JPS6356804A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6356804A JPS6356804A JP20204286A JP20204286A JPS6356804A JP S6356804 A JPS6356804 A JP S6356804A JP 20204286 A JP20204286 A JP 20204286A JP 20204286 A JP20204286 A JP 20204286A JP S6356804 A JPS6356804 A JP S6356804A
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- Japan
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- magnetic
- glass
- melting point
- films
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- Pending
Links
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- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 19
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はメタルテープの如き高保磁力媒体への記録再
生に用いるビデオおよびフロッピー用の磁気ヘッドに関
するものである。
生に用いるビデオおよびフロッピー用の磁気ヘッドに関
するものである。
第２図はメタルテープの如き高保磁力媒体への記録再生
に用いる、例えば特開昭６０−１８２５０７号に示され
た、従来の磁気ヘッドの斜視図である。図において、（
１１）、（１２）はフェライト製の磁気コア半体の対、
（２１Ｌ（２２）はセンダスト、アモルファス合金等の
金属磁性体膜、（３１）、（３２）、（３３）は非磁性
補強材であるモールドガラス、（４）は磁気ギャップ、
（５）は巻線窓である。
に用いる、例えば特開昭６０−１８２５０７号に示され
た、従来の磁気ヘッドの斜視図である。図において、（
１１）、（１２）はフェライト製の磁気コア半体の対、
（２１Ｌ（２２）はセンダスト、アモルファス合金等の
金属磁性体膜、（３１）、（３２）、（３３）は非磁性
補強材であるモールドガラス、（４）は磁気ギャップ、
（５）は巻線窓である。
磁気コア半体の対（１１）、（１２）には飽和磁束密度
が５０００Ｇ前後のＭｎ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｚｎフェライト
等が用いられている。メタルテープの如き高保磁力媒体
に十分な記録をするにはこの飽和磁束密度では不足して
おり、磁気ギャップ（４）の対向面に閉磁気回路構造と
なるように飽和磁束密度が１００ＯＯＧ前後のセンダス
ト、アモルファス合金（例えばＧｏ −Ｚｒ −Ｎｂ）
の金属磁性体膜（２１）、（２２）がスパッタ法等によ
り形成される。かかる複合磁性体の対を一体化するため
に低融点のモールドガラス（３１）＋（３２）＋（３３
）が非磁性補強材として溶融充填される。なお、モール
ドガラス（３１）。
が５０００Ｇ前後のＭｎ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｚｎフェライト
等が用いられている。メタルテープの如き高保磁力媒体
に十分な記録をするにはこの飽和磁束密度では不足して
おり、磁気ギャップ（４）の対向面に閉磁気回路構造と
なるように飽和磁束密度が１００ＯＯＧ前後のセンダス
ト、アモルファス合金（例えばＧｏ −Ｚｒ −Ｎｂ）
の金属磁性体膜（２１）、（２２）がスパッタ法等によ
り形成される。かかる複合磁性体の対を一体化するため
に低融点のモールドガラス（３１）＋（３２）＋（３３
）が非磁性補強材として溶融充填される。なお、モール
ドガラス（３１）。
（３２）はトラック幅規制用溝部に溶融充填されたもの
である。
である。
従来の磁気ヘッドは以上のように構成されているので、
熱膨張係数の異なる三種の材料の複合構造となり、残留
応力によるモールドガラス、フェライト、センダスト′
に割れが発生しやすく、磁性体部の磁気特性が低下する
という問題点があった。また、センダストの如き金属磁
性体膜とモールドガラスとの間の密着性、濡れ性がよく
ないという問題点があった。
熱膨張係数の異なる三種の材料の複合構造となり、残留
応力によるモールドガラス、フェライト、センダスト′
に割れが発生しやすく、磁性体部の磁気特性が低下する
という問題点があった。また、センダストの如き金属磁
性体膜とモールドガラスとの間の密着性、濡れ性がよく
ないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、残留応力による磁気特性の低下がなく、モー
ルドガラス、フェライト、センダストの金属磁性体膜に
割れの発生がなくかつ、モールドガラスと金属磁性体膜
間の密着性、濡れ性が良い高性能で低価格の高保磁力媒
体用の磁気ヘッドを得ることを目的とする。
たもので、残留応力による磁気特性の低下がなく、モー
ルドガラス、フェライト、センダストの金属磁性体膜に
割れの発生がなくかつ、モールドガラスと金属磁性体膜
間の密着性、濡れ性が良い高性能で低価格の高保磁力媒
体用の磁気ヘッドを得ることを目的とする。
この発明に係る磁気ヘッドはフェライトおよび金属磁性
体１ｉｆｌがモールドガラスと接する面に予めスパッタ
リングおよび蒸着法により高融点ガラスの中間層膜を形
成し、低に点のモールドガラスが直接フェライトおよび
金属磁性体膜に接しない構造にしたことを特徴とする。
体１ｉｆｌがモールドガラスと接する面に予めスパッタ
リングおよび蒸着法により高融点ガラスの中間層膜を形
成し、低に点のモールドガラスが直接フェライトおよび
金属磁性体膜に接しない構造にしたことを特徴とする。
この発明における磁気ヘッドでは、高融点ガラスの中間
層膜が設けられていることにより、低融点のモールドガ
ラスはこの中間層膜を介して金属磁性体膜に濡れ性が改
善されてよく密ぺ１し、かつモールドガラスと金属Ω性
体、膜およびフェライト間の熱膨張差に起因する界面部
の残留応力を軽減し、割れの低減と磁性体部の磁気特性
の低下を防止する。
層膜が設けられていることにより、低融点のモールドガ
ラスはこの中間層膜を介して金属磁性体膜に濡れ性が改
善されてよく密ぺ１し、かつモールドガラスと金属Ω性
体、膜およびフェライト間の熱膨張差に起因する界面部
の残留応力を軽減し、割れの低減と磁性体部の磁気特性
の低下を防止する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。磁気
ヘッドの基本構造は従来例の第２図とほぼ同じであるの
で、改良点のみを第１図で説明する。第１図は本発明の
一実施例である磁気ヘッドの摺動面から見た部分図であ
り、（１１）。
ヘッドの基本構造は従来例の第２図とほぼ同じであるの
で、改良点のみを第１図で説明する。第１図は本発明の
一実施例である磁気ヘッドの摺動面から見た部分図であ
り、（１１）。
（１２）はＨｎ −Ｚｎ 、 Ｎｉ −Ｚｎフェライト
等の酸化排磁性体の磁気コア半体の対である。（２１）
１（２２）は磁気ギャップ（４）の対向面にスパッタリ
ング、イオンブレーティング等の手法により形成された
センダスト、アモルファス合金（例えばＧｏ −Ｚｒ
−Ｎｂ ）等の高飽和磁束密度の金属磁性体膜である。
等の酸化排磁性体の磁気コア半体の対である。（２１）
１（２２）は磁気ギャップ（４）の対向面にスパッタリ
ング、イオンブレーティング等の手法により形成された
センダスト、アモルファス合金（例えばＧｏ −Ｚｒ
−Ｎｂ ）等の高飽和磁束密度の金属磁性体膜である。
（３１）、（３２）は低融点のモールドガラスであり、
磁気コア半体の対（１１）、（１２）を一体溶着するた
め、かつトラック幅を規制するために用いられる。（６
１）。
磁気コア半体の対（１１）、（１２）を一体溶着するた
め、かつトラック幅を規制するために用いられる。（６
１）。
（６２）はモールドガラス（３１）、（３２）より高融
点のガラスを蒸着またはスパッタリング等により形成し
てなる中間層膜である。
点のガラスを蒸着またはスパッタリング等により形成し
てなる中間層膜である。
従来例の問題点として述べた如く、金属磁性体（例えば
センダスト）の膜（２１）＋（２２）を磁気ギャップ（
４）の対向面にスパッタリング等で形成してなる磁気ヘ
ッドでの一つの問題点はモールドガラス（３１）、（３
２）と金属磁性体膜（２１）、（２２）の密着性、濡れ
性がよくないことであり、二つ目は磁気コア半体の対（
１１）、（１２）を形成する材料（フェライト）と膜（
２１）、（２２）を形成する材料（センダスト）の熱膨
張係数が相当ｙ４なるため、かかる複合磁性体とモール
ドガラス（３１）１（３２）間の熱膨張差のマツチング
がとりにくい点である。本発明はこれら二つの問題点を
高融点ガラスの中間層膜（６１）、（６２）で同時に解
決しているのである。まず第１に、密着性、濡れ性の問
題は、両磁性体（１１，２１ｉ１２．２２）の表面に高
融点のガラスを予め蒸着またはスパッタリングで中間ｊ
６膜として形成し、その上に低融点のモールドガラスを
モールドすることにより解決される。次に複合磁性体と
低融点モールドガラス間の熱膨張差に起因する残留応力
はその間に高融点ガラスの中間層漠が介在するので残留
応力は大きく緩和される。
センダスト）の膜（２１）＋（２２）を磁気ギャップ（
４）の対向面にスパッタリング等で形成してなる磁気ヘ
ッドでの一つの問題点はモールドガラス（３１）、（３
２）と金属磁性体膜（２１）、（２２）の密着性、濡れ
性がよくないことであり、二つ目は磁気コア半体の対（
１１）、（１２）を形成する材料（フェライト）と膜（
２１）、（２２）を形成する材料（センダスト）の熱膨
張係数が相当ｙ４なるため、かかる複合磁性体とモール
ドガラス（３１）１（３２）間の熱膨張差のマツチング
がとりにくい点である。本発明はこれら二つの問題点を
高融点ガラスの中間層膜（６１）、（６２）で同時に解
決しているのである。まず第１に、密着性、濡れ性の問
題は、両磁性体（１１，２１ｉ１２．２２）の表面に高
融点のガラスを予め蒸着またはスパッタリングで中間ｊ
６膜として形成し、その上に低融点のモールドガラスを
モールドすることにより解決される。次に複合磁性体と
低融点モールドガラス間の熱膨張差に起因する残留応力
はその間に高融点ガラスの中間層漠が介在するので残留
応力は大きく緩和される。
なお中間層膜は厚いほど効果が大きいが数μの厚さで十
分の効果が得られる。
分の効果が得られる。
以上のように、この発明によれば、低摩点のモールドガ
ラスと複合磁性体との間に高融点ガラスの中間層膜な蒸
着またはスパッタリングにより設けたので、ガラスと複
合磁性体間の密着性、６れ性の問題が鼾決され、かつ複
合磁性体の残留応力の問題も低域されるので、高性能の
磁気ヘッドが安価にできるという効果がある。
ラスと複合磁性体との間に高融点ガラスの中間層膜な蒸
着またはスパッタリングにより設けたので、ガラスと複
合磁性体間の密着性、６れ性の問題が鼾決され、かつ複
合磁性体の残留応力の問題も低域されるので、高性能の
磁気ヘッドが安価にできるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例の磁気ヘッドを摺動面から見
た部分図、第２図は従来の磁気ヘッドの斜視図である。 図において、（４）は磁気ギャップ、（５）は巻線窓、
（１１）、（１２）はフェライト製の磁気コア半体の対
、（２１）、（２２）は高飽和磁束密度の金属磁性体膜
、（３１）、（３２）、（３３）は低融点のモールドガ
ラス、（６１）、（６２）は高融点ガラスの中間層膜で
ある。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 弁理士 大 岩 増 雄鈍）口 柳ゆ ″′櫓
た部分図、第２図は従来の磁気ヘッドの斜視図である。 図において、（４）は磁気ギャップ、（５）は巻線窓、
（１１）、（１２）はフェライト製の磁気コア半体の対
、（２１）、（２２）は高飽和磁束密度の金属磁性体膜
、（３１）、（３２）、（３３）は低融点のモールドガ
ラス、（６１）、（６２）は高融点ガラスの中間層膜で
ある。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 弁理士 大 岩 増 雄鈍）口 柳ゆ ″′櫓
Claims (2)
- （１）Ｍｎ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｚｎフエライト等の磁気コア
半体の対のギヤツプ対向面にセンダスト、Ｃｏ−Ｚｒ−
Ｎｉアモルファス材料等の高飽和磁束密度の金属磁性体
膜をスパツタリング等の手法で形成した複合磁性体から
なる高保磁力媒体用の磁気ヘツドにおいて、複合磁性体
のトラツク幅規制用溝部の表面に高融点ガラスを蒸着ま
たはスパツタリングして中間層膜を形成した後、前記溝
部に低融点ガラスをモールドしたことを特徴とする磁気
ヘツド。 - （２）中間層膜の厚みは数μである特許請求の範囲第１
項記載の磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20204286A JPS6356804A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20204286A JPS6356804A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6356804A true JPS6356804A (ja) | 1988-03-11 |
Family
ID=16450963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20204286A Pending JPS6356804A (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6356804A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02123506A (ja) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59193516A (ja) * | 1983-04-19 | 1984-11-02 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド |
| JPS59207415A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS61105710A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-23 | Sony Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS61126610A (ja) * | 1984-11-26 | 1986-06-14 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61267908A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-27 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP20204286A patent/JPS6356804A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59193516A (ja) * | 1983-04-19 | 1984-11-02 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド |
| JPS59207415A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS61105710A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-23 | Sony Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS61126610A (ja) * | 1984-11-26 | 1986-06-14 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61267908A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-27 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02123506A (ja) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
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