JPH06176311A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH06176311A JPH06176311A JP32290392A JP32290392A JPH06176311A JP H06176311 A JPH06176311 A JP H06176311A JP 32290392 A JP32290392 A JP 32290392A JP 32290392 A JP32290392 A JP 32290392A JP H06176311 A JPH06176311 A JP H06176311A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- film
- metal
- films
- metal magnetic
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高飽和磁束密度金属磁性膜の磁性材もしくは非
磁性材よりなるコア基体への膜形成時及びプロセス工程
にて発生するヒビ割れを防止すること。 【構成】磁気ヘッドとして主たる作用を施す金属磁性膜
を形成する前に、第１層目の金属磁性膜として前記磁性
膜よりも飽和磁束密度の小さい膜を形成する。 【効果】製造時の不良発生率を著しく低下させるばかり
でなく、高飽和密度磁性膜と磁気ヘッドを構成するコア
材の選択の自由度が高まり、量産性に優れた磁気ヘッド
が得られる。
磁性材よりなるコア基体への膜形成時及びプロセス工程
にて発生するヒビ割れを防止すること。 【構成】磁気ヘッドとして主たる作用を施す金属磁性膜
を形成する前に、第１層目の金属磁性膜として前記磁性
膜よりも飽和磁束密度の小さい膜を形成する。 【効果】製造時の不良発生率を著しく低下させるばかり
でなく、高飽和密度磁性膜と磁気ヘッドを構成するコア
材の選択の自由度が高まり、量産性に優れた磁気ヘッド
が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、家庭用及び業務用ＶＴ
Ｒ等の磁気ヘッドに関するものであり、特にアモルファ
ス金属等の金属磁性膜を有する磁気ヘッドに関する。
Ｒ等の磁気ヘッドに関するものであり、特にアモルファ
ス金属等の金属磁性膜を有する磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化のために、磁気記録
媒体の保磁力を大きくすることが有利であり、メタルテ
−プ等の高保磁力の磁気記録媒体に記録再生を行うため
には、磁気ヘッド材料として高飽和磁束密度を有するこ
とが必要となる。金属磁性材料で総称されるＣｏ−Ｎｂ
−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔｏ−Ｈｆ等の非晶
質合金、あるいはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の結晶質合金を用
いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材よりも飽和磁束
密度が高くかつ摺動ノイズが低いという優れた特性を有
する。しかしながら膜厚を増加させることによる渦電流
損失の問題や耐摩耗性の点でフェライトに対して劣ると
いう欠点がある。そこで上記問題を解決するために、フ
ェライト材と磁性膜を組み合わせた複合型ヘッドが主流
となっている。さらに摺動ノイズに重きをおいたもので
は、フェライト材のかわりに非磁性基板を用いた構造の
ものもある。
媒体の保磁力を大きくすることが有利であり、メタルテ
−プ等の高保磁力の磁気記録媒体に記録再生を行うため
には、磁気ヘッド材料として高飽和磁束密度を有するこ
とが必要となる。金属磁性材料で総称されるＣｏ−Ｎｂ
−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔｏ−Ｈｆ等の非晶
質合金、あるいはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の結晶質合金を用
いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材よりも飽和磁束
密度が高くかつ摺動ノイズが低いという優れた特性を有
する。しかしながら膜厚を増加させることによる渦電流
損失の問題や耐摩耗性の点でフェライトに対して劣ると
いう欠点がある。そこで上記問題を解決するために、フ
ェライト材と磁性膜を組み合わせた複合型ヘッドが主流
となっている。さらに摺動ノイズに重きをおいたもので
は、フェライト材のかわりに非磁性基板を用いた構造の
ものもある。
【０００３】従来の磁気ヘッドは、特開平３−１９１０
９号公報に記載のように、媒体摺動面に於いて磁性薄膜
の堆積される面ヘッドの端面とのなす角を５０°〜８０
°に設定することにより酸化物磁性ブロックと線膨張係
数の差に従い発生する熱応力による歪がヘッド側面に対
し平行に近い方向に動くのでヒビ割れの発生率が著しく
低下するとなっていた。
９号公報に記載のように、媒体摺動面に於いて磁性薄膜
の堆積される面ヘッドの端面とのなす角を５０°〜８０
°に設定することにより酸化物磁性ブロックと線膨張係
数の差に従い発生する熱応力による歪がヘッド側面に対
し平行に近い方向に動くのでヒビ割れの発生率が著しく
低下するとなっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、高飽
和磁束密度金属磁性膜の磁性材もしくは非磁性材よりな
るコア基体への膜形成時及びプロセス工程にて発生する
ヒビ割れについては配慮されておらず、特に高密度記録
の為にさらに高飽和磁束材を用いようとするとこのヒビ
割れ現象が顕著となる。本発明ではこの点を解決するも
のである。
和磁束密度金属磁性膜の磁性材もしくは非磁性材よりな
るコア基体への膜形成時及びプロセス工程にて発生する
ヒビ割れについては配慮されておらず、特に高密度記録
の為にさらに高飽和磁束材を用いようとするとこのヒビ
割れ現象が顕著となる。本発明ではこの点を解決するも
のである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、磁性材もしくは非磁性材よりなるコア基体の突合せ
面側に高透磁率で高飽和磁束密度の金属磁性膜を形成す
る際に、磁気ヘッドとして主たる作用を施す金属磁性膜
を形成する前に、第１層目の金属磁性膜として前記磁性
膜よりも飽和磁束密度の小さい膜を形成することにより
コア基体と形成された磁性膜との応力を緩和するもので
ある。
に、磁性材もしくは非磁性材よりなるコア基体の突合せ
面側に高透磁率で高飽和磁束密度の金属磁性膜を形成す
る際に、磁気ヘッドとして主たる作用を施す金属磁性膜
を形成する前に、第１層目の金属磁性膜として前記磁性
膜よりも飽和磁束密度の小さい膜を形成することにより
コア基体と形成された磁性膜との応力を緩和するもので
ある。
【０００６】
【作用】上述の構成を施した磁気ヘッドによれば、前記
コア基体上に形成された第１層目の磁性膜がバッハ−材
のような働きをして応力を緩和するためヒビ割れの発生
を著しく低下させた。
コア基体上に形成された第１層目の磁性膜がバッハ−材
のような働きをして応力を緩和するためヒビ割れの発生
を著しく低下させた。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【０００８】図１は本発明の一実施例として磁気ヘッド
の媒体摺動面の構造で本図は２種の金属磁性膜２及び３
が連続して形成された場合を示す。図２に示すように１
層で形成されたものは金属磁性膜の飽和磁束密度を向上
させようとするとコア基体１との膨張係数等の物理変化
により、コア基体１にヒビ割れ７の不良が発生してしま
う場合がある。その為せっかく金属磁性膜の開発ができ
ても容易にヘッド化することが出来なかった。そこで図
１に示すようにコア基体１にまず目的の磁性膜２を形成
する前にコア基体１と膨張係数等のマッチングのとれた
金属磁性膜もしくは、過去に実績のある金属磁性膜３を
形成し、次に目的の金属磁性膜２を形成する。この様に
することにより、第１層目の金属磁性膜３は第２層目の
金属磁性膜２から見るとバッハー材の働きをしヒビ割れ
７の発生を抑えることが出来る。
の媒体摺動面の構造で本図は２種の金属磁性膜２及び３
が連続して形成された場合を示す。図２に示すように１
層で形成されたものは金属磁性膜の飽和磁束密度を向上
させようとするとコア基体１との膨張係数等の物理変化
により、コア基体１にヒビ割れ７の不良が発生してしま
う場合がある。その為せっかく金属磁性膜の開発ができ
ても容易にヘッド化することが出来なかった。そこで図
１に示すようにコア基体１にまず目的の磁性膜２を形成
する前にコア基体１と膨張係数等のマッチングのとれた
金属磁性膜もしくは、過去に実績のある金属磁性膜３を
形成し、次に目的の金属磁性膜２を形成する。この様に
することにより、第１層目の金属磁性膜３は第２層目の
金属磁性膜２から見るとバッハー材の働きをしヒビ割れ
７の発生を抑えることが出来る。
【０００９】ヒビ割れ７の発生モードを調査してみると
金属磁性膜形成時及び充填ガラス６の作業プロセス後に
発生する割合が高く、膨張係数の違いによるものと容易
にはんだんできる。
金属磁性膜形成時及び充填ガラス６の作業プロセス後に
発生する割合が高く、膨張係数の違いによるものと容易
にはんだんできる。
【００１０】図３は２種の金属磁性膜２及び３間にＳｉ
Ｏ２等の絶縁層５を形成したもの。図４は３種の金属磁
性膜２，３，４が連続して形成されたもの。図５から図
７は２種の金属磁性膜２及び３が連続して形成されたも
ので図１以外の場合の例を示すものである。
Ｏ２等の絶縁層５を形成したもの。図４は３種の金属磁
性膜２，３，４が連続して形成されたもの。図５から図
７は２種の金属磁性膜２及び３が連続して形成されたも
ので図１以外の場合の例を示すものである。
【００１１】図８は形成した金属磁性膜の全体膜厚が磁
気ヘッドの実効トラック幅となる場合の１例である。
気ヘッドの実効トラック幅となる場合の１例である。
【００１２】
【発明の効果】以上説明した様に本発明の磁気ヘッドの
構造によれば、製造時の不良発生率を著しく低下させる
ばかりでなく、高飽和密度磁性膜と磁気ヘッドを構成す
るコア材の選択の自由度が高まり、量産性に優れた磁気
ヘッドが得られる。
構造によれば、製造時の不良発生率を著しく低下させる
ばかりでなく、高飽和密度磁性膜と磁気ヘッドを構成す
るコア材の選択の自由度が高まり、量産性に優れた磁気
ヘッドが得られる。
【図１】本発明の一実施例として磁気ヘッドの媒体摺動
面の構造を示すもので、２種の金属磁性膜が連続して形
成された図である。
面の構造を示すもので、２種の金属磁性膜が連続して形
成された図である。
【図２】従来形状の金属磁性膜が１種の場合でヒビ割れ
発生モードを示す図である。
発生モードを示す図である。
【図３】２種の金属磁性膜が連続して形成されたもの
で、かつ金属磁性膜間に絶縁層がある場合を示す図であ
る。
で、かつ金属磁性膜間に絶縁層がある場合を示す図であ
る。
【図４】３種の金属磁性膜が連続して形成された図であ
る。
る。
【図５】他の形状の実施例を示す図である。
【図６】他の形状の実施例を示す図である。
【図７】他の形状の実施例を示す図である。
【図８】他の形状の実施例を示す図である。
１…コア基体、 ２…コア基体の突合せ面側に形成される金属磁性膜、 ３…第１層目の金属磁性膜、 ４…第１層目の金属磁性膜とコア基体の突合せ面側に形
成される金属磁性膜の間に形成される金属磁性膜、 ５…絶縁層、 ６…充填ガラス、 ７…ヒビ割れ。
成される金属磁性膜の間に形成される金属磁性膜、 ５…絶縁層、 ６…充填ガラス、 ７…ヒビ割れ。
Claims (4)
- 【請求項１】磁性材もしくは非磁性材よりなるコア基体
の突合せ面側に高透磁率で高飽和磁束密度の金属磁性膜
を形成した１対のコア半体同志を、前記金属磁性膜のギ
ャップ突合せ面同志がギャップ規制薄膜を介して接合し
てなる磁気ヘッドにおいて、 前記金属磁性膜が２種類以上の金属磁性膜で構成された
ことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】請求項１記載において、２種類以上で構成
された金属磁性膜は各々の磁性膜間が連続して形成され
たことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項３】請求項１記載において、２種類以上で構成
された金属磁性膜は各々の磁性膜間にＳｉＯ２等の絶縁
層が少なくとも１層以上あることを特徴とする磁気ヘッ
ド。 - 【請求項４】請求項１記載において、２種類以上で構成
された金属磁性膜の第１層目の金属磁性膜は第２層目以
降の金属磁性膜の飽和磁束密度よりも小さく設定されて
いることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32290392A JPH06176311A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32290392A JPH06176311A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176311A true JPH06176311A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18148912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32290392A Pending JPH06176311A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06176311A (ja) |
-
1992
- 1992-12-02 JP JP32290392A patent/JPH06176311A/ja active Pending
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