JPH04163705A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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Publication number
JPH04163705A
JPH04163705A JP28851590A JP28851590A JPH04163705A JP H04163705 A JPH04163705 A JP H04163705A JP 28851590 A JP28851590 A JP 28851590A JP 28851590 A JP28851590 A JP 28851590A JP H04163705 A JPH04163705 A JP H04163705A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
barrier metal
magnetic
metal layer
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP28851590A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Umehara
梅原 敏男
Fumihiro Yamazaki
文宏 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FDK Corp
Original Assignee
FDK Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by FDK Corp filed Critical FDK Corp
Priority to JP28851590A priority Critical patent/JPH04163705A/ja
Publication of JPH04163705A publication Critical patent/JPH04163705A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、ハードディスク装置やフロッピーディスク
装置などに使用される磁気ヘッドに関するもので、より
具体的には、ギャップに飽和磁束密度の大きい磁性金属
膜を介在させたいわゆるメタルインギャップ式の磁気ヘ
ッドの改良に関するものである。
(従来の技術) 近年、磁気ディスク装置における記録の高密度化の要請
から、ギャップ部分に高飽和磁束密度の金属性薄膜を用
いたMIG(メタルインギャップ)が研究・開発されて
いる。そして、この種の磁気ヘッドの一例を示すと、第
2図のようになる。
この例では、浮動式のいわゆるモノリシックタイプの磁
気ヘッドを示している。同図に示すように、フェライト
コアからなる2略直方体状のスライダ型コア1の一側面
にやはりフェライトコアからなる略C字状のコア小片2
を装着し、両者1゜2間にギャップ3を形成する。この
ギャップ部位を第3図に拡大して示すと、スライダ型コ
ア1の表面にスパッタリングなどによってセンダストな
どの飽和密度の高い磁性金属膜4を形成しておくと共に
、この磁性金属膜4と、コア小片2との間に、非磁性材
である高融点ガラス5を介在させる。
そして、この高融点ガラス5がデータの読み書きなどを
行う実質的なギャップ部となる。さらに、スライダ型コ
ア1と、コア小片2のギヤツブ3近傍部分を低融点ガラ
スからなるボンディングガラス6でもって接着一体化さ
せている。
しかしなから、この従来の磁気ヘッドでは、ボンディン
グガラス6にて両者1,2を接着する際に、低融点ガラ
スを溶融しなければならず、その際に生じる熱によりス
ライダ型コア1と、磁性金属膜4との間に界面反応が発
生し、その界面が不安定状態となり、その部分に非磁性
材層が形成されてしまう。すると、ギャップ3内には、
磁性金属膜4を挟んでその両側に非磁性部材部位が位置
されることになり、これら両弁磁性材部位がギャップ(
性能の大小は問わず)としての機能を有してしまう。
その結果、第4図に示すように、磁気ヘッドと記憶媒体
との相対的移動に対する出力電圧の変化が綺麗な波形と
ならず、歪みを生じてしまうという問題を有する(疑似
ギャップの発生)。
この問題を解決するために、本出願人は先に第5図に示
すようにスライダ型コア1と磁性金属膜4との間に、S
i或いはS i O2からなるバリアメタル層7を介在
させる技術を提案した。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の磁気ヘッドでは、疑似ギャップの
発生は抑制できるものの、バリアメタル層7と、磁性金
属11:4との間の結合力が弱く、接合後両者(4,7
)の界面で剥離し、不良品となることがある。
特に、図示するようなモノシリツクタイプの磁気ヘッド
の場合には、コア小片2をスライダ型コア1に接合した
後で、コア小片2にコイル8を捲回するため、コア小片
2に大きな力が加わりやすく、上記剥離の問題が顕著と
なる。
この発明は、上記した背景に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、疑似ギャップの発生を抑制しつ
つ、しかも、ギャップ部位におおける強度が強く歩留ま
りの良い磁気ヘッドを提供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記した目的を達成するため、本発明に係る磁気ヘッド
では、2つのフェライトコアを組み合わせたギャップを
ボンディングガラスで接合すると共に、該ギャップ内に
磁性金属膜を有し、がっ、その磁性金属膜と一方のフェ
ライトコアとの間にS1或いは5i02の少なくとも一
方からなるバリアメタル層を有する磁気ヘッドにおいて
、該バリアメタル層と該磁性金属膜との間または該バリ
アメタル層と該一方のフェライトコアとの間の少なくと
も一方にC「膜層を形成した。
(作 用) Cr層と磁性金属膜並びにバリアメタル層との濡れ性が
良いため、各界面相互における接合強度が向上する よって、ギャップ部における2つのフェライトコアが分
離するのが抑制され、歩留まりが向上する。
また、各界面が綺麗に接合されるため、疑似ギャップの
発生もない。
(実施例) 以下、本発明に係る磁気ヘッドの好適な実施例に付いて
添付図面を参照にして詳述する。
基本的な構成は、上記した従来のものと同一であり、第
1図に(ギャップ部位拡大図)示すように、まず、本例
ではコア小片2の表面に実質的なギャップを形成する高
融点ガラス5をスパッタリングにて形成され、その高融
点ガラス5とスライダ型コア1との間に磁性金属膜4並
びにSi或いは5in2からなるバリアメタル層7がそ
れぞれスパッタリングにて形成されている。
ここで本発明では、バリアメタル層7の両表面にCr層
8.9をスパッタリングにて設j少でいる。
すなわち、バリアメタル層7と磁性金属H4との間に第
1のCr層8が、また、バリアメタル層7とスライダ型
コア1との間に第2のC「膜層9がそれぞれ形成されて
いる。
この様に、第1.第2のCr層8.9を設けることによ
り、各Cr層8.9と磁性金属膜4並びにバリアメタル
層7との濡れ性が良く各界面相互における接合強度が向
上し、コア小片2がスライダ型コア1から離脱するのが
抑制される。
また、本発明は必ずしも上記のごとく2つのCr層18
.9を設ける必要はなく、第1.第2のCrの内生なく
とも一方のみを形成すれば良い。
く実験結果〉 Cr層の設置位置をパラメータとしてギャップ部におけ
る強度の実験を行った。まず、前提として、Cr層を設
ける場合には、設置位置並びに設置数に関係なくいずれ
の場合も各層の膜厚を20人とし、また、バリアメタル
層7の膜厚を50人とした。
*バリアメタル層7としてSiを用いた場合第1の01
層8のみを形成したギャップ部位の強度は125g重、
第2のCr層9のみを形成したギャップ部位の強度は1
32g重、第1.第2の01層8,9を形成したギャッ
プ部位の強度は160g重であった。
これに対し、Cr層を設けない従来のものでは、95g
重であった。
*バリアメタル層7として5in2を用いた項第1の0
1層8のみを形成したギャップ部位の強度は115g重
、第2のCr層9のみを形成したギャップ部位の強度は
120g重、第1.第2の01層8.9を形成したギャ
ップ部位の強度は150g重であった。
これに対し、Cr層を設けない従来のものでは、83f
重であった。
これから明らかなように、本考案のものではCr層の設
置状態に関係なく、従来のものに比し極めて強度が向上
した。
また、同時に各磁気ヘッドと記憶媒体との相対的移動に
対する出力電圧の変化を測定したら、本発明に係る磁気
ヘッドは、いずれも疑似ギャップの発生のない綺麗な波
形となっていた。
さらに、第1の01層8を設けた場合には、センダスト
(磁性金属膜4)の界面付近の配向性が向上し、その電
磁変換特性が向上する。
なお、上記した実験では、Cr層を両側に設置する場合
に両者の膜厚を等しく設定したが、本発明は必ずしも等
しく設定する必要は無い。
ただし、各層があまり薄いと各層を設けた役割が十分に
発揮し得ないため、好ましくは各層とも20Å以上とす
ることである。しかし、あまり厚すぎると、CrNI並
びにバリアメタル層がギャップを形成することになるた
め、各層(7,8,9)の合計厚さが200Å以下に設
定するのが望ましい。
なおまた、上記した実施例では、モノリシック型の磁気
ヘッドに付いて説明したが、本発明はこれに限ること無
く、種々のタイプの磁気ヘッドに適用することができる
また、上記実施例では、コア小片2側に高融点ガラスを
形成したが、スライダ型コア1側に形成してもよいのは
言うまでもない。
(発明の効果) 以上のように、本発明に係る磁気ヘッドでは、バリアメ
タル層と磁性金属膜との間またはバリアメタル層と一方
のフェライトコアとの間の少なくとも一方にCr膜層を
形成したため、Cr層を設けた界面における接合強度が
向上し、これによりギャップ部位における強度が強く歩
留まりの良い磁気ヘッドを製造することができる。
また、疑似ギャップの発生も抑制される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気ヘッドの要部を示す図、第2図は
モノリシックタイプの磁気ヘッドを示す斜視図、第3図
は従来の磁気ヘッドのギャップ部を示す図、第4図はそ
の磁気ヘッドと記憶媒体との相対的移動に対する出力電
圧の変化を示すグラフ、第5図は先提案に係る磁気ヘッ
ドのギャップ部を示す図である。 1・・・スライダ型コア 2・・・コア小片3・・・ギ
ャップ    4・・・磁性金属膜7・・・バリアメタ
ル  8・・・第1のCr層9・・・第1のCr層 第1図 第3図 ル 第4図 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 2つのフェライトコアを組み合わせたギャップをボンデ
    ィングガラスで接合すると共に、該ギャップ内に磁性金
    属膜を有し、かつ、その磁性金属膜と一方のフェライト
    コアとの間にSi或いはSiO_2の少なくとも一方か
    らなるバリアメタル層を有する磁気ヘッドにおいて、該
    バリアメタル層と該磁性金属膜との間または該バリアメ
    タル層と該一方のフェライトコアとの間の少なくとも一
    方にCr膜層を形成してなることを特徴とする磁気ヘッ
    ド。
JP28851590A 1990-10-29 1990-10-29 磁気ヘッド Pending JPH04163705A (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62145510A (ja) * 1985-12-18 1987-06-29 Sony Corp 磁気ヘツド
JPH01260615A (ja) * 1988-04-12 1989-10-17 Nec Kansai Ltd 磁気ヘッド
JPH0278004A (ja) * 1988-09-13 1990-03-19 Nec Kansai Ltd 磁気ヘッド及びその製造方法
JPH02249111A (ja) * 1989-03-23 1990-10-04 Fuji Elelctrochem Co Ltd 磁気ヘッド

Patent Citations (4)

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