JPH0438606A - 積層型磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）等の磁気記
録再生装置に装備される磁気ヘッドに関するものである
。

（従来の技術） 高周波、広帯域の信号を処理すべき高品位ＶＴＲにおい
ては、第９図に示す如き積層型の磁気ヘッドを装備して
、渦電流損失を低減することが検討されている。

該磁気ヘッドを構成する一対のヘッド半体（１）（１１
）は夫々、第１の非磁性基板（７）上に、薄膜形成技術
によって金属磁性薄膜（３）と非磁性薄膜（３１）とを
交互に積層して磁気コア部（３０）を設け、更に該磁気
コア部（３０）上にガラス接合層（６）を介して第２の
非磁性基板（７０）を固定したものである。

方のヘッド半体（１１）にはコイル窓（１２）が開設さ
れ、該コイル窓（１２）を用いてコイル（１３）が巻回
されている。

前記両ヘッド半体（１）（１１）はギャップスペーサ（
４１）を介して互いにガラス接合され、両磁気コア部（
３０）　（３０）によって挟まれたギャップスペーサ（
４１）によって磁気ギャップ部（４）が形成されている
。

しかし、上記磁気ヘッドの場合、記録媒体の狭トラツク
化に応じて磁気ギャップ部（４）のトラック幅、即ち磁
気コア部（３０）の幅を狭く形成した場合、磁気コア部
（３０）によって形成される磁路の磁気抵抗が増大して
、特にヘッド頭部で磁気飽和を生じる問題があった。

そこで、第１０図に示す様に、各ヘッド半体（１）（１
１）を構成する磁気コア部（３０）の非磁性基板（７）
とは反対側に、ガラス接合層（６）を介して、センダス
ト等の磁性基板（２０）を固定し、各磁性基板（２０）
のギャップスペーサ（４１）側の端部にはガラス部（７
１）を設けた積層型磁気ヘッドが提案されている（特開
昭６３−９４４１８号ＣＧ１１Ｂ５／１２７）　）。

該磁気ヘッドによれば、狭トラツク化を図る場合にも、
磁性基板（２０）の存在によって、第９図の磁気ヘッド
に比べて磁気抵抗の増大を緩和することが可能である。

（解決しようとする課題） しかしながら、第１０図の磁気ヘッドにおいては、各ヘ
ッド半体（１）（１１）の磁性基板（２０）が磁気コア
部（３０）の片側に存在するに過ぎないから、磁気飽和
防止の点で依然として不十分であり、記録再生性能の改
善に限度があった。

又、コイル窓（１２）を包囲する磁路の短縮によって磁
気抵抗の低減を図る場合、コイル窓（１２）の小形化が
不可欠であるが、従来はコイル（１３）を手作業で巻回
していたから、コイル窓（１２）の小形化に限界があっ
た。

本発明の目的は、これらの問題を一挙に解決して、狭ト
ラツク化に伴う磁気飽和の防止と、磁路の短縮による磁
気抵抗の低減において優れた効果を発揮する積層型磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る積層型磁気ヘッドは、各ヘッド半体（１）
（１１）の磁気コア部（３０）のトラック幅方向の両側
に磁性基板（２）（２１）を配備している。

両ヘッド半体（１）（１１）の磁気コア部（３０）　（
３０）の互いに対向する端面（３２）　（３２）には、
磁気ギャップ部（４）を挟んで両側に、第１の金属磁性
薄膜（５）（５）が磁気コア部（３０）の積層方向の全
幅に亘って形成される。

又、前記金属磁性薄膜（５）（５）のトラック幅方向の
両側には、両ヘッド半体（１）（１１）の磁性基板（２
）（２１）間に介在する絶縁膜（８）　（８）を設ける
。

更に、両ヘッド半体（１）（１１）の突合せ部には、前
記第１の金属磁性薄膜（５）（５）からヘッド後部側へ
離れた位置に、両磁気コア部（３０）　（３０）の端面
（３２）（３２）を互いに磁気的に連結する第２の金属
磁性薄膜（５１）　（５１）が形成されている。

前記金属磁性薄膜（５１）（５１）を包囲してコイル導
体層（９）が形成されている。

又、本発明に係る積層型磁気ヘッドの製造方法は、第１
工程にて、磁性基板（２２）の表面に金属磁性薄膜（３
）及び非磁性薄膜（３１）を交互に積層して磁気コア部
（３０）となる積層部を形成する。

第２の工程では、前記工程を経て作製された複数の積層
体（３３）を接合層を介して互いに接合−磁化した後、
該接合体（３４）を前記積層部とは直交する面にて切断
し、積層部の端面が露出したブロック半体（３５）を作
製する。

その後筒３の工程にて、前記ブロック半体（３５）の切
断面に、前記積層部の端面に重ねて、ヘッド頭部側には
第１の金属磁性薄膜（５）、ヘッド後部側には第２の金
属磁性薄膜（５１）を形成する。

第４工程では、前記ブロック半体（３５）の切断面に、
前記両金属磁性薄膜（５）（５１）を除く領域へ絶縁膜
（８１）を形成した後、該絶縁膜（８１）の表面に、前
記第２の金属磁性薄膜（５１）を包囲してコイル導体層
（９）を形成し、更に該コイル導体層（９）を覆って絶
縁膜（８２）を形成して、該絶縁膜（８２）、前記第１
及び第２の金属磁性薄膜（５）（５１）及びコイル導体
層（９）の一端（９１）が一平面に露出したブロック半
体（３５）を作製する。

その後、第５工程では、前記工程を経て得られた一対の
ブロック半体（３５）　（３５）を、ギャップスペーサ
（４１）を介して互いに接合固定し、両ブロック半体の
第１の金属磁性薄膜（５）　（５）間には前記ギャップ
スペーサ（４１）が介在し、且つ第２の金属磁性薄膜（
５１）（５１）どうし、及び前記コイル導体層（９）の
一端（９１）（９１）どうしは互いに密着した一体のヘ
ッドブロック（３６）を作製した後、該ヘッドブロック
（３６）を前記積層部及び金属磁性薄膜（５）（５１）
毎に切断して、複数のヘッドチップを得る。

（作　用） 上記積層型磁気ヘッドにおいては、各ヘッド半体（１）
（１１）の略全体、即ち磁気コア部（３０）、第１の金
属磁性薄膜（５）　（５）、第２の金属磁性薄膜（５１
）（５１）、及び陶磁性基板（２）（２１）によって磁
路が形成され、磁気コア部（３０）の両側に配備された
２枚の磁性基板（２）（２１）の存在によって十分な断
面積の磁路が確保される。

コイル導体層（９）は周知の薄膜形成技術を用いて高い
精度で形成することが可能である。

又、上記積層型磁気ヘッドの製造方法においては、第１
の工程、第３の工程、第４の工程等の殆どの工程が薄膜
形成技術によって実現される。

（発明の効果） 本発明に係る積層型磁気ヘッドによれば、狭トラツク化
を図る場合にも、磁性基板（２）（２１）の存在によっ
て十分な磁路が確保出来るがら、磁気飽和を招来するこ
となく、十分な磁力で記録媒体を磁化することが出来る
。

然もコイル導体層（９）は薄膜形成技術によって形成出
来るから、磁路短縮のために第１の金属磁性薄膜（５）
と第２の金属磁性薄膜（５１）とを接近して設ける場合
にも、十分な巻数を確保出来、磁路の短縮による磁気抵
抗の低減においても優れた効果が得らる。

又、本発明に係る積層型磁気ヘッドの製造方法によれば
、薄膜形成工程が主体となるから、高い生産能率で、前
記本発明に係る構造の積層型磁気ヘッドを製造すること
が出来る。

（実施例） 第１図は本発明に係る積層型磁気ヘッドの一実施例を示
している。尚、実施例は本発明を説明するためのもので
あって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範
囲を減縮する様に解すべきではない。

第１図及び第２図の如く、磁気ヘッドを構成する一対の
ヘッド半体（１）（１１）は夫々、磁気コア部（３０）
の両側に磁性基板（２）（２１）を配備し、両ヘッド半
体（１）（１１）の突合せ部の頭部側の領域に、ギャッ
プスペーサ（４１）を介装し、該ギャップスペーサ（４
１）によって磁気ギャップ部（４）を形成している。又
、両ヘッド半体（１）（１１）の磁気コア部（３ｏ）（
３０）の互いに対向する端面（３２）　（３２）には、
磁気ギャップ部（４）を挟んで両側に、第１の金属磁性
薄膜（５）　（５）が磁気コア部（３０）の積層方向の
全幅に亘って形成されている。

前記金属磁性薄膜（５）（５）のトラック幅方向の両側
には、両ヘッド半体（１０１１）の磁性基板（２）（２
１）間に介在する絶縁膜（８）　（８）が設けられ、更
にそれらの両側には、両ヘッド半体（１）（１１）を互
いに接合固定するガラス部（８３）　（８３）が設けら
れている。

更に又、両ヘッド半体（１）（１１）の突合せ部には、
前記第１の金属磁性薄膜（５）（５）からヘッド後部側
へ離れた位置に、両磁気コア部（３０）　（３０）の端
面（３２）　（３２）を互いに磁気的に連結する第２の
金属磁性薄膜（５１）（５１）が形成されている。

前記第２の金属磁性薄膜（５１）（５１）を包囲してＣ
ｕ薄膜からなるコイル導体層（９）が形成され、該コイ
ル導体層（９）は、前記絶縁膜（８）によって周囲との
電気絶縁が施されている。

各ヘッド半体（１）（１１）を構成する一対の磁性基板
（２）（２１）は例えばフェライト等を資材として作製
され、一方の磁性基板（２）上にセンダスト、Ｃ。

系アモルファス合金等からなる金属磁性薄膜（３）と、
ＳｉＯ２、Ａ１２０ａ、　Ｔｉ、　Ｃｒ等からなる非磁
性薄膜（３１）とを交互に形成して、磁気コア部（３０
）を設け、該磁気コア部（３０）上にガラス接合層（６
）を介して他方の磁性基板（２１）を接合固定している
。

又、金属磁性薄膜（５）は、−軸異方性を有するＣｏ系
アモルファス合金等を資材として形成される。

以下、上記積層型磁気ヘッドの製造方法について説明す
る。

先ず第３図に示す如く、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等からな
る磁性基板（２２）の表面に、スパッタリング、蒸着、
ＣＶＤ法等の薄膜形成技術を用いて、５Ｌ０２等を資材
とする金属磁性薄膜（３）と、センダスト等を資料とす
る非磁性薄膜（３１）とを交互に積層して、積層体（３
３）を作製する。本実施例では、金属磁性薄膜（３）の
厚さを５μｍ１非磁性薄膜（３１）の厚さを０１μｍと
して、金属磁性薄膜（３）は４層形成する。

次に第４図に示す如く前記工程を経て得られた複数の積
層体（３３）をガラス層（６１）を介して接合し、一体
の接合体（３４）を作製した後、該接合体（３４）を図
中の鎖線に沿って切断し、切断面には鏡面研磨を施す。

前記切断によって得られたブロック半体（３５）の切断
面に、第５図の如く薄膜形成部分の端面に重ねて、ヘッ
ド頭部側には第１の金属磁性薄膜（５）を、該金属磁性
薄膜（５）がらヘッド後部側へ離れた位置には第２の金
属磁性薄膜（５１）を、夫々スパッタリング、エツチン
グ等によって所定形状に形成する。金属磁性薄膜（５）
（５１）の資料としてはセンダスト、ＣｏＺｒＮｂ等が
用いられる。

更に前記ブロック半体（３５）の切断面に対し、前記金
属磁性薄膜（５）（５１）を除く領域に５ｉ０２等の絶
縁膜（８１）を形成した後、該絶縁膜（８１）の表面に
、第２の金属磁性薄膜（５１）を包囲して、ｃｕ等のコ
イル導体層（９）を渦巻き状に形成する。該コイル導体
層（９）の両端にはターミナル部（９１）　（９２）が
設けられ、一方のターミナル部（９１）は金属磁性薄膜
（５１）と同じ高さ、或いは僅かに高く形成される。

他方のターミナル部（９２）は、外部回路との接続に用
いられることになる。これらの工程も同じく、スパッタ
リング、エツチング等を用いて容易に行なわれる。

第６図の如く、前記絶縁膜（８１）及びコイル導体層（
９）の形成面にＳｉＯ□等の絶縁膜（８２）を形成した
後、その表面にエツチングを施して、絶縁膜（８２）、
金属磁性薄膜（５）（５１）及び一方のターミナル部（
９１）が一平面に揃った接合面（３７）を形成する。こ
の際、他方のターミナル部（９２）は露出させる。

第７図に示す様に、前記ブロック半体（３５）の絶縁膜
（８２）の形成面に対し、金属磁性薄膜（５）（５１）
の両側へ、ガラス溝（２４）を磁性基板（２２）に達す
る深さで凹設する。

上記工程を経て得られた一対のブロック半体（３５）（
３５）を第８図の如（５ｉｎ２等のギャップスペーサ（
４１）を介して接合する。該ギャップスペーサ（４１）
は、ブロック半体（３５）のヘッド頭部側の領域、即ち
第７図に示す第１の金属磁性薄膜（５）は含むが、第２
の金属磁性薄膜（５１）は含まない領域に形成される。

その後、前記ガラス溝（２４）にガラス（８４）を充填
することによって両ブロック半体（３５）（３５）を接
合固定し、一体のヘッドブロック（３６）を作製する。

この過程で、両ブロック半体（３５）（３５）の第２の
金属磁性薄膜（５１）どうし、及びターミナル部（９１
）どうしが密着することになる。

第８図のヘッドブロック（３６）を図中の鎖線に沿って
切断し、これによって得られたヘッドチップに曲面研磨
等を施すことによって、第１図の積層型磁気ヘッドが完
成する。

上記製造方法によれば、殆どの工程をスパッタリング、
エツチング等の薄膜形成技術によって実現出来るから、
第１図の積層型磁気ヘッドを高い生産能率で製造するこ
とが可能である。

又、上記積層型磁気ヘッドにおいては、両ヘッド半体（
１）（１１）の第１の金属磁性薄膜（５）　（５）どう
しが対向して磁気ギャップ部（４）を形成しているから
、該金属磁性薄膜（５）の資材として、−軸異方性を有
するＣＯ系アモルファス合金等を用い、高周波特性の良
好な磁化困難軸を、ヘッドの磁化方向、即ち記録媒体面
に対する垂直方向に設定することによって、高い記録再
生性能を達成出来る利点がある。

上記実施例の説明は、本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る積層型磁気ヘッドの斜視図、第２
図は第１図の鎖線に沿う断面図、第３図乃至第８図は本
発明に係る積層型磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、
第９図及び第１０図は夫々従来の積層型磁気ヘッドの斜
視図である。 （５１）・・・第２の金属磁性薄膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］一対のヘッド半体（１）（１１）の突合せ部に磁
   気ギャップ部（４）を設けて構成され、各ヘッド半体（
   １）（１１）は、金属磁性薄膜（３）と非磁性薄膜（３
   １）とを交互にトラック幅方向に積層してなる磁気コア
   部（３０）を具えている積層型磁気ヘッドに於て、 各ヘッド半体（１）（１１）の磁気コア部（３０）のト
   ラック幅方向の両側に配備された磁性基板（２）（２１
   ）と、 両ヘッド半体（１）（１１）の磁気コア部（３０）（３
   ０）の互いに対向する端面（３２）（３２）に対し、磁
   気ギャップ部（４）を挟んで両側に形成され、磁気コア
   部（３０）の積層方向の厚さに一致する幅を有する第１
   の金属磁性薄膜（５）（５）と、 該金属磁性薄膜（５）（５）のトラック幅方向の両側に
   、両ヘッド半体（１）（１１）の磁性基板（２）（２１
   ）間に介在して設けられた絶縁膜（８）（８）と、両ヘ
   ッド半体（１）（１１）の突合せ部に、前記第１の金属
   磁性薄膜（５）（５）からヘッド後部側へ離して形成さ
   れ、両磁気コア部（３０）（３０）の端面（３２）（３
   ２）を互いに磁気的に連結する第２の金属磁性薄膜（５
   １）（５１）と、 該金属磁性薄膜（５１）（５１）を包囲して形成された
   コイル導体層（９） とを具えていることを特徴とする積層型磁気ヘッド。 ［２］一対のヘッド半体（１）（１１）の突合せ部に磁
   気ギャップ部（４）を設けて構成され、各ヘッド半体（
   １）（１１）は、金属磁性薄膜（３）と非磁性薄膜（３
   １）とを交互にトラック幅方向に積層してなる磁気コア
   部（３０）を具えている積層型磁気ヘッドの製造方法に
   於て、 磁性基板（２２）の表面に金属磁性薄膜（３）及び非磁
   性薄膜（３１）を交互に積層して磁気コア部（３０）と
   なる積層部を形成する第１の工程と、前記工程を経て作
   製された複数の積層体（３３）を接合層を介して互いに
   接合一体化した後、該接合体（３４）を前記積層部とは
   直交する面にて切断し、積層部の端面が露出したブロッ
   ク半体（３５）を作製する第２の工程と、 前記ブロック半体（３５）の切断面に、前記積層部の端
   面に重ねて、ヘッド頭部側には第１の金属磁性薄膜（５
   ）、ヘッド後部側には第２の金属磁性薄膜（５１）を形
   成する第３の工程と、前記ブロック半体（３５）の切断
   面に、前記両金属磁性薄膜（５）（５１）を除く領域へ
   絶縁膜（８１）を形成した後、該絶縁膜（８１）の表面
   に、前記第２の金属磁性薄膜（５１）を包囲してコイル
   導体層（９）を形成し、更に該コイル導体層（９）を覆
   って絶縁膜（８２）を形成して、該絶縁膜（８２）、前
   記第１及び第２の金属磁性薄膜（５）（５１）及びコイ
   ル導体層（９）の一端（９１）が一平面に露出したブロ
   ック半体（３５）を作製する第４の工程と、 前記工程を経て得られた一対のブロック半体（３５）（
   ３５）を、ギャップスペーサ（４１）を介して互いに接
   合固定し、両ブロック半体の第１の金属磁性薄膜（５）
   （５）間には前記ギャップスペーサ（４１）が介在し、
   且つ第２の金属磁性薄膜（５１）（５１）どうし、及び
   前記コイル導体層（９）の一端（９１）（９１）どうし
   は互いに密着した一体のヘッドブロック（３６）を作製
   した後、該ヘッドブロック（３６）を前記積層部及び金
   属磁性薄膜（５）（５１）毎に切断して、複数のヘッド
   チップを得る第５の工程 とを具えたことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造方
   法。