JPH07326017A - 磁気ヘッド並びにその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気ヘッド並びにその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置Info
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- JPH07326017A JPH07326017A JP12107794A JP12107794A JPH07326017A JP H07326017 A JPH07326017 A JP H07326017A JP 12107794 A JP12107794 A JP 12107794A JP 12107794 A JP12107794 A JP 12107794A JP H07326017 A JPH07326017 A JP H07326017A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高いヘッド効率を有し、かつ、ヘッドチップ
化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッドを実現する。 【構成】 酸化物磁性材料コア１の巻線溝部７の上に、
第１の高飽和磁束密度材料３を薄膜形成し、ＳｉＯ2 等
からなる絶縁層４を介してさらに第１の高飽和磁束密度
材料３を薄膜形成する。巻線溝部７の部分に積層された
第１の高飽和磁束密度材料３及びギャップ対向面９の上
に、第２の高飽和磁束密度材料２を薄膜形成する。第１
の高飽和磁束密度材料３と第２の高飽和磁束密度材料２
とを絶縁層４によって絶縁する。ギャップ対向面９の上
に非磁性材からなるギャップ部材を突き合わせ、磁気ギ
ャップ５を形成する。この場合、第１の高飽和磁束密度
材料３が第２の高飽和磁束密度材料２と酸化物磁性材料
コア１のほぼ中間の熱膨張係数を有するようにする。
化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッドを実現する。 【構成】 酸化物磁性材料コア１の巻線溝部７の上に、
第１の高飽和磁束密度材料３を薄膜形成し、ＳｉＯ2 等
からなる絶縁層４を介してさらに第１の高飽和磁束密度
材料３を薄膜形成する。巻線溝部７の部分に積層された
第１の高飽和磁束密度材料３及びギャップ対向面９の上
に、第２の高飽和磁束密度材料２を薄膜形成する。第１
の高飽和磁束密度材料３と第２の高飽和磁束密度材料２
とを絶縁層４によって絶縁する。ギャップ対向面９の上
に非磁性材からなるギャップ部材を突き合わせ、磁気ギ
ャップ５を形成する。この場合、第１の高飽和磁束密度
材料３が第２の高飽和磁束密度材料２と酸化物磁性材料
コア１のほぼ中間の熱膨張係数を有するようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、８ｍｍＶＴＲ、ディジ
タルＶＴＲ、ＤＡＴ等の高密度記録再生を行うと共に優
れた機能性を有する磁気ヘッド並びにその製造方法及び
それを用いた磁気記録再生装置に関する。
タルＶＴＲ、ＤＡＴ等の高密度記録再生を行うと共に優
れた機能性を有する磁気ヘッド並びにその製造方法及び
それを用いた磁気記録再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＶＴＲ機器の高画質化及び小型化に伴
い、磁気ヘッド、テープ間において従来よりもさらに高
密度な記録再生を行うことが必要となった。このため、
テープへの記録フォーマットはさらに短波長化、狭トラ
ックピッチ化されると共に、高転送レートが要求され、
記録再生周波数の高周波化が図られている。
い、磁気ヘッド、テープ間において従来よりもさらに高
密度な記録再生を行うことが必要となった。このため、
テープへの記録フォーマットはさらに短波長化、狭トラ
ックピッチ化されると共に、高転送レートが要求され、
記録再生周波数の高周波化が図られている。
【０００３】このような記録密度の向上を図るに当た
り、記録媒体としては保持力を高くする傾向にあるた
め、磁気ヘッドとしては狭ギャップでも十分な記録能力
を備えていることが要求される。また、狭トラックとな
っても高いヘッド出力を有するものが望まれる。また、
記録再生周波数の高周波化に対しても考慮する必要があ
る。さらに、民生機器としての対応を考えた場合、量産
性に優れていることもヘッドとして具備していなければ
ならない要素となる。
り、記録媒体としては保持力を高くする傾向にあるた
め、磁気ヘッドとしては狭ギャップでも十分な記録能力
を備えていることが要求される。また、狭トラックとな
っても高いヘッド出力を有するものが望まれる。また、
記録再生周波数の高周波化に対しても考慮する必要があ
る。さらに、民生機器としての対応を考えた場合、量産
性に優れていることもヘッドとして具備していなければ
ならない要素となる。
【０００４】以上のような要求に対し、以下のような磁
気ヘッドが実用化されている。図７は従来技術における
磁気ヘッドのヘッド摺動面を示す平面図である。図７に
示すように、酸化物磁性材料コア１５のギャップ対向面
２１及びトラック幅規制溝２０の上には、それに平行に
高飽和磁束密度材料１６が薄膜形成されており、これに
より記録能力の向上が図られている。ここで、トラック
幅規制溝２０は、ヘッド効率を高めるために、絞り込ま
れたような形に形成されている。
気ヘッドが実用化されている。図７は従来技術における
磁気ヘッドのヘッド摺動面を示す平面図である。図７に
示すように、酸化物磁性材料コア１５のギャップ対向面
２１及びトラック幅規制溝２０の上には、それに平行に
高飽和磁束密度材料１６が薄膜形成されており、これに
より記録能力の向上が図られている。ここで、トラック
幅規制溝２０は、ヘッド効率を高めるために、絞り込ま
れたような形に形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構成を有する従来の磁気ヘッドの場合、ヘッド効率を
さらに高め、再生特性の良好なヘッドを得ようとする
と、図８のヘッド断面図（図７のＩＩ−ＩＩ断面図）に
示すように、最短の磁路となる巻線溝１９の上の高飽和
磁束密度材料１６の透磁率を大きくすることはもちろん
のこと、高飽和磁束密度材料１６の厚みを大きくして磁
気抵抗を下げる必要がある。
な構成を有する従来の磁気ヘッドの場合、ヘッド効率を
さらに高め、再生特性の良好なヘッドを得ようとする
と、図８のヘッド断面図（図７のＩＩ−ＩＩ断面図）に
示すように、最短の磁路となる巻線溝１９の上の高飽和
磁束密度材料１６の透磁率を大きくすることはもちろん
のこと、高飽和磁束密度材料１６の厚みを大きくして磁
気抵抗を下げる必要がある。
【０００６】しかし、単純に高飽和磁束密度材料１６の
厚みを大きくすると、渦電流による高周波損失が増大
し、却ってヘッド効率を低下させてしまう虞れがある。
また、主コアの酸化物磁性材料コア１５と、一般的に用
いられるＦｅやＣｏを主成分とする高飽和磁束密度材料
１６との間には熱膨張係数に差があるため、高飽和磁束
密度材料１６の厚みが大きくなると、ヘッドの熱処理工
程で発生する残留応力も増加し、酸化物磁性材料コア１
５及び高飽和磁束密度材料１６の両方とも巻線溝１９近
傍の透磁率を劣化させてしまい、その結果、ヘッド効率
が低下すると共に、酸化物磁性材料コア１５及び高飽和
磁束密度材料１６がその界面から剥離し、ヘッドチップ
化を困難にするという課題があった。
厚みを大きくすると、渦電流による高周波損失が増大
し、却ってヘッド効率を低下させてしまう虞れがある。
また、主コアの酸化物磁性材料コア１５と、一般的に用
いられるＦｅやＣｏを主成分とする高飽和磁束密度材料
１６との間には熱膨張係数に差があるため、高飽和磁束
密度材料１６の厚みが大きくなると、ヘッドの熱処理工
程で発生する残留応力も増加し、酸化物磁性材料コア１
５及び高飽和磁束密度材料１６の両方とも巻線溝１９近
傍の透磁率を劣化させてしまい、その結果、ヘッド効率
が低下すると共に、酸化物磁性材料コア１５及び高飽和
磁束密度材料１６がその界面から剥離し、ヘッドチップ
化を困難にするという課題があった。
【０００７】本発明は、従来技術における上記のような
課題を解決するため、高いヘッド効率を有し、かつ、ヘ
ッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッド並び
にその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置を提
供することを目的とする。
課題を解決するため、高いヘッド効率を有し、かつ、ヘ
ッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッド並び
にその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る磁気ヘッドの構成は、主コアが酸化物
磁性材料からなり、各々のコア半体のギャップ対向面に
は高飽和磁束密度材料が形成されており、また、少なく
とも一方のコア半体は、巻線溝部が設けられたＣ型コア
形状を有する磁気ヘッドであって、前記高飽和磁束密度
材料が、前記巻線溝部に接し、絶縁層を介して積層され
た第１の高飽和磁束密度材料と、前記第１の高飽和磁束
密度材料及びギャップ対向面の上に形成された第２の高
飽和磁束密度材料とからなることを特徴とする。
め、本発明に係る磁気ヘッドの構成は、主コアが酸化物
磁性材料からなり、各々のコア半体のギャップ対向面に
は高飽和磁束密度材料が形成されており、また、少なく
とも一方のコア半体は、巻線溝部が設けられたＣ型コア
形状を有する磁気ヘッドであって、前記高飽和磁束密度
材料が、前記巻線溝部に接し、絶縁層を介して積層され
た第１の高飽和磁束密度材料と、前記第１の高飽和磁束
密度材料及びギャップ対向面の上に形成された第２の高
飽和磁束密度材料とからなることを特徴とする。
【０００９】また、前記磁気ヘッドの構成においては、
第１及び第２の高飽和磁束密度材料が、主コアの酸化物
磁性材料よりも高い透磁率を有し、かつ、主磁路がその
高飽和磁束密度材料となるのが好ましい。また、前記磁
気ヘッドの構成においては、第１の高飽和磁束密度材料
が、第２の高飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ
中間の熱膨張係数を有するのが好ましい。
第１及び第２の高飽和磁束密度材料が、主コアの酸化物
磁性材料よりも高い透磁率を有し、かつ、主磁路がその
高飽和磁束密度材料となるのが好ましい。また、前記磁
気ヘッドの構成においては、第１の高飽和磁束密度材料
が、第２の高飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ
中間の熱膨張係数を有するのが好ましい。
【００１０】また、本発明に係る磁気ヘッド並びにその
製造方法の構成は、酸化物磁性材料からなる少なくとも
一方のコアブロック半体に巻線溝加工を施した後、巻線
溝部及びそれと連なるギャップ対向面に絶縁層を介して
第１の高飽和磁束密度材料を積層形成する工程と、前記
ギャップ対向面の上の前記第１の高飽和磁束密度材料及
び絶縁層を除去すると共にその面を鏡面加工する工程
と、前記各々のコアブロック半体に所定のトラック幅と
なるようにトラック幅規制溝を形成する工程と、前記ギ
ャップ対向面及びトラック幅規制面の上に所定の厚さで
第２の高飽和磁束密度材料を形成する工程と、前記各々
のコアブロック半体のギャップ対向面の上にギャップ部
材を形成した後、所定の温度で前記各々のコアブロック
半体を突き合わせてガラス融着すると同時に前記トラッ
ク幅規制溝内にガラスを充填する工程と、コアブロック
を切断してヘッドチップを形成する工程とを少なくとも
備えたものである。
製造方法の構成は、酸化物磁性材料からなる少なくとも
一方のコアブロック半体に巻線溝加工を施した後、巻線
溝部及びそれと連なるギャップ対向面に絶縁層を介して
第１の高飽和磁束密度材料を積層形成する工程と、前記
ギャップ対向面の上の前記第１の高飽和磁束密度材料及
び絶縁層を除去すると共にその面を鏡面加工する工程
と、前記各々のコアブロック半体に所定のトラック幅と
なるようにトラック幅規制溝を形成する工程と、前記ギ
ャップ対向面及びトラック幅規制面の上に所定の厚さで
第２の高飽和磁束密度材料を形成する工程と、前記各々
のコアブロック半体のギャップ対向面の上にギャップ部
材を形成した後、所定の温度で前記各々のコアブロック
半体を突き合わせてガラス融着すると同時に前記トラッ
ク幅規制溝内にガラスを充填する工程と、コアブロック
を切断してヘッドチップを形成する工程とを少なくとも
備えたものである。
【００１１】また、本発明に係る磁気記録再生装置の構
成は、前記構成を有する磁気ヘッドを一つの回転シリン
ダに複数個搭載してなるものである。
成は、前記構成を有する磁気ヘッドを一つの回転シリン
ダに複数個搭載してなるものである。
【００１２】
【作用】前記本発明の磁気ヘッドの構成によれば、最短
の磁路となる酸化物磁性材料コアの巻線溝部の上に高い
透磁率を有する第１及び第２の高飽和磁束密度材料が絶
縁層を介して積層されていることにより、高飽和磁束密
度材料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流によ
る高周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料
の断面積を大きくすることができるので、主磁路の磁気
抵抗が下がってヘッド効率が向上する。また、第１の高
飽和磁束密度材料が、ギャップ対向面に接する第２の高
飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ中間の熱膨張
係数を有することにより、第１の高飽和磁束密度材料が
バッファー膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程
における界面での残留応力の発生や剥離を低減すること
ができ、その結果、第２の高飽和磁束密度材料及び酸化
物磁性材料コアの熱応力による巻線溝部での透磁率の低
下を抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向
上させることができる。従って、高いヘッド効率を有
し、かつ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁
気ヘッド提供することができる。
の磁路となる酸化物磁性材料コアの巻線溝部の上に高い
透磁率を有する第１及び第２の高飽和磁束密度材料が絶
縁層を介して積層されていることにより、高飽和磁束密
度材料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流によ
る高周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料
の断面積を大きくすることができるので、主磁路の磁気
抵抗が下がってヘッド効率が向上する。また、第１の高
飽和磁束密度材料が、ギャップ対向面に接する第２の高
飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ中間の熱膨張
係数を有することにより、第１の高飽和磁束密度材料が
バッファー膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程
における界面での残留応力の発生や剥離を低減すること
ができ、その結果、第２の高飽和磁束密度材料及び酸化
物磁性材料コアの熱応力による巻線溝部での透磁率の低
下を抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向
上させることができる。従って、高いヘッド効率を有
し、かつ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁
気ヘッド提供することができる。
【００１３】また、前記本発明方法の構成によれば、ヘ
ッド効率の良い磁気ヘッドを効率良く合理的に作製する
ことができる。また、前記本発明の磁気記録再生装置の
構成によれば、高いヘッド効率を有する磁気ヘッドを備
えていることにより、高性能及び高密度な磁気記録再生
装置を実現することができる。
ッド効率の良い磁気ヘッドを効率良く合理的に作製する
ことができる。また、前記本発明の磁気記録再生装置の
構成によれば、高いヘッド効率を有する磁気ヘッドを備
えていることにより、高性能及び高密度な磁気記録再生
装置を実現することができる。
【００１４】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的
に説明する。図１は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例
におけるヘッド摺動面を示す平面図、図２は図１のＩ−
Ｉ断面図、図３は図２の部分拡大断面図である。
に説明する。図１は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例
におけるヘッド摺動面を示す平面図、図２は図１のＩ−
Ｉ断面図、図３は図２の部分拡大断面図である。
【００１５】図１、図２、図３に示すように、酸化物磁
性材料コア１には、所定のトラック幅となるようにトラ
ック幅規制溝８が設けられており、このトラック幅規制
溝８内にはガラス６が充填されている。酸化物磁性材料
コア１の巻線溝部７の上には、第１の高飽和磁束密度材
料３が約３μｍの厚さで薄膜形成されており、ＳｉＯ 2
等からなる絶縁層４を介してさらに第１の高飽和磁束密
度材料３が約３μｍの厚さで薄膜形成されている。ま
た、巻線溝部７に積層された第１の高飽和磁束密度材料
３及びギャップ対向面９の上には、第２の高飽和磁束密
度材料２が約３μｍの厚さで薄膜形成されている。ここ
で、第１の高飽和磁束密度材料３と第２の高飽和磁束密
度材料２とは絶縁層４によって絶縁されている。そし
て、ギャップ対向面９の上に非磁性材からなるギャップ
部材が突き合わされることにより、磁気ギャップ５が形
成されている。
性材料コア１には、所定のトラック幅となるようにトラ
ック幅規制溝８が設けられており、このトラック幅規制
溝８内にはガラス６が充填されている。酸化物磁性材料
コア１の巻線溝部７の上には、第１の高飽和磁束密度材
料３が約３μｍの厚さで薄膜形成されており、ＳｉＯ 2
等からなる絶縁層４を介してさらに第１の高飽和磁束密
度材料３が約３μｍの厚さで薄膜形成されている。ま
た、巻線溝部７に積層された第１の高飽和磁束密度材料
３及びギャップ対向面９の上には、第２の高飽和磁束密
度材料２が約３μｍの厚さで薄膜形成されている。ここ
で、第１の高飽和磁束密度材料３と第２の高飽和磁束密
度材料２とは絶縁層４によって絶縁されている。そし
て、ギャップ対向面９の上に非磁性材からなるギャップ
部材が突き合わされることにより、磁気ギャップ５が形
成されている。
【００１６】基板となる酸化物磁性材料コア１として
は、ＭｎＺｎ単結晶フェライトを用いた。また、高飽和
磁束密度を有しかつ高い透磁率を有する高飽和磁束密度
材料としては、Ｆｅ系窒化膜、Ｃｏ系窒化膜、Ｃｏ系ア
モルファス膜、センダスト膜などが挙げられるが、本実
施例においては、第１及び第２の高飽和磁束密度材料
３、２として、それぞれ成膜条件の異なるＦｅ系窒化膜
を用いた。下記（表１）に、各々の磁性材料の熱膨張係
数及び透磁率の値を示す。
は、ＭｎＺｎ単結晶フェライトを用いた。また、高飽和
磁束密度を有しかつ高い透磁率を有する高飽和磁束密度
材料としては、Ｆｅ系窒化膜、Ｃｏ系窒化膜、Ｃｏ系ア
モルファス膜、センダスト膜などが挙げられるが、本実
施例においては、第１及び第２の高飽和磁束密度材料
３、２として、それぞれ成膜条件の異なるＦｅ系窒化膜
を用いた。下記（表１）に、各々の磁性材料の熱膨張係
数及び透磁率の値を示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】第１及び第２の高飽和磁束密度材料３、２
は、いずれもＦｅを主成分とする窒化膜であるが、窒素
分圧及びＡｒガス分圧の条件を適当に選ぶことにより、
上記（表１）に示すように、第１の高飽和磁束密度材料
３が第２の高飽和磁束密度材料２と酸化物磁性材料コア
（ＭｎＺｎ単結晶フェライト）１のほぼ中間の熱膨張係
数を有するようにした。
は、いずれもＦｅを主成分とする窒化膜であるが、窒素
分圧及びＡｒガス分圧の条件を適当に選ぶことにより、
上記（表１）に示すように、第１の高飽和磁束密度材料
３が第２の高飽和磁束密度材料２と酸化物磁性材料コア
（ＭｎＺｎ単結晶フェライト）１のほぼ中間の熱膨張係
数を有するようにした。
【００１９】次に、本発明の磁気ヘッドと従来の磁気ヘ
ッドを各々２０個ずつ作製し、ヘッド出力特性を評価し
た。測定用ヘッドの主な諸元は、トラック幅を１５μ
ｍ、ギャップ長を０．２０μｍ、ギャップ深さを１５μ
ｍとし、特性評価用のテープとして市販の８ｍｍＶＴＲ
用メタル蒸着テープを用い、相対速度を１０ｍ／ｓ、記
録再生周波数を２０ＭＨｚとした。
ッドを各々２０個ずつ作製し、ヘッド出力特性を評価し
た。測定用ヘッドの主な諸元は、トラック幅を１５μ
ｍ、ギャップ長を０．２０μｍ、ギャップ深さを１５μ
ｍとし、特性評価用のテープとして市販の８ｍｍＶＴＲ
用メタル蒸着テープを用い、相対速度を１０ｍ／ｓ、記
録再生周波数を２０ＭＨｚとした。
【００２０】それぞれの磁気ヘッドの出力特性を評価
し、その平均値とばらつきを求めた。その結果を図５に
示す。ヘッドの出力特性を比較したところ、本発明の磁
気ヘッドを採用すれば、従来の磁気ヘッドに対して平均
で約２ｄＢの特性改善を図れることが分かった。このよ
うにヘッド効率が向上したのは、最短の磁路となる酸化
物磁性材料コア１の巻線溝部７の上に高い透磁率を有す
る第１及び第２の高飽和磁束密度材料３、２が絶縁層４
を介して積層されていることにより、高飽和磁束密度材
料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流による高
周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料の断
面積を大きくすることができ、主磁路の磁気抵抗を下げ
ることができたからであると考えられる。
し、その平均値とばらつきを求めた。その結果を図５に
示す。ヘッドの出力特性を比較したところ、本発明の磁
気ヘッドを採用すれば、従来の磁気ヘッドに対して平均
で約２ｄＢの特性改善を図れることが分かった。このよ
うにヘッド効率が向上したのは、最短の磁路となる酸化
物磁性材料コア１の巻線溝部７の上に高い透磁率を有す
る第１及び第２の高飽和磁束密度材料３、２が絶縁層４
を介して積層されていることにより、高飽和磁束密度材
料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流による高
周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料の断
面積を大きくすることができ、主磁路の磁気抵抗を下げ
ることができたからであると考えられる。
【００２１】また、第１の高飽和磁束密度材料３が、ギ
ャップ対向面９に接する第２の高飽和磁束密度材料２と
酸化物磁性材料コア１のほぼ中間の熱膨張係数を有する
ことにより、第１の高飽和磁束密度材料３がバッファー
膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程における界
面での残留応力の発生や剥離を低減することができ、そ
の結果、第２の高飽和磁束密度材料２及び酸化物磁性材
料コア１の熱応力による巻線溝部７での透磁率の低下を
抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向上さ
せることができる。従って、高いヘッド効率を有し、か
つ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッ
ド提供することができる。
ャップ対向面９に接する第２の高飽和磁束密度材料２と
酸化物磁性材料コア１のほぼ中間の熱膨張係数を有する
ことにより、第１の高飽和磁束密度材料３がバッファー
膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程における界
面での残留応力の発生や剥離を低減することができ、そ
の結果、第２の高飽和磁束密度材料２及び酸化物磁性材
料コア１の熱応力による巻線溝部７での透磁率の低下を
抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向上さ
せることができる。従って、高いヘッド効率を有し、か
つ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁気ヘッ
ド提供することができる。
【００２２】次に、上記のような構成を有する磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。図４は本発明に係る磁
気ヘッドの製造方法の一実施例を示す工程図である。図
４（ａ）において、コアブロック半体１０として、Ｍｎ
Ｚｎ単結晶フェライトを用いた。このコアブロック半体
１０に巻線溝７を加工した後、巻線溝７及びギャップ対
向面９の上に、スパッタ法を用いてＦｅ系窒化膜からな
る第１の高飽和磁束密度材料３を約３μｍ、ＳｉＯ2 か
らなる絶縁層４を約０．２μｍ順次積層した。この場
合、最表層に絶縁層４がくるように積層した。
ドの製造方法について説明する。図４は本発明に係る磁
気ヘッドの製造方法の一実施例を示す工程図である。図
４（ａ）において、コアブロック半体１０として、Ｍｎ
Ｚｎ単結晶フェライトを用いた。このコアブロック半体
１０に巻線溝７を加工した後、巻線溝７及びギャップ対
向面９の上に、スパッタ法を用いてＦｅ系窒化膜からな
る第１の高飽和磁束密度材料３を約３μｍ、ＳｉＯ2 か
らなる絶縁層４を約０．２μｍ順次積層した。この場
合、最表層に絶縁層４がくるように積層した。
【００２３】図４（ｂ）において、巻線溝部７の部分の
第１の高飽和磁束密度材料３及び絶縁層４はそのまま残
し、ギャップ対向面９の上の第１の高飽和磁束密度材料
３と絶縁層４を除去した。次いで、コアブロック半体１
０に所定のトラック幅となるようにトラック幅規制溝８
を加工すると共に、ギャップ対向面９に加工変質層が残
らないような条件で鏡面加工を施した。
第１の高飽和磁束密度材料３及び絶縁層４はそのまま残
し、ギャップ対向面９の上の第１の高飽和磁束密度材料
３と絶縁層４を除去した。次いで、コアブロック半体１
０に所定のトラック幅となるようにトラック幅規制溝８
を加工すると共に、ギャップ対向面９に加工変質層が残
らないような条件で鏡面加工を施した。
【００２４】図４（ｃ）において、巻線溝部７、トラッ
ク幅規制溝８及びギャップ対向面９の上に、スパッタ法
を用いて第２の高飽和磁束密度材料２を約３μｍの厚さ
で形成した。この場合、第１の高飽和磁束密度材料３と
第２の高飽和磁束密度材料２とは、窒素分圧及びＡｒガ
ス分圧が異なっており、これにより第１の高飽和磁束密
度材料３が第２の高飽和磁束密度材料２とコアブロック
半体１０のほぼ中間の熱膨張係数を有するようにされて
いる。次いで、ギャップ対向面９の上に、スパッタ法を
用いて低融点ガラス及びＣｒからなるギャップ部材（図
示せず）を所定の厚さで形成した。
ク幅規制溝８及びギャップ対向面９の上に、スパッタ法
を用いて第２の高飽和磁束密度材料２を約３μｍの厚さ
で形成した。この場合、第１の高飽和磁束密度材料３と
第２の高飽和磁束密度材料２とは、窒素分圧及びＡｒガ
ス分圧が異なっており、これにより第１の高飽和磁束密
度材料３が第２の高飽和磁束密度材料２とコアブロック
半体１０のほぼ中間の熱膨張係数を有するようにされて
いる。次いで、ギャップ対向面９の上に、スパッタ法を
用いて低融点ガラス及びＣｒからなるギャップ部材（図
示せず）を所定の厚さで形成した。
【００２５】図４（ｄ）において、上記した図４（ａ）
〜（ｃ）と全く同様の工程で得られたもう一方のコアブ
ロック半体１１とコアブロック半体１０とを突き合わせ
所定温度でガラス融着して磁気ギャップ５を形成すると
同時に、トラック幅規制溝８内にガラス６を充填した。
〜（ｃ）と全く同様の工程で得られたもう一方のコアブ
ロック半体１１とコアブロック半体１０とを突き合わせ
所定温度でガラス融着して磁気ギャップ５を形成すると
同時に、トラック幅規制溝８内にガラス６を充填した。
【００２６】以上のようにしてコアブロックを作製し、
このコアブロックを所定のヘッド厚さに切断してヘッド
チップ化することにより、磁気ヘッド１２を得た。本発
明の磁気ヘッドの製造方法は、巻線溝部７に第１の高飽
和磁束密度材料３を積層構造によって形成する工程を有
する点を除き、従来技術における磁気ヘッドの製造方法
とほとんど同じであるが、上記したように、ヘッドの熱
処理工程における界面での残留応力の発生や剥離が低減
され、総合的な歩留まりが向上するので、量産性に優れ
たものとなる。
このコアブロックを所定のヘッド厚さに切断してヘッド
チップ化することにより、磁気ヘッド１２を得た。本発
明の磁気ヘッドの製造方法は、巻線溝部７に第１の高飽
和磁束密度材料３を積層構造によって形成する工程を有
する点を除き、従来技術における磁気ヘッドの製造方法
とほとんど同じであるが、上記したように、ヘッドの熱
処理工程における界面での残留応力の発生や剥離が低減
され、総合的な歩留まりが向上するので、量産性に優れ
たものとなる。
【００２７】また、図６に示すように、上記のようにし
て得られた磁気ヘッド１２をヘッドベース１３に接着
し、回転シリンダ１４に１８０゜で対向するように２個
取り付けた後、評価用に改造した現行８ｍｍデッキに搭
載して、磁気記録再生装置を作製した。そして、この磁
気記録再生装置を用いて従来の磁気ヘッドとＣ／Ｎ特性
を比較評価したところ、約１．５ｄＢの特性改善を図れ
ることが分かった。このように本発明の磁気ヘッドを用
いれば、高性能な磁気記録再生装置を実現することがで
きる。
て得られた磁気ヘッド１２をヘッドベース１３に接着
し、回転シリンダ１４に１８０゜で対向するように２個
取り付けた後、評価用に改造した現行８ｍｍデッキに搭
載して、磁気記録再生装置を作製した。そして、この磁
気記録再生装置を用いて従来の磁気ヘッドとＣ／Ｎ特性
を比較評価したところ、約１．５ｄＢの特性改善を図れ
ることが分かった。このように本発明の磁気ヘッドを用
いれば、高性能な磁気記録再生装置を実現することがで
きる。
【００２８】
【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドによれば、最短
の磁路となる酸化物磁性材料コアの巻線溝部の上に高い
透磁率を有する第１及び第２の高飽和磁束密度材料が絶
縁層を介して積層されていることにより、高飽和磁束密
度材料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流によ
る高周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料
の断面積を大きくすることができるので、主磁路の磁気
抵抗が下がってヘッド効率が向上する。また、第１の高
飽和磁束密度材料が、ギャップ対向面に接する第２の高
飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ中間の熱膨張
係数を有することにより、第１の高飽和磁束密度材料が
バッファー膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程
における界面での残留応力の発生や剥離を低減すること
ができ、その結果、第２の高飽和磁束密度材料及び酸化
物磁性材料コアの熱応力による巻線溝部での透磁率の低
下を抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向
上させることができる。従って、高いヘッド効率を有
し、かつ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁
気ヘッド提供することができる。
の磁路となる酸化物磁性材料コアの巻線溝部の上に高い
透磁率を有する第１及び第２の高飽和磁束密度材料が絶
縁層を介して積層されていることにより、高飽和磁束密
度材料のトータルの厚みが大きくなっても、渦電流によ
る高周波損失がほとんどないままに高飽和磁束密度材料
の断面積を大きくすることができるので、主磁路の磁気
抵抗が下がってヘッド効率が向上する。また、第１の高
飽和磁束密度材料が、ギャップ対向面に接する第２の高
飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ中間の熱膨張
係数を有することにより、第１の高飽和磁束密度材料が
バッファー膜の役目を果たすので、ヘッドの熱処理工程
における界面での残留応力の発生や剥離を低減すること
ができ、その結果、第２の高飽和磁束密度材料及び酸化
物磁性材料コアの熱応力による巻線溝部での透磁率の低
下を抑えることができると共に、総合的な歩留まりを向
上させることができる。従って、高いヘッド効率を有
し、かつ、ヘッドチップ化が容易で量産性にも優れた磁
気ヘッド提供することができる。
【００２９】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
によれば、ヘッド効率の良い磁気ヘッドを効率良く合理
的に作製することができる。また、本発明に係る磁気記
録再生装置によれば、高いヘッド効率を有する磁気ヘッ
ドを備えていることにより、高性能及び高密度な磁気記
録再生装置を実現することができる。
によれば、ヘッド効率の良い磁気ヘッドを効率良く合理
的に作製することができる。また、本発明に係る磁気記
録再生装置によれば、高いヘッド効率を有する磁気ヘッ
ドを備えていることにより、高性能及び高密度な磁気記
録再生装置を実現することができる。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施例におけるヘ
ッド摺動面を示す平面図である。
ッド摺動面を示す平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ断面図である。
【図３】図２の部分拡大断面図である。
【図４】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施例
を示す工程図である。
を示す工程図である。
【図５】本発明の一実施例の磁気ヘッドと従来の磁気ヘ
ッドの出力特性図である。
ッドの出力特性図である。
【図６】本発明の一実施例の磁気ヘッドを回転シリンダ
に搭載した状態を示す正面図である。
に搭載した状態を示す正面図である。
【図７】従来技術における磁気ヘッドのヘッド摺動面を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図８】図７のＩＩ−ＩＩ断面図である。
１ 酸化物磁性材料コア ２ 第２の高飽和磁束密度材料 ３ 第１の高飽和磁束密度材料 ４ 絶縁層 ５ 磁気ギャップ ６ ガラス ７ 巻線溝部 ８ トラック幅規制溝 ９ ギャップ対向面 １０、１１ コアブロック半体 １２ 磁気ヘッド １３ ヘッドベース １４ 回転シリンダ
Claims (5)
- 【請求項１】 主コアが酸化物磁性材料からなり、各々
のコア半体のギャップ対向面には高飽和磁束密度材料が
形成されており、また、少なくとも一方のコア半体は、
巻線溝部が設けられたＣ型コア形状を有する磁気ヘッド
であって、前記高飽和磁束密度材料が、前記巻線溝部に
接し、絶縁層を介して積層された第１の高飽和磁束密度
材料と、前記第１の高飽和磁束密度材料及びギャップ対
向面の上に形成された第２の高飽和磁束密度材料とから
なることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 第１及び第２の高飽和磁束密度材料が、
主コアの酸化物磁性材料よりも高い透磁率を有し、か
つ、主磁路がその高飽和磁束密度材料となる請求項１に
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 第１の高飽和磁束密度材料が、第２の高
飽和磁束密度材料と酸化物磁性材料のほぼ中間の熱膨張
係数を有する請求項１に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 酸化物磁性材料からなる少なくとも一方
のコアブロック半体に巻線溝加工を施した後、巻線溝部
及びそれと連なるギャップ対向面に絶縁層を介して第１
の高飽和磁束密度材料を積層形成する工程と、前記ギャ
ップ対向面の上の前記第１の高飽和磁束密度材料及び絶
縁層を除去すると共にその面を鏡面加工する工程と、前
記各々のコアブロック半体に所定のトラック幅となるよ
うにトラック幅規制溝を形成する工程と、前記ギャップ
対向面及びトラック幅規制面の上に所定の厚さで第２の
高飽和磁束密度材料を形成する工程と、前記各々のコア
ブロック半体のギャップ対向面の上にギャップ部材を形
成した後、所定の温度で前記各々のコアブロック半体を
突き合わせてガラス融着すると同時に前記トラック幅規
制溝内にガラスを充填する工程と、コアブロックを切断
してヘッドチップを形成する工程とを少なくとも備えた
磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１又は２に記載の磁気ヘッドを一
つの回転シリンダに複数個搭載してなる磁気記録再生装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12107794A JPH07326017A (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 磁気ヘッド並びにその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12107794A JPH07326017A (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 磁気ヘッド並びにその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326017A true JPH07326017A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=14802287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12107794A Pending JPH07326017A (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 磁気ヘッド並びにその製造方法及びそれを用いた磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07326017A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020052265A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 株式会社デンソー | 表示装置 |
-
1994
- 1994-06-02 JP JP12107794A patent/JPH07326017A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020052265A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 株式会社デンソー | 表示装置 |
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