JPH02130706A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ＶＴＲ等の信号記録再生装置に装備される磁
気ヘッドに関し、特に広帯域信号の記録再生に適した磁
気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 近年、ＶＴＲの高品位化に伴って、記録信号の周波数帯
域が３０ＭＨｚ以上に広がっており、この様な広帯域信
号を記録再生する為の磁気ヘッドとして、第４図に示す
如き磁気ヘッドが提案されている。

該磁気ヘッドは、一対のコア半休（１３）（１４）を、
磁気ギャップ部（２０）を挟んで互いにガラス接合して
形成され、各コア半休は、結晶化ガラス等からなる一対
の非磁性基板（１００）　（１０１）の間に、センダス
ト、アモルファス合金等の強磁性金属薄膜と、５ｉＯｚ
等の絶縁薄膜からなる積層体（５０）を介装している。

上記磁気ヘッドに於いては、磁気回路が積層体く５０）
によって形成されるため、高周波信号の再生時にも渦電
流損失が少なく、高い再生効率が得られる。

（解決しようとする課題） ところが、第４図の磁気ヘッドに於いては、コイル窓（
６）を包囲する磁気回路の磁路幅が、積層体（５０）の
厚さ（例えば３０μ、）によって規制されるから、磁気
抵抗が大きく、コア効率が悪い問題があった。

そこで、第５図の如く積層体（５０）の両側にフェライ
ト基板（１０２）　（１０３）を配備して、コア効率の
改善を図った複合型磁気ヘッドが提案されているが（特
開昭６２−１３フフ１１［Ｇ１１Ｂ５／１２）】）、該
磁気ヘッドに於いては、両フェライト基板に、トラック
幅を規制するガラス部（１０４）　（１０５）を設ける
必要があり、然も該ガラス部は、−ａに低融点ガラスに
よって形成される為、次の様な問題があった。

即ち、前記ガラス部（１０４）　（１０５）がテープ対
接面（１０）上に露出する為、磁気テープとの高速の摺
接により、ガラス部表面に磁性粉が付着しなり、該表面
に陥没が生じ、これによって磁気ヘッドと磁気テープと
の接触が不安定となる。

又、フェライト基板（１０２）　（１０３）と積層体（
５０）との界面における磁気抵抗に起因して、依然とし
てコア効率が悪い。

本発明の目的は、磁気回路の大部分を強磁性金属薄膜と
絶縁膜のｍ層体（５）によって形成することによってコ
ア効率が高く、然も磁気記録媒体との対接面（１０）に
ガラス部が露出せず、安定した摺接状態が長期間に亘っ
て維持される磁気ヘッドを提供することである。

〈課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドは、磁気ギャップ部（２）を具
えたフロントコア（１１）と、電気コイルを巻装すべき
コイル窓（６）を具えたバックコア（１２）とを一体に
具え、両コア（１１）（１２）の内、少なくともバック
コア（１２）の磁気回路が、金属磁性薄膜と絶縁薄膜の
積層体（５）によって形成されている。

バックコア（１２）の積層体（５）の積層厚さは、所定
のトラック幅よりも大きく形成される。又、フロントコ
ア（１１）は、前記積層体くら）の膜形成面に略直交す
るバックコア端面に、真空蒸着、スパッタリング等によ
る磁性膜からなる一対の磁性部（３）（３）と、両磁性
部間に介在する磁気ギャップ部（２）を形成すると共に
、両磁性部（３）（３）のトラック幅方向の両側面に沿
って、磁性部（３）と同程度の硬度を有する非磁性部（
４）（４）を設けている。

（作　用） 上記磁気ヘッドの製造に際して、磁性部（３）（３）は
例えばセンダストのスパッタリングによって形成され、
この場合、非磁性部（４）は、センダストと同程度の硬
度を有するセラミックのスパッタリングによって形成出
来る。

又、磁気ヘッドとしての作動時、フロントコア（１１）
の磁路は磁性部（３）（３）によって形成される。

又、バックコア（１２）の磁路は積層体（５）によって
形成され、磁路幅は前記フロントコア（１１）のそれよ
りも大きくなる。

（発明の効果） 本発明に係る磁気ヘッドに於いては、バックコア（１２
）の磁路幅がトラック幅よりも十分に大きく、然も磁路
全体が積層体（５）によって形成されているから、磁気
抵抗が従来の磁気ヘッドに比べて小さい、この結果、従
来よりも大なるコア効率を得ることが出来る。

又、磁気記録媒体との対接面は、セラミック、センダス
ト等の硬質の資材のみによって形成されるから、従来の
如く対接面に低融点ガラス部が露出した磁気ヘッドに比
べて、長期に亘って磁気記録媒体との安定した摺接状態
が維持される。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一例を示し、該磁気
ヘッド（１）は、フロントコア（１１）とバックコア（
１２）と構成されている。

バックコア（１２）は、センダストからなる厚さ５μ−
の金属磁性薄膜と、ＳｉＯ□からなる厚さ０．１μ論の
絶縁薄膜とを交互に積層した２０層の積層体（５）から
構成される。従って、該積層体（５）の積層厚さＶは、
所定のトラック幅（２０μＮ）よりも大きく、略５０μ
債となる。バックコア（１２）の中央部には、電気コイ
ルを巻装する為のコイル窓（６）が開設されると共に、
該コイル窓（６）の上部に、５ｉ０２からなるデプスエ
ンド規制部（７）が設けられ、これによって磁気ギャッ
プ部（２）のデプスエンド（２２）の位置を規制してい
る。

一方、フロントコア（１１）は、バックコア（１２）の
￥ｆｉ層面に直交する端面に後述の如くスパッタリング
により形成され、センダストからなる一対の金属磁性部
（３）（３）と、両金属磁性部間に介在する５ｉ（）ｚ
の磁気ギャップ部（２）と、両金属磁性部のトラック幅
方向の両側面に沿って形成されたセラミックよりなる一
対の非磁性部（４）（４）とを具えている。金属磁性部
（３）のトラック幅方向の厚さＷは２０μｍに形成され
る。

以下、第３図（ａ）乃至（ｊ）に基づいて、上記磁気ヘ
ッドの製造方法について説明する。

先ず、第３図（ａ）の如く厚さが１ｆｉＩＩで、ビッカ
ース硬度が７００の結晶化ガラス板（９）を用意し、該
結晶化ガラス板（９）の表面に、同図（ｂ）の如くセン
ダストと５ｉｎ２とを交互にスパッタリングし、厚さ５
μ稍のセンダスト膜と０．１μ−のＳｉＯ□膜からなる
２ＯＮの積層膜（５１）を形成する。

次に前記ｆ１層膜（５１）に対して、最終的に第１図に
示すコイル窓（６）及びデプスエンド規制部（７〉とな
る孔り６１）を、ドライエツチング等によって所定形状
に開設する。鎖孔（６１）は、前記磁気ギャップ部（２
）のデプスエンド（２２）に対応する部分が代かに開口
（６２）すると共に、結晶化ガラス板（９）に達する深
さを有している。

第３図（ｅ）に示す如く、前記孔（６１）の開口（６２
）側の端部に、前記デプスエンド規制部〈７）となるＳ
ｉＯ□（７１）をスパッタリングにより充填する。これ
によって５ｉ０２（７１）は前記開口（６２）から露出
することなる。

その後、第３図（ｄ）に示す如く結晶化ガラス板（９）
及び積層膜（５１）の前記開口（６２）側の端面に、セ
ンダストのスパッタリングを施して、トラック幅に一致
する厚さ（２０μｍ）の金属磁性膜（３１）を形成する
。

次に第３図（ｅ）の如く、前記金属磁性膜（３１）にエ
ツチングを施して、第１図の片側の金属磁性部（３）と
なるコア片（３２〉を形成する。尚、該コア片（３２）
のギャップ形成面（３６）と積層膜（５１）の積層面と
が為す角度θは、所定のアジマス角度に応じて例えば７
５度に形成される。

第３図（ｆ）に示す様に、前記コア片（３２）のギャッ
プ形成面（３６）に対して、ギャップスペーサとなる５
ｉＯｚ膜（２１）を蒸着形成する。

更に第３図（ｇ）の如く前記エツチングによる除去部分
に、センダストのスパッタリングを施して、第１図の他
方の金属磁性部（３）となるコア片（３３）を厚さ２０
μ彌に形成する。

第３図（ｈ）の如く、前記コア片（３２）　（３３）に
エツチングを施して、積層膜（５１）の端面領域に、厚
さＨが５μ論のベース部（３５）　（３５）と幅Ｔが２
０μ蹟の凸部（３４）からなるコア条（３７）を形成す
る。

次に第３図（ｉ）の如く、前記コア条（３７）のベース
部（３５）　（３５）の上面に、センダストと略同−硬
度を有するセラミックをスパッタリングして、凸部（３
４）と同一高さのセラミック条（４１）（４１）を凸部
（３４）の両側に形成する。

これによって得られたヘッドブロック（８）を磁気ギヤ
ツブ部毎にスライスし、更に結晶化ガラス板（９）を切
除することによって、第３図（ｊ）に示すヘッドチップ
（８１）が得られる。

更に前記へッドチップク８１）の頭部に曲面研京を施し
て、テープ対接面（１０）を形成することにより、第１
図の磁気ヘッド（１）が完成する。

第１図の磁気ヘッド（１）に於いては、バックコア（１
２）の磁路幅が、フロントコア（１１）の磁路幅よりも
十分に大きく形成されているから、磁気ヘッド（１）全
体の磁気抵抗が、第４図に示す従来の磁気ヘッドよりも
小さく、従って従来よりも大なるコア効率を得ることが
出来る。

又、磁気記録媒体との対接面（１０）は、セラミック、
センダスト等の硬質の資材のみによって形成されるから
、第５図に示す如く対接面（１０）に低融点ガラス部（
１０４）（１０５）が露出した磁気ヘッドに比ベて、長
期に亘って所定の摺動特性が維持される。

又、上述の製造方法によれば、第３図（ｉ）（ｊ）に示
すスライス工程のみが機械加工によって行なわれるに過
ぎず、同図（ａ）乃至〈１）に示す大部分の工程が、ク
リーンルーム内に於けるスパッタリングやエツチング等
の化学的処理によって行なわれるから、不純物が含まれ
ない高性能の磁気ヘッドの製造が可能である。

第４図或は第５（２１に示す磁気ヘッドの製造工程では
、積層体（５０）に機械加工を施す工程が必要となる為
、金属磁性薄膜等に生じる内部応力が原因となって、薄
膜の剥離等の欠陥を生じ、歩留りが悪い問題があった。

これに対し、本発明の製造方法に於いては、金属磁性部
（３）が化学的処理によって形成されるから、従来の如
き欠陥は生じない。

然も、第３図（ｅ）（ｆ）に示すギャップ形成工程では
、エツチングにより任意のアジマス角度を実現出来る利
点がある。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

例えば、第２図に示す如く、磁性部＜３）＜３＞を金属
磁性膜と絶縁膜の積層体によって構成することも可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの斜面図、第２図は他
の実施例を示す磁気ヘッドの斜面図、第３図（ａ）〜（
ｊ）は第１図の磁気ヘッドの製造方法を示す斜面図、第
４図は従来の磁気ヘッドの斜面図、第５図は他の従来の
磁気ヘッドの平面図である。 （１１）・・・フロントコア　〈１２）・・・バックコ
ア（２）・・・磁気ギャップ部　（３）・・・金属磁性
部（４）・・・非磁性部　　　　（５）・・・積層体）
源　ｆ≧　図とｅ） ）ぢ　３１　図（ｇ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ［１］磁気ギャップ部（２）を具えたフロントコア（１
   １）と、電気コイルを巻装すべきコイル窓（６）を具え
   たバックコア（１２）とを一体に具え、両コア（１１）
   （１２）の内、少なくともバックコア（１２）の磁気回
   路が、金属磁性薄膜と絶縁薄膜の積層体（５）によつて
   形成されている磁気ヘッドに於いて、バックコア（１２
   ）の積層体（５）の積層厚さは、所定のトラック幅より
   も大きく形成され、フロントコア（１１）は、前記積層
   体（５）の膜形成面に略直交するバックコア端面に、磁
   性膜よりなる一対の磁性部（３）（３）と、両磁性部間
   に介在する磁気ギャップ部（２）とを形成すると共に、
   両磁性部（３）（３）のトラック幅方向の両側面に沿っ
   て、磁性部（３）と同程度の硬度を有する非磁性部（４
   ）（４）を設けたことを特徴とする磁気ヘッド。