JPH07121819A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH07121819A JPH07121819A JP26331093A JP26331093A JPH07121819A JP H07121819 A JPH07121819 A JP H07121819A JP 26331093 A JP26331093 A JP 26331093A JP 26331093 A JP26331093 A JP 26331093A JP H07121819 A JPH07121819 A JP H07121819A
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- JP
- Japan
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- film
- melting point
- point glass
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高保磁力媒体に記録再生するための磁気ヘッ
ドにおいて、そのギャップ強度を向上させるための手段
を提供することを目的とする。 【構成】 巻線溝７を形成したコアである酸化物磁性体
１１，１２のギャップ部Ｂを、金属磁性膜側から拡散防
止膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点ガラス膜を
順次積層した積層構造とした。 【効果】 接合ガラスと金属磁性膜の反応がなくなり、
ギャップ強度が向上する。
ドにおいて、そのギャップ強度を向上させるための手段
を提供することを目的とする。 【構成】 巻線溝７を形成したコアである酸化物磁性体
１１，１２のギャップ部Ｂを、金属磁性膜側から拡散防
止膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点ガラス膜を
順次積層した積層構造とした。 【効果】 接合ガラスと金属磁性膜の反応がなくなり、
ギャップ強度が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気コア半体を非磁性
ギャップ材を介して突き合わせ、接合してなる磁気ヘッ
ドに関するものである。
ギャップ材を介して突き合わせ、接合してなる磁気ヘッ
ドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録装置の小型化、大容量化
にともない記録密度の高密度化が進められている。高密
度化のためには、媒体としては高保磁力で高飽和磁束密
度を有することが必要であり、酸化物の微粒子を塗布し
た媒体から、Ｃｏ−Ｎｉ系合金などをスパッタリング法
にて作成した媒体へ移行しつつある。このような高保磁
力媒体を十分に記録する能力を持つ磁気ヘッドは、磁気
的に飽和することなく大きな記録磁界を出す必要があ
る。このためには、磁気ヘッドのコア材として高い飽和
記録密度をもつ磁性材料を用いなければならないが、従
来磁気ヘッド用材料として多用されている強磁性酸化物
（フェライト）では飽和磁束密度が５ＫＧ程度であるた
め、保磁力９００（Ｏｅ）程度の記録媒体に記録するの
が限界であった。そこで強磁性酸化物を主体とした磁気
ヘッドにおいて、磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍をフェ
ライトより飽和磁束密度の高い金属磁性膜にて構成され
た複合型磁気ヘッド（ＭＩＧヘッド）によって高保磁力
媒体に対しても十分記録することができる磁気ヘッドが
提案されている。
にともない記録密度の高密度化が進められている。高密
度化のためには、媒体としては高保磁力で高飽和磁束密
度を有することが必要であり、酸化物の微粒子を塗布し
た媒体から、Ｃｏ−Ｎｉ系合金などをスパッタリング法
にて作成した媒体へ移行しつつある。このような高保磁
力媒体を十分に記録する能力を持つ磁気ヘッドは、磁気
的に飽和することなく大きな記録磁界を出す必要があ
る。このためには、磁気ヘッドのコア材として高い飽和
記録密度をもつ磁性材料を用いなければならないが、従
来磁気ヘッド用材料として多用されている強磁性酸化物
（フェライト）では飽和磁束密度が５ＫＧ程度であるた
め、保磁力９００（Ｏｅ）程度の記録媒体に記録するの
が限界であった。そこで強磁性酸化物を主体とした磁気
ヘッドにおいて、磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍をフェ
ライトより飽和磁束密度の高い金属磁性膜にて構成され
た複合型磁気ヘッド（ＭＩＧヘッド）によって高保磁力
媒体に対しても十分記録することができる磁気ヘッドが
提案されている。
【０００３】ところで、複合型磁気ヘッドにおいてはフ
ェライトと金属磁性膜との界面が疑似ギャップとして働
き、孤立再生波形が歪み、再生出力の周波数特性にうね
りを生じさせるという問題がある。この原因はガラス接
合時の熱によるフェライトと金属磁性膜の拡散が、疑似
ギャップとして働くからと考えられる。この疑似ギャッ
プは、フェライトと金属磁性膜との界面にＣｒ膜等の拡
散防止膜を形成することで改善することが可能である。
しかしながら、例えば７００℃以上の高温で接合した場
合には拡散防止膜が金属磁性膜と反応し、その部分が磁
気的劣化層となるため疑似ギャップを低減させることは
困難となる。したがって、疑似ギャップを低減させるに
は７００℃程度以下の温度にてガラス接合させることが
必要であり、この場合、ＰｂＯ系の低融点ガラスが用い
られている。図９は従来の磁気ヘッドの斜視図、図１０
は図９のギャップ部であるＡ部分の拡大図である。１は
金属磁性膜、２は高融点ガラス、３は低融点ガラス、４
は接合ガラス、５，６はコアとしての酸化物磁性体、７
は巻線溝である。
ェライトと金属磁性膜との界面が疑似ギャップとして働
き、孤立再生波形が歪み、再生出力の周波数特性にうね
りを生じさせるという問題がある。この原因はガラス接
合時の熱によるフェライトと金属磁性膜の拡散が、疑似
ギャップとして働くからと考えられる。この疑似ギャッ
プは、フェライトと金属磁性膜との界面にＣｒ膜等の拡
散防止膜を形成することで改善することが可能である。
しかしながら、例えば７００℃以上の高温で接合した場
合には拡散防止膜が金属磁性膜と反応し、その部分が磁
気的劣化層となるため疑似ギャップを低減させることは
困難となる。したがって、疑似ギャップを低減させるに
は７００℃程度以下の温度にてガラス接合させることが
必要であり、この場合、ＰｂＯ系の低融点ガラスが用い
られている。図９は従来の磁気ヘッドの斜視図、図１０
は図９のギャップ部であるＡ部分の拡大図である。１は
金属磁性膜、２は高融点ガラス、３は低融点ガラス、４
は接合ガラス、５，６はコアとしての酸化物磁性体、７
は巻線溝である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般にＰｂＯを多く含
む低融点ガラスは、ガラス自体の強度が弱いばかりでな
く、ＰｂＯは還元が起きやすいためＰｂの金属微小粒の
析出が生じ、これがきっかけとなってクラックが発生し
ギャップ強度を弱くさせる。特に複合型磁気ヘッドに低
融点ガラスを用いた場合には、金属磁性膜と接合ガラス
との拡散・反応が起き、ＰｂＯの還元を促進させるた
め、さらにギャップ強度を低下させてしまうという問題
点があった。
む低融点ガラスは、ガラス自体の強度が弱いばかりでな
く、ＰｂＯは還元が起きやすいためＰｂの金属微小粒の
析出が生じ、これがきっかけとなってクラックが発生し
ギャップ強度を弱くさせる。特に複合型磁気ヘッドに低
融点ガラスを用いた場合には、金属磁性膜と接合ガラス
との拡散・反応が起き、ＰｂＯの還元を促進させるた
め、さらにギャップ強度を低下させてしまうという問題
点があった。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、ギャップ部における接合強度を大きくすることがで
きる磁気ヘッドを提供することを目的とする。
で、ギャップ部における接合強度を大きくすることがで
きる磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドは、少なくとも一方に巻線溝を形
成した一対のコアと、この一対のコアの少なくとも一方
のコアのギャップ対向面に金属磁性膜が設けられたギャ
ップ部とを備え、このギャップ部を金属磁性膜側から拡
散防止膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点ガラス
膜を順次積層した積層構造としたものである。
に本発明の磁気ヘッドは、少なくとも一方に巻線溝を形
成した一対のコアと、この一対のコアの少なくとも一方
のコアのギャップ対向面に金属磁性膜が設けられたギャ
ップ部とを備え、このギャップ部を金属磁性膜側から拡
散防止膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点ガラス
膜を順次積層した積層構造としたものである。
【０００７】
【作用】この構成により、ギャップ部の２つのコアの接
合力を大きくし、高いギャップ強度を得ることができ
る。
合力を大きくし、高いギャップ強度を得ることができ
る。
【０００８】
【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
説明する。
【０００９】図１は本発明の第１実施例における磁気ヘ
ッドの斜視図、図２は本発明の第１実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＢ部分の拡大図である。図１
において、１１，１２はコアとしてのフェライト等の酸
化物磁性体である。図２に示すギャップ部は、コアであ
る酸化物磁性体１１，１２の一方のギャップ対向面に形
成されており、金属磁性膜１３、Ｃｒ等の金属薄膜から
成る拡散防止膜１４，１５、高融点ガラス膜１６、低融
点ガラス膜１７を順次積層した積層構造となっている。
１８は接合ガラス、７は一方の酸化物磁性体１２に形成
された巻線溝である。拡散防止膜１４，１５は、Ｃｒ単
体またはこれらの酸化物または窒化物で形成されてい
る。また高融点ガラス膜１６はＳｉＯ2 単体もしくはＳ
ｉＯ2 を主成分とする材料で形成され、低融点ガラス膜
１７はＰｂＯ単体もしくはＰｂＯを主成分とする材料で
形成されている。
ッドの斜視図、図２は本発明の第１実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＢ部分の拡大図である。図１
において、１１，１２はコアとしてのフェライト等の酸
化物磁性体である。図２に示すギャップ部は、コアであ
る酸化物磁性体１１，１２の一方のギャップ対向面に形
成されており、金属磁性膜１３、Ｃｒ等の金属薄膜から
成る拡散防止膜１４，１５、高融点ガラス膜１６、低融
点ガラス膜１７を順次積層した積層構造となっている。
１８は接合ガラス、７は一方の酸化物磁性体１２に形成
された巻線溝である。拡散防止膜１４，１５は、Ｃｒ単
体またはこれらの酸化物または窒化物で形成されてい
る。また高融点ガラス膜１６はＳｉＯ2 単体もしくはＳ
ｉＯ2 を主成分とする材料で形成され、低融点ガラス膜
１７はＰｂＯ単体もしくはＰｂＯを主成分とする材料で
形成されている。
【００１０】金属磁性膜１３はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
等の金属磁性材料で構成され、スパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成されている。高融点ガラス膜１６
および低融点ガラス膜１７もスパッタリング等の薄膜形
成技術によって形成される。さらに拡散防止膜１４，１
５であるＣｒ等の金属薄膜も同様にスパッタリング等の
薄膜形成技術によって形成される。低融点ガラス膜１７
は酸化物磁性体１１，１２を接合するためのものであ
る。接合ガラス１８は更に接合強度を増すための補強材
として用いられている。
等の金属磁性材料で構成され、スパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成されている。高融点ガラス膜１６
および低融点ガラス膜１７もスパッタリング等の薄膜形
成技術によって形成される。さらに拡散防止膜１４，１
５であるＣｒ等の金属薄膜も同様にスパッタリング等の
薄膜形成技術によって形成される。低融点ガラス膜１７
は酸化物磁性体１１，１２を接合するためのものであ
る。接合ガラス１８は更に接合強度を増すための補強材
として用いられている。
【００１１】ここで接合ガラス１８は、二重の拡散防止
膜１４，１５があるため、金属薄膜まで到達することは
なく、金属薄膜と接合することになり、金属薄膜が安定
なためＰｂＯの還元は生じず、ギャップ強度及びギャッ
プ品質の低下を起こさせることはない。
膜１４，１５があるため、金属薄膜まで到達することは
なく、金属薄膜と接合することになり、金属薄膜が安定
なためＰｂＯの還元は生じず、ギャップ強度及びギャッ
プ品質の低下を起こさせることはない。
【００１２】図３は本発明の第２実施例における磁気ヘ
ッドの斜視図、図４は本発明の第２実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＣ部分の拡大図である。１９
はセラミック等の非磁性材料から成る非磁性基板、２
０，２１は非磁性基板１９で挟んだ積層コアである。２
２，２３，２４，２５はＣｒ等の金属薄膜から成る拡散
防止膜、２６，２７は高融点ガラス膜、２８は低融点ガ
ラス膜であり、積層コア２０から順次積層した積層構造
となっている。２９は接合ガラスである。積層コア２
０，２１はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成さ
れた金属磁性膜とＳｉＯ2 等の絶縁材料で構成された絶
縁膜を交互に積層して構成されている。
ッドの斜視図、図４は本発明の第２実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＣ部分の拡大図である。１９
はセラミック等の非磁性材料から成る非磁性基板、２
０，２１は非磁性基板１９で挟んだ積層コアである。２
２，２３，２４，２５はＣｒ等の金属薄膜から成る拡散
防止膜、２６，２７は高融点ガラス膜、２８は低融点ガ
ラス膜であり、積層コア２０から順次積層した積層構造
となっている。２９は接合ガラスである。積層コア２
０，２１はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成さ
れた金属磁性膜とＳｉＯ2 等の絶縁材料で構成された絶
縁膜を交互に積層して構成されている。
【００１３】図５は本発明の第３実施例における磁気ヘ
ッドの斜視図、図６は本発明の第３実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＤ部分の拡大図である。３
１，３２はフェライト等の酸化物磁性体、３３は金属磁
性膜、３４は拡散防止膜、３５は高融点ガラス膜、３６
は低融点ガラス膜、３７は接合ガラスである。
ッドの斜視図、図６は本発明の第３実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＤ部分の拡大図である。３
１，３２はフェライト等の酸化物磁性体、３３は金属磁
性膜、３４は拡散防止膜、３５は高融点ガラス膜、３６
は低融点ガラス膜、３７は接合ガラスである。
【００１４】金属磁性膜３３はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
等の金属磁性材料で構成され、スパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成されている。高融点ガラス膜３５
および低融点ガラス膜３６もスパッタリング等の薄膜形
成技術によって形成される。さらにＣｒ等の金属薄膜か
ら成る拡散防止膜３４も同様にスパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成される。低融点ガラス膜３６は酸
化物磁性体３１，３２を接合するためのものである。接
合ガラス３７は更に接合強度を増すための補強材として
用いられている。
等の金属磁性材料で構成され、スパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成されている。高融点ガラス膜３５
および低融点ガラス膜３６もスパッタリング等の薄膜形
成技術によって形成される。さらにＣｒ等の金属薄膜か
ら成る拡散防止膜３４も同様にスパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成される。低融点ガラス膜３６は酸
化物磁性体３１，３２を接合するためのものである。接
合ガラス３７は更に接合強度を増すための補強材として
用いられている。
【００１５】ここで、接合ガラス３７は高融点ガラス膜
３５まで溶けていくが、金属磁性膜３３との間に拡散防
止膜３４があるため、その金属薄膜と接合することにな
り、金属薄膜が安定なためＰｂＯの還元は生じず、ギャ
ップ強度及び品質の低下を起こさせることはない。
３５まで溶けていくが、金属磁性膜３３との間に拡散防
止膜３４があるため、その金属薄膜と接合することにな
り、金属薄膜が安定なためＰｂＯの還元は生じず、ギャ
ップ強度及び品質の低下を起こさせることはない。
【００１６】図７は本発明の第４実施例における磁気ヘ
ッドの斜視図、図８は本発明の第４実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＥ部分の拡大図である。３８
はセラミック等の非磁性体、３９，４０は積層コア、４
１，４２はＣｒ等の金属薄膜から成る拡散防止膜、４
３，４４は高融点ガラス膜、４５は低融点ガラス膜、４
６は接合ガラスである。積層コア３９，４０はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成された金属磁性膜とＳ
ｉＯ2 等の絶縁材料で構成された絶縁膜を交互に積層し
て構成されている。
ッドの斜視図、図８は本発明の第４実施例における磁気
ヘッドのギャップ部であるＥ部分の拡大図である。３８
はセラミック等の非磁性体、３９，４０は積層コア、４
１，４２はＣｒ等の金属薄膜から成る拡散防止膜、４
３，４４は高融点ガラス膜、４５は低融点ガラス膜、４
６は接合ガラスである。積層コア３９，４０はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成された金属磁性膜とＳ
ｉＯ2 等の絶縁材料で構成された絶縁膜を交互に積層し
て構成されている。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、接合ガラスと金属磁性
膜の間に反応が発生せず、２つのコアの接合力を大きく
することができ、高いギャップ強度を得ることができ
る。さらに高融点ガラス膜と低融点ガラス膜の反応も生
じないため、低融点ガラスもそれ自身の特性で接合が可
能となる。また金属磁性膜と高融点ガラスの間に拡散防
止膜を設けるため、従来の方法では金属磁性膜の表層が
高融点ガラスと反応して、一部非磁性部が生じて実効ギ
ャップが広がっていたが、拡散防止膜があることによ
り、実効ギャップの広がりも防止することができる。さ
らには高融点ガラス膜をすべて金属薄膜とすることも可
能であるが、金属磁性膜と金属薄膜の境界が光学的に判
別できないためギャップ長を測定できないので高融点ガ
ラス膜を設けることで光学的にギャップ長を測定するこ
とができる。
膜の間に反応が発生せず、２つのコアの接合力を大きく
することができ、高いギャップ強度を得ることができ
る。さらに高融点ガラス膜と低融点ガラス膜の反応も生
じないため、低融点ガラスもそれ自身の特性で接合が可
能となる。また金属磁性膜と高融点ガラスの間に拡散防
止膜を設けるため、従来の方法では金属磁性膜の表層が
高融点ガラスと反応して、一部非磁性部が生じて実効ギ
ャップが広がっていたが、拡散防止膜があることによ
り、実効ギャップの広がりも防止することができる。さ
らには高融点ガラス膜をすべて金属薄膜とすることも可
能であるが、金属磁性膜と金属薄膜の境界が光学的に判
別できないためギャップ長を測定できないので高融点ガ
ラス膜を設けることで光学的にギャップ長を測定するこ
とができる。
【図１】本発明の第１実施例における磁気ヘッドの斜視
図
図
【図２】本発明の第１実施例における磁気ヘッドのギャ
ップ部であるＢ部分の拡大図
ップ部であるＢ部分の拡大図
【図３】本発明の第２実施例における磁気ヘッドの斜視
図
図
【図４】本発明の第２実施例における磁気ヘッドのギャ
ップ部であるＣ部分の拡大図
ップ部であるＣ部分の拡大図
【図５】本発明の第３実施例における磁気ヘッドの斜視
図
図
【図６】本発明の第３実施例における磁気ヘッドのギャ
ップ部であるＤ部分の拡大図
ップ部であるＤ部分の拡大図
【図７】本発明の第４実施例における磁気ヘッドの斜視
図
図
【図８】本発明の第４実施例における磁気ヘッドのギャ
ップ部であるＥ部分の拡大図
ップ部であるＥ部分の拡大図
【図９】従来の磁気ヘッドの斜視図
【図１０】従来の磁気ヘッドの部分拡大図
７ 巻線溝 １１，１２，３１，３２ 酸化物磁性体 １３，３３ 金属磁性膜 １４，１５，２２，２３，２４，２５，３４，４１，４
２ 拡散防止膜 １６，２６，２７，３５，４３，４４ 高融点ガラス膜 １７，２８，３６，４５ 低融点ガラス膜 １８，２９，３７，４６ 接合ガラス １９ 非磁性基板 ２０，２１，３９，４０ 積層コア ３８ 非磁性体
２ 拡散防止膜 １６，２６，２７，３５，４３，４４ 高融点ガラス膜 １７，２８，３６，４５ 低融点ガラス膜 １８，２９，３７，４６ 接合ガラス １９ 非磁性基板 ２０，２１，３９，４０ 積層コア ３８ 非磁性体
Claims (6)
- 【請求項１】少なくとも一方に巻線溝を形成した一対の
コアと、前記一対のコアの少なくとも一方のコアのギャ
ップ対向面に金属磁性膜が設けられたギャップ部とを備
え、前記ギャップ部が、前記金属磁性膜側から拡散防止
膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点ガラス膜を順
次積層した積層構造としたことを特徴とする磁気ヘッ
ド。 - 【請求項２】前記金属磁性膜をＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
で形成し、前記拡散防止膜をＣｒ単体またはこれらの酸
化物または窒化物で形成し、前記高融点ガラス膜をＳｉ
Ｏ2 単体もしくはＳｉＯ2 を主成分とする材料で形成
し、前記低融点ガラス膜をＰｂＯ単体もしくはＰｂＯを
主成分とする材料で形成したことを特徴とする請求項１
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】少なくとも一方に巻線溝を形成し、金属磁
性膜と絶縁膜を交互に積層した積層コアを非磁性基板で
挟んだ一対のコアと、前記一対のコアの間に設けられた
ギャップ部とを備え、前記ギャップ部が前記コア側か
ら、拡散防止膜、高融点ガラス膜、拡散防止膜、低融点
ガラス膜を順次積層した積層構造としたことを特徴とす
る磁気ヘッド。 - 【請求項４】少なくとも一方に巻線溝を形成した一対の
コアと、前記一対のコアの少なくとも一方のコアのギャ
ップ対向面に金属磁性膜が設けられたギャップ部とを備
え、前記ギャップ部が、前記金属磁性膜側から拡散防止
膜、高融点ガラス膜、低融点ガラス膜を順次積層した積
層構造としたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項５】前記金属磁性膜をＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
で形成し、前記拡散防止膜をＣｒ単体またはこれらの酸
化物または窒化物で形成し、前記高融点ガラス膜をＳｉ
Ｏ2 単体もしくはＳｉＯ2 を主成分とする材料で形成
し、前記低融点ガラス膜をＰｂＯ単体もしくはＰｂＯを
主成分とする材料で形成したことを特徴とする請求項４
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項６】少なくとも一方に巻線溝を形成し、金属磁
性膜と絶縁膜を交互に積層した積層コアを非磁性基板で
挟んだ一対のコアと、前記一対のコアの間に設けられた
ギャップ部とを備え、前記ギャップ部が前記コア側か
ら、拡散防止膜、高融点ガラス膜、低融点ガラス膜を順
次積層した積層構造としたことを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26331093A JPH07121819A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26331093A JPH07121819A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07121819A true JPH07121819A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17387708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26331093A Pending JPH07121819A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07121819A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004037736A1 (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
-
1993
- 1993-10-21 JP JP26331093A patent/JPH07121819A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004037736A1 (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
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