JPH06223324A - 磁気ヘッドとその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁性合金薄膜または多層磁性合金薄膜で構成
される複合型磁気ヘッドにおいて、狭トラック幅化とヘ
ッドコアの小形化による再生能率の低下を改善し、高記
録能率を達成する高磁束密度の磁性合金薄膜材におい
て、比透磁率を高く出来ない場合の再生能率が向上出来
る磁性合金薄膜系の複合磁気ヘッドを提供する事を目的
とする。 【構成】 非磁性補助基板間に磁性合金薄膜をトラック
幅として配置し、ギャップを構成する磁気ヘッドの少な
く一方の非磁性補助基板１ｂのギャップ３に掛からない
部分に凹溝５を設け溝部内のみに４の磁性合金薄膜Ｂを
形成し、それに隣接してトラック幅を形成する２の磁性
合金薄膜Ａを配置し、もう一方の非磁性補助基板を接着
構成した両ヘッドコア半体をギャップ材を介して突き合
わせた構成にする事で、狭トラック幅の磁気ヘッドにお
いても再生能率が向上し、高磁束密度の磁性合金薄膜Ａ
の比透磁率が低い場合は、記録再生共に優れた電磁変換
特性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置におけ
る高周波信号を狭トラックで記録再生するに適した磁性
合金薄膜系の複合磁気ヘッド及び、その製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＶＴＲ等の高周波信号を記録再生
する磁気記録再生装置は高密度化が進んでいる。その手
段として記録信号の高周波化、広帯域化、記録信号トラ
ックの狭トラック幅化がなされている。

【０００３】高周波帯域での性能を向上させるために
は、高抗磁力媒体が使用されるため、磁気ヘッドは、磁
性体に高磁束密度のアモルファス合金やセンダストに代
表される結晶合金の磁性体が使用されている。

【０００４】一般に合金系の磁性体は電気抵抗が低いた
め、高周波帯域では渦電流損失が発生し磁気特性が低下
する欠点がある。

【０００５】その対策として、スパッタリングや蒸着等
の工法により磁性合金を薄膜化したり、更に絶縁材の薄
膜を介して多層に積層形成した磁性体が広く使われてい
る。又、狭トラック幅化を行うにおいても薄膜形成の磁
性体が機械的精度を確保するのに有効である。

【０００６】以下に従来の多層合金薄膜系の複合磁気ヘ
ッドについて説明する。図１７はその一例を示すもので
ある。非磁性補助基板２４の間に磁性合金薄膜２１と２
１に比べ非常に薄い電気的絶縁薄膜２２を交互に多層形
成し、所定のトラック幅にしたコア半体２７と、同様な
コア半体に巻線を施すための巻線窓２９を有するコア半
体２８をギャップ材２５を挟んで磁気ヘッドを構成す
る。

【０００７】また、最近のＶＴＲの高機能と小型化によ
り、ヘッドコアの小型化と狭トラック幅化が著しく、図
１８の様なコンビネーションヘッドを構成すると、その
コア長さＬは、１．５mm以下になり、トラック幅Ｔも長
時間化により２０μｍ以下になって来ている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、ヘッドコアの小型化と狭トラック幅化に
より、コアの磁気回路抵抗が増加し信号再生能率が著し
く低下するという問題を有していた。

【０００９】また、高抗磁力媒体に十分記録するための
コアの磁性合金薄膜材も磁束密度が１テスラ以上の材料
が種々開発されてきているが、必ずしも信号再生能率を
左右する比透磁率を同時に高くする事が困難であるとい
う問題点を有していた。

【００１０】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、磁性合金薄膜系のヘッドコアの小型化と狭トラック
幅化による再生能率の低下を改善し、高磁束密度の磁性
合金薄膜材の比透磁率を高くできない場合の再生能率を
向上させる磁性合金薄膜系の複合磁気ヘッドを提供する
ことを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドは、非磁性補助基板の少なくとも
一方に凹溝を施し、その凹溝面に高透磁率を有する多層
磁性合金薄膜Ｂを形成し、凹溝部内のみに多層磁性合金
薄膜Ｂが残るよう平滑研磨する。その平滑研磨面上に高
飽和磁束密度を有する多層磁性合金薄膜Ａを形成後、も
う一方の非磁性補助基板を接着形成しコアブロックとす
る。このコアブロックを多層磁性合金薄膜が記録再生の
ためのギャップ面に掛からないように成形し、コア半体
とする。両コア半体をギャップとなる非磁性材を介し、
多層磁性合金薄膜Ａが狭トラック幅を成すよう接着形成
する事を特長とした複合磁気ヘッドの構成を有してい
る。

【００１２】

【作用】この構成によって、狭トラック幅での記録と再
生は高飽和磁束密度の多層磁性合金薄膜Ａにより動作
し、再生時にはギャップ面に掛からない位置に、磁気回
路抵抗を低下させるための補助コアとして、高比透磁率
の多層磁性合金薄膜Ｂを隣接配置する事で、狭トラック
幅での記録能率と再生能率を高くする事が出来る。

【００１３】

【実施例】

（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。

【００１４】図１において、１ａ，１ｂは非磁性補助基
板、２は多層磁性合金薄膜Ａ、３は記録再生ギャップ、
４は多層磁性合金薄膜Ｂ、５は非磁性補助基板１ｂに設
けられた凹溝部、６は巻線、７は巻線を施すための窓
部、８はヘッドコアを取り付けるヘッドベースである。

【００１５】以上のように構成された磁気ヘッドの主要
な部分の製造方法を、図２〜図９を用いて説明する。ま
ず、図２のように非磁性補助基板１に研削砥石等で凹溝
５を媒体接触面Ｓに垂直に設ける、凹溝は必要に応じエ
ッチング等の工法を使用しても良い。次に図３のように
凹溝形成面に４の多層磁性合金薄膜Ｂを形成する。そし
て、図４のように多層磁性合金薄膜Ｂ形成面を、凹溝部
内のみ多層磁性合金薄膜Ｂが残るまで平滑研磨する。そ
の後、図５の様に平滑研磨面に２の多層磁性合金薄膜Ａ
を所望のトラック幅に成るよう形成する。図６は、図５
の磁性合金薄膜を形成した基板９を複数枚数積層し、接
着したコアブロックである。このコアブロックを図７の
様に磁性合金薄膜Ｂに掛からない位置で切断研磨し、コ
ア半体ブロック１０，１１を成し、一方に巻線を施すた
めの巻線窓となる溝７を設け、図８の様にギャップ材１
２を挟んで２つのコア半体ブロックを接着する。図９
は、このコアブロックを所望寸法のヘッドコア１３にな
るように切断された図である。

【００１６】本実施例による図１の複合型磁気ヘッドと
図１７の従来の複合型磁気ヘッドを（表１）

【００１７】

【表１】

【００１８】に示す磁気特性の多層磁性合金膜を用いた
磁気ヘッドにより電磁変換特性を比較して図１６のグラ
フに示している。尚、図中の０ｄＢは従来の複合型磁気
ヘッドの出力値である。

【００１９】この図１６から明らかなように、本実施例
による磁気ヘッドは、従来の多層磁性合金薄膜と同じ磁
気特性の材料を多層磁性合金薄膜Ａに用いているにも関
わらず、狭トラック幅になる程、また高周波域になるほ
ど電磁変換特性の出力値に優れた効果が得られた。

【００２０】以上のように本実施例によれば、高飽和磁
束密度の多層磁性合金薄膜Ａにより狭トラック幅を構成
し、非磁性補助基板の少なくとも一方である図１の１ｂ
に凹溝を形成し、凹溝内のみに高透磁率の多層磁性合金
薄膜Ｂを記録再生の為のギャップ面に掛ず、トラック幅
を構成しない位置に多層磁性合金薄膜Ａと隣接させる事
で磁気回路抵抗を低下させる磁気回路断面積の拡大が図
れる。そのため記録能率、再生能率共に向上する。そし
て生産性の面では狭トラック幅精度を維持しつつ、製造
工程数を大幅に追加する事なく達成できる。

【００２１】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図１０〜図１５は
本発明の第２の実施例を示す。図１０は第１の実施例１
の図２の非磁性補助基板１に施した凹溝５の形成をギャ
ップ面Ｇに掛からず媒体摺動面Ｓに表れないように加工
し、図１２は第１の実施例の溝と図１０の溝を組み合わ
せた凹溝である。図１４は媒体摺動面Ｓに対し斜めに凹
溝を儲け、記録再生ギャップ面Ｇに掛からないように形
成する。図１１、図１３、図１５は図１０、図１２、図
１４それぞれの凹溝形成された非磁性補助基板が第１の
実施例と同じ工程を経て、コア半体ブロック１０、１１
に成形されたものを表す。

【００２２】

【発明の効果】以上のように本発明は、非磁性補助基板
間に狭トラック幅を構成する磁性合金薄膜Ａと少なくと
も一方の非磁性補助基板に凹溝をもうけ、凹溝内のみに
磁性合金薄膜Ｂを形成し、磁性合金薄膜が記録再生の為
のギャップ面に掛からない様成形する事で狭トラック幅
においても記録及び再生能率共優れる。また、高飽和磁
束密度の磁性合金薄膜Ａと高透磁率の磁性合金薄膜Ｂで
構成する事により、更に優れた磁性合金薄膜系の複合型
磁気ヘッドを実現できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例におけるヘ
ッド完成図

【図２】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図３】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図４】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図５】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図６】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図７】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図８】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図９】本発明の磁気ヘッドの第１の実施例における製
造工程図

【図１０】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１１】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１２】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１３】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１４】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１５】本発明の磁気ヘッドの第２の実施例における
製造工程図

【図１６】本発明の磁気ヘッドと従来の磁気ヘッドの電
磁変換特性比較図

【図１７】（ａ）従来の多層磁性合金薄膜系ヘッドの一
例図 （ｂ）多層磁性合金薄膜の構造図

【図１８】従来の多層合金薄膜系ヘッドのコンビネーシ
ョン構造のヘッド完成図

【符号の説明】

１，２４ 非磁性補助基板 ２ 多層磁性合金薄膜Ａ ３ ギャップ ４ 多層磁性合金薄膜Ｂ ５ 凹溝部 ６，２６ 巻線 ７，２９ 巻線窓 ８，３０ ヘッドベース ９ 磁性合金薄膜形成後の基板 １０ コア半体ブロック １１ 巻線窓形成後のコア半体ブロック １２，２５ ギャップ材 １３ ヘッドコア ２１ 磁性合金薄膜 ２２ 非磁性材薄膜 ２３ 多層磁性合金薄膜 ２５ ギャップ材 ２７，２８ ヘッドコア半体 Ｓ 媒体接触面 Ｇ 記録再生ギャップ面 Ｌ コア長さ Ｔ トラック幅

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性補助基板間に磁性合金薄膜、また
   は磁性合金薄膜と絶縁材薄膜を交互に多層化した多層磁
   性合金薄膜で構成した、コア１対を非磁性材であるギャ
   ップ部材を挟んで接合し、磁性合金薄膜部、または多層
   磁性合金薄膜部の膜厚をトラック幅とする複合磁気ヘッ
   ドにおいて、トラック幅と磁気回路を形成する磁性合金
   薄膜、または多層磁性合金薄膜Ａと、前記非磁性補助基
   板の少なくとも一方に、記録再生のためのギャップ面以
   外の部分に凹溝を有し、凹溝部内のみ磁性合金薄膜、ま
   たは多層磁性合金薄膜Ｂを有して、互いに隣接形成され
   た事を特徴とする複合型磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記磁性合金薄膜Ａの比透磁率μａと磁
   性合金薄膜Ｂの比透磁率μｂが、μａ＜μｂの関係を持
   つ請求項１記載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 前記磁性合金薄膜Ａの飽和磁束密度Ｇａ
   と磁性合金薄膜Ｂの飽和磁束密度Ｇｂが、Ｇａ＞Ｇｂの
   関係を持つ請求項１記載の磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 凹溝を有する非磁性補助基板の凹溝面上
   に磁性合金薄膜、または多層磁性合金薄膜Ｂを形成し、
   凹溝部内のみの磁性合金薄膜、または多層磁性合金薄膜
   Ｂを残し平滑研磨する第１工程と、前記平滑研磨面上に
   磁性合金薄膜、または多層磁性合金薄膜Ａを形成し、そ
   の上に非磁性補助基板を接着形成する第２工程と、前記
   磁性合金薄膜、または多層磁性合金薄膜Ｂが記録再生す
   るためのギャップ面にかからない様に成形し、コア半体
   を成す第３工程と、両コア半体を非磁性材を介して、磁
   性合金薄膜、または多層磁性合金薄膜Ａによりトラック
   幅を形成し、接着する第４工程からなることを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。