JPH03152706A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

複合型磁気ヘッド

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JPH03152706A
JPH03152706A JP29070989A JP29070989A JPH03152706A JP H03152706 A JPH03152706 A JP H03152706A JP 29070989 A JP29070989 A JP 29070989A JP 29070989 A JP29070989 A JP 29070989A JP H03152706 A JPH03152706 A JP H03152706A
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JP
Japan
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magnetic
head
gap
ferromagnetic oxide
magnetic head
Prior art date
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JP29070989A
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English (en)
Inventor
Katsuyuki Himeshima
姫島 克行
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH03152706A publication Critical patent/JPH03152706A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、強磁性酸化物のギャップ対向面でギャップに
対して平行に磁性薄膜が形成されているいわゆるMIG
(Metal  In  Gap)型ヘッドの特性改善
に関するものであり、VTR(ビデオテープレコーダ)
等の磁気記録再生装置の高密度記録用磁気ヘッドとして
利用されるものである。
〔従来の技術〕
例えばVTRをはじめとする磁気記録再生装置において
、記録波長は、高密度記録に伴って短波長化が進行し、
記録媒体は、酸化鉄系およびメタル系共に高保磁力が急
速に進行している。
また、磁気ヘッドにおいては、狭トラツク化が高密度の
ため必要になっている。さらに、記録時に高保磁力媒体
に対応させる磁気ヘッドとするには、高飽和磁束密度を
有する材料の選定が重要になり、また、短波長再生に対
応する磁気ヘッドとするには、高周波まで高い透磁率を
有する材料の選定が重要になっている。
特に、記録と再生を兼用するいわゆる自己記録再生型の
磁気ヘッドにおいては、上記の高飽和磁束密度および高
透磁率の両方を有する材料が必要とされている。
一般に上記の磁気ヘッドの材料には、強磁性酸化物であ
るMn−Zn系のフェライト材が用いられている。そし
て、この磁気ヘッドは、保磁力HCが650〜7500
eのコバルト含有酸化鉄を磁性体とする記録媒体に対応
するようになっている。
ところが、上記の磁気ヘッドに用いられるフェライト材
では、保磁力Hcが9000e以上のコバルト含有酸化
物テープや蒸着テープ、或いはl、5000e程度のメ
タル(パウダー)テープを記録媒体とした場合、高密度
記録に不十分なものとなっている。これは、上記のフェ
ライト材の飽和磁束密度Bsが5,000 G程度であ
るため、記録媒体を充分磁化する前に、特に記録時にギ
ャップ部で磁気飽和が起こるためである。
そこで、上記の磁気ヘッドに代えて磁気コア全体を合金
磁性材料で構成したいわゆるバルク型合金ヘッドとした
場合には、このバルク型合金ヘッドが12.000 G
程度の飽和磁束密度を有しているため、高密度記録に十
分対応することができるようになっている。
ところが、この場合には、バルク型合金ヘッドの比抵抗
が小さいため、使用周波数帯域で渦電流損失が増大して
実効透磁率が低下し、充分な再生出力を得ることができ
ないという問題を有している。さらに、このバルク型合
金ヘッドは、フェライト材からなる磁気ヘッド(以下フ
ェライトヘッドと称する)と比較した場合、硬度が低く
耐摩耗性に劣るという問題も有している。
そこで、磁気ヘッドには、上記のバルク型合金ヘッドと
ほぼ同様の工程で作成可能な強磁性酸化物と磁性薄膜と
を複合化した複合型磁気ヘッドとしてのMIGヘッドが
擾案されている。
従来、上記のMIGヘッドには、第3図に示すように、
テープ摺動面において、強磁性酸化物コア31・32の
ギャップ対向面33・33に対して平行に磁性薄膜35
・35が形成されている。
強磁性酸化物コア31・32には主としてMn−Znフ
ェライトが用いられている。このMn−Znフェライト
においては、5 MHzの実効透磁率p′は平均で45
0であり、その組成はFe、0353.5% MnO2
7,5% ZnO19,0%(■o1%)が標準である
。また熱膨張係数αは115 x 10−’/’cであ
る。
これにより、MIGヘッドは、ギャップ対向面33・3
3の近傍が高飽和磁束密度を有した軟磁性Fllllで
形成されているため、高保磁力媒体への記録が可能にな
っている。また、このMIGヘッドは、磁性薄膜35・
35が形成されているため、再生時にバルク型合金ヘッ
ドと異なり高透磁率が得られるようになっている。さら
に、このMIGヘッドは、磁性薄膜35・35以外の磁
気コアの大部分が強磁性酸化物コア31・32であるこ
とより、充分な実効透磁率が得られることで磁気抵抗を
低下させることが可能になっている。
゛このように、複合型磁気ヘッドであるMIGヘッドは
、上述のフェライト材による磁気ヘッドやバルク型合金
ヘッドと比較して、高保磁力媒体への自己記録再生出力
において優れた特性を示し、高密度記録対応用ヘッドと
して最適なものとなっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来の複合型磁気ヘッドにおいて、自己録画再生を
した場合、従来のフェライトヘッドと比較すると複合型
磁気ヘッドの方が出力特性において優れている。ところ
が、記録特性と再生特性とに分離すると、記録特性は複
合型ヘッドの方が優れているが、再生特性はフェライト
ヘッドの方が優れている。
即ち、複合型磁気ヘッドがフェライトヘッドよりも出力
特性において優れているのは、記録特性の影響であると
言える。従って、フェライトヘッドで記録された磁気記
録媒体を複合型磁気ヘッドで再生した場合、複合型磁気
ヘッドは出力特性が十分でないという問題点を有してい
る。
また、複合型磁気ヘッドにおいては、テープ摺動面上に
おける磁性薄膜の膜厚はギャップ面に対して平行に数μ
m程度にしかすぎず、はとんどMn−Znフェライトを
代表とする強磁性酸化物で構成されているため、フェラ
イトヘッドと同様に、再生時に摺動ノイズが発生すると
いう問題点をも有している。
複合型磁気ヘッドにおける強磁性酸化物コアの実効透磁
率はフェライトヘッドと比較すると、再生出力に関する
依存度が小さい。この理由として複合型磁気ヘッドの強
磁性酸化物コアであるフェライト材料は5 MHzの実
効透磁率μ′が平均450であるのに対し、磁性薄膜の
5 MHzの実効透磁率μ′は1,000以上であるた
め、再生出力は強磁性酸化物コアよりも磁性薄膜の影響
が大きいと思われる。
従って、本発明においては、複合型磁気ヘッド全体の磁
気抵抗を小さくしない程度に強磁性酸化物コアの実効透
磁率を下げ、磁性薄膜に磁束が集中しやすい構造にした
複合型磁気ヘッドを提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
請求項第1項の発明に係る複合型磁気ヘッドは、上記の
課題を解決するために、磁性′riIWAが強磁性酸化
物コアのギャップ対向面上にギャップに対して平行に形
成されている複合型ヘッドにおいて、上記強磁性酸化物
コアの5 MH2の実効透磁率μ′が400以下である
ことを特徴としている。
請求項第2項の発明に係る複合型磁気ヘッドは、上記の
課題を解決するために、磁性薄膜が強磁性酸化物コアの
ギャップ対向面上にギャップに対して平行に形成されて
いる複合型ヘッドにおいて、上記強磁性酸化物コアの5
MHzの実効透磁率μ′が400以下であり、かつ熱膨
張係数αが125 X 10−’/”C以上であること
を特徴としている。
〔作 用〕
上記の構成によれば、複合型磁気ヘッドにおいて、強磁
性酸化物コアの5 MHzの実効透磁率μ′は400以
下となる。
即ち、磁気ヘッド全体の磁気抵抗を小さくしない程度に
強磁性酸化物コアの実効透磁率を下げることにより、磁
性薄膜に磁束が集中しやすくなるとともに、再生時に発
生ずる摺動ノイズが低下する。従って、複合型磁気ヘッ
ドは、フェライトヘッドよりも再生出力が優れさらに摺
動ノイズを小さくすることが可能となる。
また、強磁性酸化物コアの5 MHzの実効透磁率μ′
が400以下となり、かつ熱膨張係数αが125 x 
10−’/”C以上となることにより、強磁性酸化物コ
アと磁性薄膜との熱膨張係数の差が縮まる。その結果、
複合型磁気ヘッドの残留応力が小さくなり、磁性薄膜の
磁気特性が改善される。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて説明す
れば、以下のとおりである。
本発明に係る複合型磁気ヘッドは、第1図に示すように
、5 MHzの実効透磁率μ′が400以下である強磁
性酸化物コアト2と、これらの強磁性酸化物コアト2間
に形成されたギャップ7に対し平行に形成された下地膜
4・4と磁性薄膜5・5とを有している。
強磁性酸化物コアト2としてのMn−Znフェライトは
、たとえば組成がF ezOx 62.5%MnO21
,5% Zn016%(−01%)のものが−例として
挙げられる。この材料の5 MHzの実効透磁率μ′は
350であり、熱膨張係数αは135 X 10−7/
℃である。また、透磁率測定は外径511I11、内径
3am、厚み0.45wmの超音波抜取によるμリング
を作製し、lOターンの巻線を施したもののインダクタ
ンスを測定し実効透磁率を測定する。なおμリングは(
111)面を平面にとっている。
上記の強磁性酸化物コアト2には、所定幅を有し、かつ
ギャップ7に対し平行な面を有する突出部1a・2aが
形成されている。また、これらの突出部1a・2aの端
面には、ギャップ対向面3・3が形成されている。
上記の突出部1a・2aの両側面、強磁性酸化物コアト
2の傾斜面1b−1b・2b・2b。
およびギャップ対向面3・3には、10〜200人の厚
みで下地膜4・4が形成されている。
さらに、前記の下地膜4・4には、2〜6μmの厚みで
、高透磁率および高飽和密度を有する磁性薄膜5・5が
形成されている。そして、これらの磁性薄膜5・5は、
例えばFe−A1!−Si合金や、Cr、Ti、或いは
Nb等を添加したFe−AN−Si合金により形成され
ている。
上記の磁性薄膜5・5および下地膜4・4が形成された
強磁性酸化物コアト2同士は、突出部la・2a間にギ
ャップ材として厚みが約0.2〜0.3μmの非磁性材
料を介装した状態でギャップ対向面3・3を互いに突き
合わせて溶融ガラス6により固着されている。
尚、上記の非磁性材料には、SiO□、ZrO。
、Ta、O,、またはA 12 z 03等が主として
用いられている。
上記の構成において、複合型磁気ヘッドの製造方法を第
2図に基づいて以下に説明する。
先ず、第2図(a)に示すように、コアとなる強磁性酸
化物材料の一方のブロック11に外部巻線用溝11aと
ガラス充填用溝11bと内部巻線用溝11cとを形成す
る。次いで、第2図(b)に示すように、同じくニアと
なる酸化物磁性材料の他方のブロック12に外部巻線用
溝12aとガラス充填用溝12bとを形成する。
そして、上記のブロック11・12におけるそれぞれの
ギャップ対向面3・3を研磨する。この際、最終仕上げ
研磨は、メカノケミカルボリジングまたはフロートポリ
ジング等の精密加工を行なうことで、ギャップ対向面3
・3の加工変質層の発生を極力抑制するようにする。
この後、第2図(C)および第2図(d)に示すように
、所定のトラック幅を得るためのトラック溝8・・・を
形成する。そして、ギャップ対向面3・3の表層付近の
加工変質層をエツチングにより除去した後、第2図(e
)・(f)・(g)に示すように、下地膜4をスパッタ
リング等により10〜200人の厚みで形成する。
この際、下地膜4・4の膜厚が10人より薄い場合には
、下地膜4・4が不連続となって島状に形成されるため
、連続膜にならず膜としての効果はなくなる。一方、下
地膜4・4の膜厚が200人より厚い場合には、下地膜
4・4自体がギャップ層として作用することになる。従
って、下地膜4・4の膜厚は、10〜200人の範囲が
好適なものとなる。
次に、例えばFe−Af!−Si合金からなる磁性薄膜
5・5を下地膜4・4上にスパッタリング等により2〜
6μmの厚みで形成する。そして、磁性薄膜5・5にお
けるギャップ形成部位にギャップ材として、SiO□等
の非磁性材料を約0.2〜0.3μmの厚みで形成する
この後、第2図(h)に示すように、上記のブロック1
1・12同士をギャップ対向面3・3を突き合わせて貼
り合わせ、ガラス充填用溝11b・12bおよび内部巻
線溝11cと巻線溝対向面12cとにより形成される空
洞部位に溶融ガラス6・6を!!置して加熱溶着する。
そして、第2図(i)に示すように、このようにして得
られたブロックIf−12におけるテープ摺動面9に、
曲面を形成した後、図示2点鎖線a・・・に沿って切断
して、第2図(j)に示すヘッドチップ13とする。そ
して、このヘッドチップ13を図示しないホルダーベー
スに接着して巻線を施して磁気ヘッドとする。
このように、5 MHzの実効透磁率μ′が400以下
の強磁性酸化物コアト2には、第1図に示すように、ギ
ャップ7に対し平行に、下地膜4・4と磁性薄膜5・5
が形成されている。この下地膜は、磁性薄膜5・5がギ
ャップ7に対し平行に形成されている複合型磁気ヘッド
である平行型MIGヘッド特有の現象であるコンタ−効
果(周波数特性にうねりが発生する現象)を防止するた
めに形成される。この下地膜を形成することにより、強
磁性酸化物コアト2のフェライトと磁性薄膜5・5のセ
ンダストとの主として酸素の拡散、さらにはセンダスト
初期層の配向性、およびセンダストの密着性が改善され
、上記うねりを低減することができる。
また、複合型磁気ヘッド全体の磁気抵抗を小さくしない
程度に強磁性酸化物を従来の構造と変え、磁性薄膜に磁
束を集中しやすい構造にすることにより、出力が向上す
るということが確認され”ζいる。(1989年情報通
信学会全国大会講演論文集、p5−42) この場合、フェライトヘッドでの磁化容易方向に対し、
複合型磁気ヘッドにおいては同一結晶面で磁化困難方向
にギャップ面を対向させることにより、磁性薄膜に磁束
を集中しやすいようにし、出力を向上させるという目的
を達成することが可能となった。本発明においては、構
造を変える(フェライトへノドでの磁化困難方向にギャ
ップ面を対向させる)代わりに、5MHzの実効透磁率
を磁気抵抗が小さくならない程度に下げることにより、
同様の効果を得ることができる。なお、本発明の方法と
フェライトヘッドでの磁化困難方向にギャップ面を対向
させる方法を組み合わせることも可能である。
さらにまた、磁性薄膜5・5にセンダスト系合金(α−
150X 10−’/”C)をはじめとする熱膨張係数
の大きい材料を使用する場合、強磁性酸化物コアト2の
材料として、5−Hzの実効透磁率μ′が400以下で
あり、かつ熱膨張係数αが従来の強磁性酸化物(α=1
17xlO−’/’c)よりも大きくなる組成をもつも
のを選ぶことにより、上記のように複合型磁気ヘッドの
出力を向上させることができるとともに、強磁性酸化物
コアト2と磁性薄膜5・5との熱膨張係数の差が縮まる
ことから、複合型磁気ヘッドの残留応力を小さくするこ
とができる。
〔発明の効果〕
本発明に係る複合型磁気ヘッドは、以Eのように、強磁
性酸化物コアの5 MHzの実効透磁率μが400以下
である。つまり、複合型磁気ヘッド全体の磁気抵抗を小
さくしない程度に強磁性酸化物コアの実効透磁率を下げ
ることにより、磁性薄膜に磁束が集中しやすくなり、出
力を向上することが可能となる。さらに強磁性酸化物コ
アの実効透磁率を下げることにより、再生時に発生する
摺動ノイズを抑制することが可能となる。
また、本発明の複合型磁気ヘッドは、以上のように、強
磁性酸化物コアの5 MHzの実効透磁率μ′が400
以下であり、かつ熱膨張係数αが125 X 10−’
/”C以上であるので、磁性薄膜にセンダスト系合金を
はじめとする熱膨張係数の大きい材料を使用する場合、
強磁性酸化物コアの実効透磁率を下げ、なおかつ熱膨張
係数αを大きくする組成の強磁性酸化物を選定すれば、
強磁性酸化物コアと磁性薄膜との熱膨張係数の差が縮ま
り、結果的に残留応力が小さくなることから、磁性薄膜
の磁気特性が改善され複合型磁気ヘッドの出力を向上さ
せることが可能となる。
第2図(g)は、ブロックに形成された下地膜および磁
性薄膜の状態を示す説明図である。
第2図(h)〜(j)は、それぞれ複合型磁気ヘッドの
各製造過程を示す斜視図である。
第3図は、従来例を示すもので、複合型磁気ヘッドのテ
ープ摺動面の状態を示す説明図である。
1・2は強磁性酸化物コア、3はギャップ対向面、5は
磁性薄膜、7はギャップである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁性薄膜が強磁性酸化物コアのギャップ対向面にギ
    ャップに対して平行に形成されている複合型磁気ヘッド
    において、 上記強磁性酸化物コアの5MHzの実効透磁率μ′が4
    00以下であることを特徴とする複合型磁気ヘッド。 2、磁性薄膜が強磁性酸化物コアのギャップ対向面にギ
    ャップに対して平行に形成されている複合型磁気ヘッド
    において、 上記強磁性酸化物コアの5MHzの実効透磁率μ′が4
    00以下であり、かつ熱膨張係数αが125×10^−
    ^7/℃以上であることを特徴とする複合型磁気ヘッド
JP29070989A 1989-11-08 1989-11-08 複合型磁気ヘッド Pending JPH03152706A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116997244A (zh) * 2023-08-01 2023-11-03 北京航空航天大学青岛研究院 磁通聚集器及制造方法、磁传感芯片

Cited By (1)

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