。
る磁性体薄膜の端面で、所定のトラック幅の磁気ギャッ
プが形成される。この磁気ギャップを記録媒体の磁性層
に摺接させて、情報の記録、再生が行われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記ＭＩＧ型磁気ヘッ
ドにおけるセンダストの金属磁性膜は、磁気ギャップの
飽和磁束密度を１０ＫＧ程度まで高くし、その分、記録
媒体への線記録密度を高くする。換言すると、磁気ヘッ
ドの飽和磁束密度は１０ＫＧ程度が限度であり、線記録
密度を上げるのは既に限界に達している。
ドにおけるセンダストの金属磁性膜は、磁気ギャップの
飽和磁束密度を１０ＫＧ程度まで高くし、その分、記録
媒体への線記録密度を高くする。換言すると、磁気ヘッ
ドの飽和磁束密度は１０ＫＧ程度が限度であり、線記録
密度を上げるのは既に限界に達している。
【０００６】すなわち、センダストの金属磁性膜の膜厚
を大きくする程、金属磁性膜の鉄成分による渦電流損が
増し、分解能が低下、特に再生特性が低下するため、膜
厚は約８μｍが上限とされている。この膜厚に規制され
て磁気ヘッドの飽和磁束密度は約１０ＫＧが限度であっ
た。
を大きくする程、金属磁性膜の鉄成分による渦電流損が
増し、分解能が低下、特に再生特性が低下するため、膜
厚は約８μｍが上限とされている。この膜厚に規制され
て磁気ヘッドの飽和磁束密度は約１０ＫＧが限度であっ
た。
【０００７】また、約１０ＫＧの飽和磁束密度の磁気ヘ
ッドで、効果的に情報の重ね書きができる記録媒体の磁
性層の保磁力Ｈcは、約1500Ｏｅまでである。つまり、
記録媒体の保磁力Ｈcが1500Ｏｅを超えて大きくなる
程、磁気ヘッドの１０ＫＧの磁束密度で記録媒体の磁性
層に書き込める深さが浅くなり、重ね書きのオーバライ
ト特性が悪くなる。
ッドで、効果的に情報の重ね書きができる記録媒体の磁
性層の保磁力Ｈcは、約1500Ｏｅまでである。つまり、
記録媒体の保磁力Ｈcが1500Ｏｅを超えて大きくなる
程、磁気ヘッドの１０ＫＧの磁束密度で記録媒体の磁性
層に書き込める深さが浅くなり、重ね書きのオーバライ
ト特性が悪くなる。
【０００８】保磁力Ｈcが1500Ｏｅの記録媒体は、広く
市販されている一般的なものであり、これに上記ＭＩＧ
型磁気ヘッドが適応させてあるのだが、渦電流損による
再生特性が悪く、その改善が難しい問題があった。ま
た、最近の益々の高密度記録化の要望で1500Ｏｅを超え
る記録媒体が市販されるようになっているが、これら高
保磁力の記録媒体に現状のＭＩＧ型磁気ヘッドでは、十
分に対応できない問題もあった。
市販されている一般的なものであり、これに上記ＭＩＧ
型磁気ヘッドが適応させてあるのだが、渦電流損による
再生特性が悪く、その改善が難しい問題があった。ま
た、最近の益々の高密度記録化の要望で1500Ｏｅを超え
る記録媒体が市販されるようになっているが、これら高
保磁力の記録媒体に現状のＭＩＧ型磁気ヘッドでは、十
分に対応できない問題もあった。
【０００９】それ故に、本発明の目的は、１０ＫＧを超
える飽和磁束密度で、1500Ｏｅを超える保磁力の記録媒
体にも有効に適用できるＭＩＧ型磁気ヘッドを提供する
ことにある。
える飽和磁束密度で、1500Ｏｅを超える保磁力の記録媒
体にも有効に適用できるＭＩＧ型磁気ヘッドを提供する
ことにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、強磁性体から
成る一対のコアの接合面に高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜を被着形成して、一対のコアを磁気ギャップスペ
ーサとなる非磁性体薄膜を介して接合一体化したコアチ
ップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドであって、前記金属磁
性膜を、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.
５重量％、残りが鉄の金属組成にすることにより、上記
目的を達成するものである。
成る一対のコアの接合面に高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜を被着形成して、一対のコアを磁気ギャップスペ
ーサとなる非磁性体薄膜を介して接合一体化したコアチ
ップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドであって、前記金属磁
性膜を、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.
５重量％、残りが鉄の金属組成にすることにより、上記
目的を達成するものである。
【００１１】かかるＭＩＧ型磁気ヘッドにおける金属磁
性膜の膜厚Ｔ〔μｍ〕は、記録媒体の磁性層の保磁力Ｈ
ｃ〔Ｏｅ〕との間にＴ＝０.００３Ｈc＋２の関係式を満
たす値に設定することが、安定した高記録密度化を達成
する上で望ましい。
性膜の膜厚Ｔ〔μｍ〕は、記録媒体の磁性層の保磁力Ｈ
ｃ〔Ｏｅ〕との間にＴ＝０.００３Ｈc＋２の関係式を満
たす値に設定することが、安定した高記録密度化を達成
する上で望ましい。
【００１２】
【作用】一対のコアの接合面に被着される金属磁性膜
が、窒素含有の鉄タンタル［FeTaN］にすると、飽和磁
束密度が１４〜１７ＫＧ程度まで向上することが実験に
より分かった。この高飽和磁束密度により、1500Ｏｅ以
上の保磁力Ｈcの記録媒体にも十分良好に記録すること
ができるようになり、線記録密度が一段と向上する。ま
た、ＭＩＧ型磁気ヘッドを1500Ｏｅ程度の一般的保磁力
Ｈcの記録媒体に適用する場合は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋
２〔μｍ、Ｈcの単位はＯｅ〕の関係式から金属磁性膜
の膜厚を８μｍより小さくすれば、従来同様の記録密度
で記録できると共に、膜厚を小さくした分、渦電流損が
減少して再生特性が向上する。
が、窒素含有の鉄タンタル［FeTaN］にすると、飽和磁
束密度が１４〜１７ＫＧ程度まで向上することが実験に
より分かった。この高飽和磁束密度により、1500Ｏｅ以
上の保磁力Ｈcの記録媒体にも十分良好に記録すること
ができるようになり、線記録密度が一段と向上する。ま
た、ＭＩＧ型磁気ヘッドを1500Ｏｅ程度の一般的保磁力
Ｈcの記録媒体に適用する場合は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋
２〔μｍ、Ｈcの単位はＯｅ〕の関係式から金属磁性膜
の膜厚を８μｍより小さくすれば、従来同様の記録密度
で記録できると共に、膜厚を小さくした分、渦電流損が
減少して再生特性が向上する。
【００１３】
【実施例】以下、実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１４】図１（ａ）はＭＩＧ型磁気ヘッドにおける
コアチップ（7）の平面図、図１（ｂ）はその要部拡大
断面図で、鎖線は記録媒体（10）を示している。コアチ
ップ（7）は、一対のフェライトなどのコア（1）をガラ
ス（6）で接合一体化した薄板で、その研磨された頂端
面の中央に磁気ギャップｇが形成される。
コアチップ（7）の平面図、図１（ｂ）はその要部拡大
断面図で、鎖線は記録媒体（10）を示している。コアチ
ップ（7）は、一対のフェライトなどのコア（1）をガラ
ス（6）で接合一体化した薄板で、その研磨された頂端
面の中央に磁気ギャップｇが形成される。
【００１５】一対のコア（1）の接合面（2）は、所定の
トラック幅の中央部と、その両側に形成されたトラック
溝（3）で形成され、中央部とトラック溝（3）にFeTaN
の高飽和磁束密度の金属磁性膜（4）が被着される。一
対のコア（1）は、磁気ギャップスペーサとなる非磁性
体薄膜（5）を介して接合され、ガラス（6）で一体化さ
れる。
トラック幅の中央部と、その両側に形成されたトラック
溝（3）で形成され、中央部とトラック溝（3）にFeTaN
の高飽和磁束密度の金属磁性膜（4）が被着される。一
対のコア（1）は、磁気ギャップスペーサとなる非磁性
体薄膜（5）を介して接合され、ガラス（6）で一体化さ
れる。
【００１６】金属磁性膜（4）の組成は、タンタル８〜
１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重量％、残りが鉄で
ある。このFeTaNの金属磁性膜（4）は、ＭＩＧ型磁気ヘ
ッドの飽和磁束密度を１４〜１７ＫＧまで向上させるこ
とが実験の結果分かっている。
１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重量％、残りが鉄で
ある。このFeTaNの金属磁性膜（4）は、ＭＩＧ型磁気ヘ
ッドの飽和磁束密度を１４〜１７ＫＧまで向上させるこ
とが実験の結果分かっている。
【００１７】金属磁性膜（4）の膜厚Ｔは、後述理由で
５〜８μｍが適当である。例えば、保磁力Ｈcが1500Ｏ
ｅの一般的な記録媒体（10）に対して、金属磁性膜
（4）の膜厚Ｔは約６.５μｍが適当である。また、保磁
力Ｈcが2000Ｏｅの高記録密度化された記録媒体（10）
に対しては、金属磁性膜（4）の膜厚Ｔは約８μｍが適
当である。
５〜８μｍが適当である。例えば、保磁力Ｈcが1500Ｏ
ｅの一般的な記録媒体（10）に対して、金属磁性膜
（4）の膜厚Ｔは約６.５μｍが適当である。また、保磁
力Ｈcが2000Ｏｅの高記録密度化された記録媒体（10）
に対しては、金属磁性膜（4）の膜厚Ｔは約８μｍが適
当である。
【００１８】すなわち、仮に膜厚Ｔが８μｍの金属磁性
膜（4）のＭＩＧ型磁気ヘッドで、保磁力Ｈcが1500Ｏｅ
の記録媒体（10）に情報の書き込みを行うと、飽和磁束
密度が大き過ぎて情報が書き込まれる領域の隣りの情報
を消し、再生特性が悪くなることが実験により認知され
た。そこで膜厚Ｔを段階的に小さくして実験を重ねた結
果、膜厚Ｔを５〜６μｍまで小さくすると、1500Ｏｅの
保磁力Ｈcの記録媒体（10）に従来同様に再生特性良く
記録できることが分かった。
膜（4）のＭＩＧ型磁気ヘッドで、保磁力Ｈcが1500Ｏｅ
の記録媒体（10）に情報の書き込みを行うと、飽和磁束
密度が大き過ぎて情報が書き込まれる領域の隣りの情報
を消し、再生特性が悪くなることが実験により認知され
た。そこで膜厚Ｔを段階的に小さくして実験を重ねた結
果、膜厚Ｔを５〜６μｍまで小さくすると、1500Ｏｅの
保磁力Ｈcの記録媒体（10）に従来同様に再生特性良く
記録できることが分かった。
【００１９】一般的に市販されている1500Ｏｅの保磁力
Ｈcの記録媒体（10）に対して、本発明磁気ヘッドの金
属磁性膜（4）の膜厚Ｔが５〜６μｍと小さくできた
分、金属磁性膜（4）の鉄成分による渦電流損が少なく
なり、結果的に再生特性が向上する。
Ｈcの記録媒体（10）に対して、本発明磁気ヘッドの金
属磁性膜（4）の膜厚Ｔが５〜６μｍと小さくできた
分、金属磁性膜（4）の鉄成分による渦電流損が少なく
なり、結果的に再生特性が向上する。
【００２０】また、2000Ｏｅの保磁力Ｈcの記録媒体（1
0）に対して、金属磁性膜（4）の膜厚Ｔが６μｍ程度で
あると、記録媒体（10）に十分な書き込みが難しくな
る。このような場合、膜厚Ｔを８μｍにして飽和磁束密
度を１７ＫＧ程度まで上げると、記録媒体（10）の磁性
層の深層部まで書き込みができ、重ね書きが容易にでき
るようになる。
0）に対して、金属磁性膜（4）の膜厚Ｔが６μｍ程度で
あると、記録媒体（10）に十分な書き込みが難しくな
る。このような場合、膜厚Ｔを８μｍにして飽和磁束密
度を１７ＫＧ程度まで上げると、記録媒体（10）の磁性
層の深層部まで書き込みができ、重ね書きが容易にでき
るようになる。
【００２１】以上の数値データは実験により得られたも
ので、この実験データから金属磁性膜（4）の膜厚Ｔ
と、記録媒体（10）の磁性層の保磁力Ｈcの間の望まし
い相関関係を求めると、
ので、この実験データから金属磁性膜（4）の膜厚Ｔ
と、記録媒体（10）の磁性層の保磁力Ｈcの間の望まし
い相関関係を求めると、
【００２２】Ｔ＝０.００３Ｈc＋２ なる関係式が得られた。この関係式を満たすように膜厚
Ｔ、保磁力Ｈcを設定することで、ＭＩＧ型磁気ヘッド
の効果的な高記録密度化、高出力化が達成される。
Ｔ、保磁力Ｈcを設定することで、ＭＩＧ型磁気ヘッド
の効果的な高記録密度化、高出力化が達成される。
【００２３】上記実施例のＭＩＧ型磁気ヘッドの各構成
部の物性は、次のように設定することが望ましい。
部の物性は、次のように設定することが望ましい。
【００２４】例えば、一対のコア（1）の熱膨張係数を
９０×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃に、金属磁性膜
（4）の熱膨張係数を１００×１０-7／℃〜１２０×１
０-7／℃にする。このように熱膨張係数を規定すること
で、コア（1）と金属磁性膜（4）の熱膨張係数差が僅か
となり、金属磁性膜（4）の剥離の心配が無くなって、
磁気ヘッドの信頼性が増し、長寿命化が図れる。
９０×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃に、金属磁性膜
（4）の熱膨張係数を１００×１０-7／℃〜１２０×１
０-7／℃にする。このように熱膨張係数を規定すること
で、コア（1）と金属磁性膜（4）の熱膨張係数差が僅か
となり、金属磁性膜（4）の剥離の心配が無くなって、
磁気ヘッドの信頼性が増し、長寿命化が図れる。
【００２５】また、一対のコア（1）に被着形成された
金属磁性膜（4）に磁界を印加したときの金属磁性膜
（4）の歪み量に相当する磁歪定数が、−２×１０-6〜
２×１０- 6であるようにする。このようにすると、金属
磁性膜（4）の剥離、変形が尚更に無くなり、磁気ヘッ
ドの信頼性が増す。
金属磁性膜（4）に磁界を印加したときの金属磁性膜
（4）の歪み量に相当する磁歪定数が、−２×１０-6〜
２×１０- 6であるようにする。このようにすると、金属
磁性膜（4）の剥離、変形が尚更に無くなり、磁気ヘッ
ドの信頼性が増す。
【００２６】さらに、図３に示すように、コア（1）の
接合面（2）にクロム及び酸化膜（8）を被着形成してお
いて、その上に金属磁性膜（4）を被着形成する。この
ようにすると、酸化物であるコア（1）の酸素成分がク
ロム及び酸化膜（8）で遮蔽されて金属磁性膜（4）に達
せず、金属磁性膜（4）の組成、物性が安定して、磁気
ヘッドの特性が安定する。
接合面（2）にクロム及び酸化膜（8）を被着形成してお
いて、その上に金属磁性膜（4）を被着形成する。この
ようにすると、酸化物であるコア（1）の酸素成分がク
ロム及び酸化膜（8）で遮蔽されて金属磁性膜（4）に達
せず、金属磁性膜（4）の組成、物性が安定して、磁気
ヘッドの特性が安定する。
【００２７】次に、図１のＭＩＧ型磁気ヘッドの本発明
による製造方法を、図４（ａ）〜（ｃ）に基づき説明す
る。
による製造方法を、図４（ａ）〜（ｃ）に基づき説明す
る。
【００２８】まず、図４（ａ）に示すような一対の角型
コアブロック（9）を用意し、この各コアブロック（9）
の接合面（2）に定間隔で複数条のトラック溝（3）を形
成する。各トラック溝（3）の間隔はトラック幅に規定
される。
コアブロック（9）を用意し、この各コアブロック（9）
の接合面（2）に定間隔で複数条のトラック溝（3）を形
成する。各トラック溝（3）の間隔はトラック幅に規定
される。
【００２９】次に、図４（ｂ）に示すように、一対のコ
ア（1）のトラック溝（3）を含む接合面（2）に金属磁
性膜（4）を蒸着法で形成する。この蒸着は、図５に示
すように、チャンバー（11）の内部を窒素雰囲気に保っ
て、タンタルと鉄の合金のターゲット（12）からタンタ
ルと鉄をコア（1）に向けて放出させることで行えばよ
い。このような蒸着で、金属磁性膜（4）は難無くし
て、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重
量％、残りが鉄の金属組成にすることができる。
ア（1）のトラック溝（3）を含む接合面（2）に金属磁
性膜（4）を蒸着法で形成する。この蒸着は、図５に示
すように、チャンバー（11）の内部を窒素雰囲気に保っ
て、タンタルと鉄の合金のターゲット（12）からタンタ
ルと鉄をコア（1）に向けて放出させることで行えばよ
い。このような蒸着で、金属磁性膜（4）は難無くし
て、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.５重
量％、残りが鉄の金属組成にすることができる。
【００３０】次に、図４（ｃ）に示すように、一対のコ
ア（1）の各々のトラック溝（3）を対向させ、対向する
金属磁性膜（4）の間に非磁性体薄膜（5）を介在させ、
トラック溝（3）に充填したガラス（6）を溶融させて、
一対のコア（1）をガラス（6）で接合一体化する。この
後、ガラス接合された一対のコア（1）から成るコアブ
ロック複合体を、図４（ｃ）の破線矢印からスライスし
て、複数のコアチップ（7）を得る。
ア（1）の各々のトラック溝（3）を対向させ、対向する
金属磁性膜（4）の間に非磁性体薄膜（5）を介在させ、
トラック溝（3）に充填したガラス（6）を溶融させて、
一対のコア（1）をガラス（6）で接合一体化する。この
後、ガラス接合された一対のコア（1）から成るコアブ
ロック複合体を、図４（ｃ）の破線矢印からスライスし
て、複数のコアチップ（7）を得る。
【００３１】以上の工程で磁気ヘッドを製造すれば、特
別な製造設備を追加すること無く、従来設備を一部変更
するだけで本発明磁気ヘッドが量産性良く、高品質で製
造できる。
別な製造設備を追加すること無く、従来設備を一部変更
するだけで本発明磁気ヘッドが量産性良く、高品質で製
造できる。
【００３２】
【発明の効果】本発明は、以上の構成により、次なる効
果を奏する。
果を奏する。
【００３３】請求項１及び２記載のＭＩＧ型磁気ヘッド
によれば、一対のコアの接合面に被着される窒素含有の
鉄タンタル［FeTaN］の金属磁性膜により、飽和磁束密
度が１４〜１７ＫＧ程度まで向上して、高密度記録化が
容易になり、また、1500Ｏｅ以上の保磁力Ｈcの記録媒
体にも十分良好に記録することができるようになり、各
種記録媒体に有効に適用できる汎用性の高いＭＩＧ型磁
気ヘッドが提供できる。また、ＭＩＧ型磁気ヘッドを15
00Ｏｅ程度の一般的保磁力Ｈcの記録媒体に適用する場
合は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋２の関係式から金属磁性膜の
膜厚を６μｍ程度まで小さくすることができ、この膜厚
を小さくした分、渦電流損が減少して再生特性の一段と
優れたＭＩＧ型磁気ヘッドが提供できる。
によれば、一対のコアの接合面に被着される窒素含有の
鉄タンタル［FeTaN］の金属磁性膜により、飽和磁束密
度が１４〜１７ＫＧ程度まで向上して、高密度記録化が
容易になり、また、1500Ｏｅ以上の保磁力Ｈcの記録媒
体にも十分良好に記録することができるようになり、各
種記録媒体に有効に適用できる汎用性の高いＭＩＧ型磁
気ヘッドが提供できる。また、ＭＩＧ型磁気ヘッドを15
00Ｏｅ程度の一般的保磁力Ｈcの記録媒体に適用する場
合は、Ｔ＝０.００３Ｈc＋２の関係式から金属磁性膜の
膜厚を６μｍ程度まで小さくすることができ、この膜厚
を小さくした分、渦電流損が減少して再生特性の一段と
優れたＭＩＧ型磁気ヘッドが提供できる。
【００３４】請求項３記載のＭＩＧ型磁気ヘッドによれ
ば、金属磁性膜のコアとの熱膨張係数差による剥離の心
配が無く、特性が安定し、長寿命となる。
ば、金属磁性膜のコアとの熱膨張係数差による剥離の心
配が無く、特性が安定し、長寿命となる。
【００３５】請求項４記載のＭＩＧ型磁気ヘッドによれ
ば、金属磁性膜の歪みによる剥離の心配が無く、特性が
安定する。
ば、金属磁性膜の歪みによる剥離の心配が無く、特性が
安定する。
【００３６】請求項５記載のＭＩＧ型磁気ヘッドによれ
ば、コアからの金属磁性膜への酸素成分の移動が回避さ
れて、金属磁性膜の組成、物性が安定し、磁気ヘッドの
特性が安定する。
ば、コアからの金属磁性膜への酸素成分の移動が回避さ
れて、金属磁性膜の組成、物性が安定し、磁気ヘッドの
特性が安定する。
【図１】（ａ）は本発明に係るＭＩＧ型磁気ヘッドの実
施例を示す平面図、（ｂ）は図１（ａ）の磁気ヘッドの
磁気ギャップ部分の拡大断面図
施例を示す平面図、（ｂ）は図１（ａ）の磁気ヘッドの
磁気ギャップ部分の拡大断面図
【図２】図１磁気ヘッドにおける金属磁性膜の膜厚Ｔと
記録媒体の保磁力Ｈcの望ましい相関関係を示すグラフ
記録媒体の保磁力Ｈcの望ましい相関関係を示すグラフ
【図３】本発明の他の実施例を示す平面図
【図４】（ａ）〜（ｃ）は本発明に係る磁気ヘッド製造
方法を説明するための各工程でのコアブロックの平面図
で、（ａ）は溝加工時、（ｂ）は金属磁性膜形成時、
（ｃ）はコアブロック接合時の平面図
方法を説明するための各工程でのコアブロックの平面図
で、（ａ）は溝加工時、（ｂ）は金属磁性膜形成時、
（ｃ）はコアブロック接合時の平面図
【図５】図４（ｂ）に示す金属磁性膜を蒸着する装置の
概略を示す正面図
概略を示す正面図
1 コア 2 接合面 3 トラック溝 4 金属磁性膜［FeTaN］ 5 非磁性体薄膜 6 ガラス 7 コアチップ 8 クロム及び酸化膜 9 コアブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 康司 滋賀県大津市晴嵐２丁目９番１号 関西日 本電気株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 強磁性体から成る一対のコアの接合面に
高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を被着形成して、一
対のコアを磁気ギャップスペーサとなる非磁性体薄膜を
介して接合一体化したコアチップを有するＭＩＧ型磁気
ヘッドであって、 前記金属磁性膜が、タンタル８〜１３重量％、窒素１
０.５〜１４.５重量％、残りが鉄の金属組成であること
を特徴とするＭＩＧ型磁気ヘッド。 - 【請求項２】 金属磁性膜の膜厚Ｔ〔μｍ〕が、磁気ヘ
ッドで情報の記録、再生が行われる記録媒体の磁性層の
保磁力Ｈc〔Ｏｅ〕に対して、Ｔ＝０.００３Ｈc＋２の
関係式を満たすことを特徴とする請求項１記載のＭＩＧ
型磁気ヘッド。 - 【請求項３】 コアの熱膨張係数が９０×１０-7／℃〜
１３０×１０-7／℃で、金属磁性膜の熱膨張係数が１０
０×１０-7／℃〜１２０×１０-7／℃であることを特徴
とする請求項１または２記載のＭＩＧ型磁気ヘッド。 - 【請求項４】 コアに被着形成された金属磁性膜の磁歪
定数が−２×１０-6〜２×１０-6であることを特徴とす
る請求項１又は２記載のＭＩＧ型磁気ヘッド。 - 【請求項５】 コアの接合面にクロム及び酸化膜を介し
て金属磁性膜が被着形成されていることを特徴とする請
求項１又は２記載のＭＩＧ型磁気ヘッド。 - 【請求項６】 強磁性体から成る一対のコアブロックの
接合面に、所定のトラック幅を残して複数のトラック溝
を定間隔で形成する工程、一対のコアブロックのトラッ
ク溝を含む接合面に、窒素雰囲気で鉄とタンタルを蒸着
して、タンタル８〜１３重量％、窒素１０.５〜１４.５
重量％、残りが鉄の金属磁性膜を被着する工程、一対の
コアブロックの接合面を磁気ギャップスペーサとなる非
磁性体薄膜を介してガラス接合する工程を含むことを特
徴とするＭＩＧ型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22105192A JPH0668414A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22105192A JPH0668414A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0668414A true JPH0668414A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16760729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22105192A Pending JPH0668414A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0668414A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1075219C (zh) * | 1995-09-01 | 2001-11-21 | 松下电器产业株式会社 | 磁头及其生产方法和磁记录装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0287308A (ja) * | 1988-09-22 | 1990-03-28 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH02105304A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Canon Electron Inc | 磁気ヘッド |
| JPH02220210A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-09-03 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0340205A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-21 | Sharp Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH03219407A (ja) * | 1989-02-15 | 1991-09-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH046809A (ja) * | 1990-04-24 | 1992-01-10 | Hitachi Metals Ltd | Ｆｅ基軟磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘッド |
-
1992
- 1992-08-20 JP JP22105192A patent/JPH0668414A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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