JPH0596904U - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属磁性体と磁性酸化物とを含んでなる複合
型磁気へッドに関し、疑似ギャップの形成を防止して良
好な再生周波数特性を実現する。 【構成】 非磁性体よりなるギャップ部８と、ギャップ
部８に接合されてなる薄膜形成されたセンダスト（登録
商標）からなる金属磁性体４，５と、磁性酸化物（フェ
ライト）よりなるコア材２，３と、コア材２，３と金属
磁性体４，５との間にコア材２，３に接合されてなる金
属膜１２，１３（パーマロイ製）と金属磁性体４，５を
酸化させてなる金属磁性体酸化膜１８，１９とが介在す
る構成とした。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は複合型磁気へッドに係り、特に、金属磁性体と磁性酸化物とを含んで なる複合型磁気へッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】

近年、高密度の磁気記録及び再生処理の要求が高まっており、これに対応する 磁気ヘッドは、記録時には高飽和磁束密度を必要とされ、また再生時には十分な 再生感度を得るために特に高周波領域において高透磁率を必要とされる。

【０００３】 高飽和磁束密度を実現できる磁性材料としてはFe-Al-Si系合金であるセンダス ト（登録商標）やアモルファス合金等の金属磁性体が知られており、高透磁率を 有する磁性材料としては磁性酸化物であるフェライトが知られている。そして、 １つの磁気ヘッドで記録及び再生の特性を共に良好とするために、これら２種の 磁性材料を組み合わせた複合型磁気へッドが開発されている。

【０００４】 複合型磁気へッドでは、磁性酸化物からなるコア材と金属磁性体により形成さ れる金属薄膜との間に発生する疑似ギャップを軽減するために、金属磁性体とは 別の金属（例えば、ＮｉＦe(パーマロイ),Ｃｒ，Ｔi)かＳｉＯ₂ 等の酸化物等を コア材に下地膜として形成した後、金属磁性体により薄膜形成していた。

【０００５】 図２は、従来の複合型磁気へッドの一例を磁気テープ摺接面より示した正面図 である。同図に示す複合型磁気へッド１は、以下のとおりに形成される。

【０００６】 すなわち、トラック形成されたフェライト等による２つのコア材２，３の表面 に、パーマロイからなる金属膜である金属下地膜１２，１３を膜厚１５０〜２０ ０〔Å〕となるようにスパッタリング法により薄膜形成し、更にこの上に、セン ダストからなる金属磁性体４，５を膜厚が２〜３〔μｍ〕となるようにスパッタ リング法により薄膜形成し、一対のコア半体６，７を形成する。

【０００７】 次に夫々のコア半体６，７を同図に示すように対向させた時に各金属磁性体４ ，５の突き合わせ面４ａ，５ａにより形成されるギャップ部８が、所定の隙間寸 法となるように、非磁性体であるＳｉＯ₂ からなるギャップ材９を更に金属磁性 体４，５の上面にスパッタリング法により薄膜形成する。

【０００８】 そして、コア半体６，７を図示のとおり対向させ、突き合わせ面４ａ，５ａ上 のギャップ材９の表面を互いに接合させた後、低融点ガラス１０によりガラスボ ンディングを行い、所定寸法にスライスし、複合型磁気へッド１が得られる。

【０００９】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら上記従来の複合型磁気ヘッドによれば、コア材２，３と金属磁性 体４，５とが直接接合される場合に比べて疑似ギャップは軽減はされるものの、 金属下地膜１２，１３が夫々金属磁性体４，５と反応して磁気特性が劣化し、疑 似ギャップが形成されて高周波領域での再生特性が劣化する問題がある。

【００１０】 図３は複合型磁気ヘッドの再生周波数特性を示す図であり、縦軸は再生出力〔 dB〕、横軸は信号周波数〔 kHz〕を表す。曲線Ｉは上記複合型磁気ヘッド１の再 生周波数特性であり、疑似ギャップとギャップ部８との作用による高周波数領域 での再生損失によって図示のとおり約1.５〔dB〕のうねりを生じる。

【００１１】 尚、図１において金属下地膜１２，１３をＳｉＯ₂ 酸化膜としても、図３中曲 線Ｉと同等の再生周波数特性となる。

【００１２】 本考案は上記の課題に鑑みてなされたもので、疑似ギャップを形成することな く、高周波数領域での再生周波数特性が劣化しない複合型磁気へッドを提供する ことを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】

上記の問題は以下のとおり構成することにより解決される。

【００１４】 すなわち、非磁性体よりなるギャップ部と、ギャップ部に接合されてなる薄膜 形成された金属磁性体と、磁性酸化物よりなるコア材とを具備した複合型磁気へ ッドにおいて、 コア材と金属磁性体との間に、コア材に接合されてなる金属膜と金属磁性体を 酸化させてなる金属磁性体酸化膜とが介在する構成とすることにより解決される 。

【００１５】

【作用】

上記の構成によれば、コア材と金属磁性体との間に、コア材に接合されてなる 金属膜と金属磁性体を酸化させてなる金属磁性体酸化膜とが介在するため、この 金属磁性体酸化膜は、金属磁性体に対しても磁性酸化物よりなるコア材に対して も物理的に安定となるよう作用する。

【００１６】

【実施例】

図１は、本考案の一実施例を磁気テープ摺接面より示した正面図である。同図 に示す複合型磁気へッド１５は、コア材２，３に接合されてなる金属下地膜１２ ，１３と金属磁性体４，５との間に、金属磁性体酸化膜１８，１９が夫々介在す る以外は、大略、図２に示した従来の複合型磁気へッド１と同様に形成されてい る。

【００１７】 以下、複合型磁気ヘッド１５の構成について、その製造方法の概略とともに説 明する。

【００１８】 初めに、複合型磁気へッド１５のベースとなる磁性酸化物であるフェライト製 コアブロックを一対形成し、これらのコアブロックに夫々トラック幅規制溝、コ イル巻回用溝を形成する。そして、図示のとおりトラック形成された２つのコア 材２，３の表面に、従来と同様に、パーマロイからなる金属膜である金属下地膜 １２，１３を膜厚数百〔Å〕となるようにスパッタリング法により薄膜形成する 。

【００１９】 金属下地膜１２，１３はコア材２，３と金属磁性体との接合を強化してヘッド の機械的強度を増すために形成されるもので、通常、高透磁率のＮｉ−Ｆｅ合金 であるパーマロイが良く使用される。金属下地膜１２，１３は、コア材２，３と 金属磁性体との接合性の良好な高透磁率の磁性材料であればパーマロイに限らな い。

【００２０】 次にこの上に、センダストを酸化させた金属磁性体酸化膜１８，１９を膜厚が １５〜２００〔Å〕となるようにスパッタリング法により薄膜形成した後、金属 磁性体酸化膜１８，１９と同一金属であるセンダストからなる金属磁性体４，５ を、膜厚が２〜３〔μｍ〕となるようにスパッタリング法により薄膜形成し、一 対のコア半体１６，１７を形成する。

【００２１】 更にこの上に、非磁性体であるガラスからなるギャップ材９を続いてスパッタ リングすることにより、コア材２，３と金属下地膜１２，１３と金属磁性体酸化 膜１８，１９と金属磁性体４，５とが積層されてなる一対のコア半体１６，１７ が形成される。

【００２２】 次にコア半体１６，１７を同図に示すように対向させた状態で、各金属磁性体 ４，５の突き合わせ面４ａ，５ａにより形成されるギャップ部８が、所定の隙間 寸法（例えば、通常のカセットテープレコーダの録音及び再生用では 0.1〔μｍ 〕程度以上）となるように、非磁性体であるＳｉＯ₂ からなるギャップ材９を更 に金属磁性体４，５の上面にスパッタリング法により薄膜形成する。

【００２３】 そして、一対のコア半体１６，１７を位置決めして同図に示すように対向させ 、突き合わせ面４ａ，５ａ上のギャップ材９の表面を互いに接合させる。最後に 、コア半体１６，１７の形状により形成されたトラック規制溝に低融点ガラス１ ０を充填してガラスボンディングを行なった後、この磁気ヘッドブロックを所定 寸法にコアスライスし、複合型磁気へッド１５が得られる。

【００２４】 上記のとおり形成された複合型磁気へッド１５によれば、コア材２，３に接合 されてなるパーマロイ製の金属下地膜１２，１３とセンダストを酸化させた金属 磁性体酸化膜１８，１９とが互いに接合され、フェライト製コア材２，３とセン ダストからなる金属磁性体４，５との間に介在する積層構造となる。

【００２５】 この金属下地膜１２，１３は、コア材２，３と金属磁性体酸化膜１８，１９と の双方に対し接合性が良く剥がれにくいため、ヘッドの機械的強度が増してコア 剥がれ等の不良が発生することがない。また、金属下地膜１２，１３は高透磁率 であり、この部位の磁気特性が劣化することもない。

【００２６】 更に、金属下地膜１２，１３はパーマロイ製であるため、フェライト製コア材 ２，３とセンダストからなる金属磁性体酸化膜１８，１９に対し物理的に安定で あり、金属磁性体酸化膜１８，１９はセンダストを酸化させて形成しているため 、センダストからなる金属磁性体４，５に対しては勿論物理的に安定で反応を起 こすことがない。

【００２７】 よって、金属下地膜１２，１３と金属磁性体４，５とが反応することがなく、 また、金属磁性体４，５を金属磁性体酸化膜１８，１９上に薄膜形成する際の初 期成長層の磁気的特性の劣化を抑えることが出来る。

【００２８】 以上の結果、例えば金属下地膜１２，１３を介してコア材２，３上に金属磁性 体４，５を薄膜形成する従来の複合型磁気ヘッドに比べ、各金属膜の接合部にお いて磁気的特性が劣化しないため磁気的な疑似ギャップの形成を大幅に軽減する ことが出来る。

【００２９】 すなわち、疑似ギャップが形成されないため、複合型磁気ヘッド１５は高周波 数領域において再生特性が劣化することがない。

【００３０】 図３において、曲線IIは上記実施例の複合型磁気ヘッド１５の再生周波数特性 を表す。複合型磁気ヘッド１５には疑似ギャップが形成されないため、曲線IIは 、図示のとおり６〔dB/OCT〕の傾斜で〔１ｋHz〕付近まで再生出力が増加した後 、うねりを生じることなく主にギャップ部８のギャップ損失により再生出力が漸 減する良好な再生周波数特性を示す。また、ヘッド全体での磁気特性が向上する ことにより、全周波数領域において再生出力が約２〔dB〕上昇し、高出力高感度 となる。

【００３１】 尚、上記の実施例では、フェライト製コア材２，３に接合されてなるパーマロ イ製の金属下地膜１２，１３と金属下地膜１２，１３上にセンダストからなる金 属磁性体を酸化させて形成した金属磁性体酸化膜１８，１９とが、コア材２，３ と金属磁性体４，５との間に介在する構成としたが、金属磁性体４，５は例えば コバルト・アモルファスの様な高飽和磁束密度とされる磁性材料であっても良く 、また金属磁性体酸化膜１８，１９の代わりに金属磁性体４，５と同一金属によ り窒化膜を形成しても金属磁性体４，５と金属下地膜１２，１３の双方に対し物 理的に安定であり、上記と同様の効果を得ることが出来る。

【００３２】 金属下地膜１２，１３は、高透磁率で他の金属に対して接合性の良好な磁性材 料であれば良く、例えば、ＣｒやＴｉを使用することも考えられる。また、金属 下地膜を２層以上の多層構造とすることにより機械的強度を更に増大させること も考えられる。

【００３３】 また、各金属膜の形成方法は上記のスパッタリング法に限るものでないことは 勿論であり、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）により形成することも考えられ る。

【００３４】

【考案の効果】

以上のように本考案によれば、金属磁性体酸化膜は金属磁性体に対して物理的 に安定であり磁気的な疑似ギャップが形成されることがないため、ギャップ部と 疑似ギャップとの作用により高周波数領域での再生特性が劣化することなく優れ た周波数特性の複合型磁気ヘッドが得られる特長がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例の正面図である。

【図２】従来の複合型磁気へッドの一例の正面図であ
る。

【図３】複合型磁気ヘッドの再生周波数特性を示す図で
ある。

【符号の説明】

１,1５ 複合型磁気ヘッド ２，３ コア材 ４，５ 金属磁性体 ８ ギャップ部 16,1７ 金属磁性体酸化膜 12,1３ 金属下地膜（金属膜）

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性体よりなるギャップ部と、 該ギャップ部に接合されてなる薄膜形成された金属磁性
   体と、 磁性酸化物よりなるコア材とを具備した複合型磁気へッ
   ドにおいて、 該コア材と該金属磁性体との間に、該コア材に接合され
   てなる金属膜と該金属磁性体を酸化させてなる金属磁性
   体酸化膜とが介在する構成としてなる複合型磁気へッ
   ド。