JPH05114113A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 金属磁性層３ａ，３ｂ，３ｃ，４ａ，４ｂ，
４ｃを絶縁膜１３，１４を介して複数積層してなる金属
磁性膜３，４と磁気コア基板１，２よりなる一対の磁気
コア半体５，６を金属磁性膜３，４の端面同士を突合わ
せ、これら金属磁性膜３，４間に磁気ギャップｇを構成
してなる磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性膜３，４が
磁気ギャップｇに対して斜めに配され、その金属磁性膜
３，４の磁気ギャップ形成面を形成する一端面とは反対
側の他端面に接して融着ガラス７が充填されている。 【効果】 金属磁性膜の膜剥がれを無くすことができ、
ヘッド出力を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）等に搭載される磁気ヘッド及びその製
造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ等の磁気
記録再生装置においては、記録信号の高密度化が進めら
れており、この高密度記録に対応した磁気記録媒体とし
て磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強磁性金属粉末を用い
た、いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着に
よりベースフィルム上に直接被着した、いわゆる蒸着テ
ープ等が使用されるようになってきた。

【０００３】一方、磁気ヘッドの分野においてもこれに
対処するべく研究が進められており、高抗磁力磁気記録
媒体に好適な磁気ヘッドとして磁気コアに金属磁性膜を
用いた、いわゆるメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッ
ドが種々開発されている。また、近年においては、記録
信号の高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記録され
る記録トラックの狭小化も進められており、これに対応
して磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが要求さ
れてきている。

【０００４】かかる要求を満たす磁気ヘッドとしては、
例えば図１２に示すように、フェライト等からなる磁気
コア基板１０１，１０２の突合わせ面を磁気ギャップｇ
に対して斜めに切り欠き、この斜面１０１ａ，１０２ａ
上にセンダスト等の強磁性金属膜１０３，１０４を被着
形成し、これら金属磁性膜１０３，１０４同士を突合わ
せて融着ガラス１０５により接合一体化されたものが提
案されている。

【０００５】この磁気ヘッドでは、磁気ギャップｇに対
して斜交して設けられた金属磁性膜１０３，１０４間に
磁気ギャップｇが形成されている。そして、上記磁気ギ
ャップｇのトラック幅Ｔｗは、上記金属磁性膜１０３，
１０４の対向幅によって規制されている。また、高帯域
での渦電流損失を回避するために、上記金属磁性膜１０
３，１０４を膜厚の薄い磁性金属層を絶縁膜を介して何
層にも積層した多層膜としている。

【０００６】このように形成された磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性膜１０３，１０４の膜厚の制御により簡単
に狭トラック化が図れるとともに、上記金属磁性膜１０
３，１０４を積層膜としていることから高出力化が達成
され、より抗磁力の高い磁気記録媒体に対して良好な記
録再生が望める。

【０００７】ところで、上述の磁気ヘッドを作製するに
は、先ず、図１３に示すように、フェライトよりなる基
板１０６の磁気ギャップ形成面となる面１０６ａに、こ
の面１０６ａに対して傾斜した斜面１０７ａを有する断
面略Ｖ字状の第１の溝１０７を形成する。

【０００８】次に、図１４及び図１５に示すように、上
記第１の溝１０７内を含めて上記磁気ギャップ形成面と
なる面１０６ａ上にセンダストとＳｉＯ₂ を交互に積層
する。この結果、センダストよりなる磁性金属層１０８
とＳｉＯ₂ よりなる絶縁膜１０９の積層された金属磁性
膜１１０が形成される。

【０００９】次いで、上記第１の溝１０７内に成膜され
た金属磁性膜１１０の膜剥がれを防止するために、当該
第１の溝１０７内に融着ガラス１１１を充填する。そし
て、図１６に示すように、上記磁気ギャップ形成面１０
６ａ上に成膜された金属磁性膜１１０を平面研磨加工等
によって除去する。

【００１０】次に、図１７に示すように、上記斜面１０
７ａに近接してトラック幅を規制するための断面略Ｖ字
状の第２の溝１１２を基板１０６全面に亘って形成す
る。そして、上記第２の溝１１２と直交する方向にコイ
ルを巻装させるための巻線溝１１３を断面略コ字状に形
成する。次いで、上述のように形成された基板１０６，
１１４同士を図１８に示すようにトラック位置合わせし
ながら突合わせ、融着ガラス１１５によって接合一体化
する。

【００１１】次に、同図中線ａ−ａ及び線ｂ−ｂで示す
位置で切断する。そして最後に、切り出したヘッドチッ
プに対して磁気記録媒体との当たり特性を確保するため
に、磁気記録媒体摺動面を円筒研磨して磁気ヘッドを完
成する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の磁気
ヘッドにおいては、第１の溝１０７の底部では磁性金属
層１０８と絶縁膜１０９とが柱状構造となり、当該絶縁
膜１０９を介して積層される磁性金属層１０８の絶縁性
が損なわれ易い状態となる。このため、磁性金属層１０
８間を十分に絶縁するために、絶縁膜１０９の膜厚を
０．４μｍ〜１μｍ程度と厚めに被着する必要がある。

【００１３】ところが、絶縁膜１０９の膜厚を厚くする
と、膜応力が大きくなり、磁性金属層１０８と絶縁膜１
０９間、或いは磁性金属層１０８と基板１０６間で剥が
れ易くなってしまう。また、磁気記録に関与するトラッ
ク内に非磁性部（絶縁膜１０９）の占める割合が多くな
りヘッド特性が劣化する。

【００１４】そこで本発明は、上述の技術的な課題を解
消するべく提案されたものであって、金属磁性膜の膜剥
がれの無い、ヘッド出力の高い磁気ヘッドを提供するこ
とを目的とする。さらに本発明は、金属磁性膜の膜剥が
れの無い、ヘッド出力の大幅な向上が望める磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、磁性金属層を絶縁膜を介して複数積層
してなる金属磁性膜と磁気コア基板よりなる一対の磁気
コア半体を金属磁性膜の端面同士を突合わせ、これら金
属磁性膜間に磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドに
おいて、上記金属磁性膜が磁気ギャップに対して斜めに
配され、その金属磁性膜の磁気ギャップ形成面を形成す
る一端面とは反対側の他端面に接して融着ガラスが充填
されていることを特徴とするものである。

【００１６】さらに本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁気ギャップ形成面となるべき面に対して傾斜
した斜面を有する第１の溝を基板に形成する工程と、少
なくとも上記第１の溝内に磁性金属層を絶縁膜を介して
複数積層し、多層膜とした金属磁性膜を形成する工程
と、上記第１の溝の斜面上に成膜される金属磁性膜を除
き、当該第１の溝の底部に切り欠きを入れこの部分の金
属磁性膜を除去する工程と、上記磁気ギャップ形成面上
に成膜される金属磁性膜を除去した後、上記第１の溝内
に融着ガラスを充填する工程と、上記斜面に近接してト
ラック幅を規制するための第２の溝を形成する工程とに
よりヘッドコアブロックを作製し、このヘッドコアブロ
ック同士を接合した後、ヘッドチップに切り出すことを
特徴とするものである。

【００１７】

【作用】本発明に係る磁気ヘッドにおいては、磁気ギャ
ップに対して斜交して設けられる金属磁性膜の磁気ギャ
ップ形成面とは反対側の他端面に接して融着ガラスが充
填されているので、磁気コア基板に対する金属磁性膜の
付着強度が高まり、当該金属磁性膜が膜剥がれを起こす
ようなことがなくなる。

【００１８】一方、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、絶縁性が極めて低くなる第１の溝の底部に成膜
される金属磁性膜を切り欠きを入れることにより除去し
ているので、薄い絶縁膜でも十分に磁性金属層間の絶縁
性が確保される。これにより、金属磁性膜の特性が向上
し、ヘッド出力の向上が望める。また、その切り欠いた
溝部に融着ガラスを充填しているので、金属磁性膜の端
部がこの融着ガラスによって補強される。

【００１９】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。初めに、本発
明を適用した磁気ヘッドの一実施例について説明する。
本実施例の磁気ヘッドは、図１及び図２に示すように、
フェライト等の酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板
１，２とセンダスト等よりなる金属磁性膜３，４とから
なる一対の磁気コア半体５，６が、磁気ギャップｇに対
してそれぞれ斜めに成膜された金属磁性膜３，４の端面
同士を突合わせ、融着ガラス７によって接合一体化され
てなっている。

【００２０】上記磁気コア基板１，２には、上記金属磁
性膜３，４とで閉磁路を構成することから、例えばＭｎ
−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェライト等の酸化物磁
性材料が使用される。そして、上記磁気コア基板１，２
の突合わせ面には、上記金属磁性膜３，４を成膜させる
ための金属磁性膜形成面１ａ，２ａが形成されている。
この金属磁性膜形成面１ａ，２ａは、上記磁気ギャップ
ｇに対して所定の角度で傾斜された傾斜面とされ、磁気
コア半体５，６が突き合わされたときに互いの斜面が略
平行となるようになされている。そしてこの金属磁性膜
形成面１ａ，２ａの両端部には、磁気ギャップｇのトラ
ック幅Ｔｗを規制するためのトラック幅規制溝８，９と
金属磁性膜３，４の膜特性の向上及び基板に対する付着
強度を高めるための切欠溝１０，１１とが形成されてい
る。

【００２１】また、上記一方の磁気コア基板２の突合わ
せ面には、記録情報に基づく電気信号をヘッドに供給
し、媒体からの磁気信号を電気信号として装置側へ伝達
するためのコイルを巻装させる巻線溝１２が設けられて
いる。上記巻線溝１２は、断面略コ字状の溝として形成
され、磁気ギャップｇ側に設けられる傾斜面１２ａによ
って上記磁気ギャップｇのデプスを規制するようになっ
ている。

【００２２】一方、金属磁性膜３，４は、高出力化並び
に高帯域での渦電流損を回避するために、図２に示すよ
うに強磁性金属材料よりなる薄膜の磁性金属層３ａ，３
ｂ，３ｃ、４ａ，４ｂ，４ｃを絶縁膜１３，１４を介し
て何層にも積層した多層構造とされている。

【００２３】上記磁性金属層３ａ，３ｂ，３ｃ、４ａ，
４ｂ，４ｃに使用される強磁性金属材料としては、従来
より公知の高飽和磁束密度且つ軟磁気特性に優れた強磁
性合金材料が使用され、結晶質，非結晶質を問わない。
例示するならば、Ｆｅ系合金、Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ｃ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等の結晶質合金材料や、Ｃ
ｏ−Ｚｒ−Ｎｂ，Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａ等のアモルフ
ァス合金等が挙げられる。ももちろん、一般に使用され
るアモルファス合金（例えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏのうち１
以上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉのうち１以上の元素とか
らなる合金、またはこれを主成分としＡｌ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｈｆ等の遷移元素
を主成分とする合金、またはこれらに希土類元素を添加
した合金等のメタル−メタル系アモルファス合金。）等
も使用可能である。

【００２４】一方、絶縁膜１３，１４には、従来より多
く使用されているＳｉＯ₂ の他、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、Ｔｉ
Ｏ₂ 、ＡｌＮ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の
如き材料からなる膜が使用される。これら絶縁膜１３，
１４の膜厚は、少なくとも隣合う磁性金属層３ａ，３
ｂ，３ｃ、４ａ，４ｂ，４ｃの絶縁性が十分に確保でき
る程度の薄膜でよい。なお、融着ガラス７と接する最上
層の絶縁膜１３，１４は、当該融着ガラス７に対する保
護の意味から若干厚めに成膜する。

【００２５】上述の磁性金属層３ａ，３ｂ，３ｃ、４
ａ，４ｂ，４ｃ及び絶縁膜１３，１４の形成方法として
は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、クラスター・イオンビーム法等に代表さ
れる真空薄膜形成技術が挙げられる。

【００２６】そして、上述のように構成された一対の磁
気コア基板１，２は、互いの金属磁性膜３，４の磁気ギ
ャップ形成面となる端面同士をギャップ膜（図示は省略
する。）を介在させて突合わせ、融着ガラス７にて接合
されることにより一体化されている。したがって、相対
向する金属磁性膜３，４間には、記録再生ギャップとし
て動作する磁気ギャップｇが構成される。この磁気ギャ
ップｇのトラック幅Ｔｗは、ギャップ部に設けられる金
属磁性膜３，４の近傍に切り欠かれるトラック幅規制溝
８，９によって規制されている。

【００２７】そして、上記金属磁性膜３，４の両脇にそ
れぞれ切り欠かれたトラック幅規制溝８，９と切欠溝１
０，１１内には、磁気記録媒体との当たり特性を確保し
媒体との摺接による偏摩耗を防止するための融着ガラス
７が充填されている。これによって、金属磁性膜３，４
の磁気ギャップ形成面を形成する一端部とは反対側の他
端部が融着ガラス７によって補強され、当該金属磁性膜
３，４の磁気コア基板１，２に対する付着強度が大幅に
向上し、信頼性が高まる。

【００２８】次に、本発明を適用した磁気ヘッドの製造
方法の一実施例について説明する。上述の磁気ヘッドを
作製するには、先ず図３に示すように、フェライトより
なる基板１５の磁気ギャップ形成面となるべき面１５ａ
に、断面略Ｖ字状をなす第１の溝１６を回転砥石加工に
よって全幅に亘って所定ピッチで複数平行に形成する。

【００２９】この第１の溝１６を設けることにより、上
記基板１５には金属磁性膜形成面に対応する斜面１６ａ
が上記磁気ギャップ形成面１５ａに対して傾斜した面と
して形成される。なお、この斜面１６ａの磁気ギャップ
形成面１５ａに対する傾斜角度θは、隣接トラックから
のクロストーク並びに耐摩耗性を考慮して２０度〜８０
度程度の範囲に設定することが望ましい。

【００３０】次いで、図４及び図５に示すように、上記
第１の溝１６内を含めて磁気ギャップ形成面１５ａ上に
センダストとＳｉＯ₂ を交互にスパッタリングして、磁
性金属層１７ａ，１７ｂ，１７ｃと絶縁膜１８の積層膜
からなる金属磁性膜１７を形成する。このとき、第１の
溝１６の底部では、磁性金属層１７ａ，１７ｂ，１７ｃ
と絶縁膜１８とは柱状構造となり、上記磁性金属層１７
ａ，１７ｂ，１７ｃの電気的絶縁性が低下する。

【００３１】そこで本発明では、その電気的絶縁性が低
下した部分を取り除く。すなわち、図６に示すように、
第１の溝１６の底部に砥石加工或いはレーザー加工等の
手法によって切り欠きを入れ、電気的絶縁性の低下した
金属磁性膜１７部分を除去する。この結果、切欠溝２０
によって第１の溝１６の底部及び上記斜面１６ａと対向
する側面１６ｂに成膜された金属磁性膜１７が除去さ
れ、上記斜面１６ａ上のみに金属磁性膜１７が残存する
ことになる。

【００３２】このように、本例では、電気的絶縁性の劣
化した部分を取り除くようにしているため、先の工程で
成膜した絶縁膜１８の膜厚を薄くすることが可能とな
る。なお、上記切り欠き加工によって、金属磁性膜１７
の切断面１７ｄが図７に示すようにだれて電気的絶縁性
が劣化するが、これは後の融着ガラスによって侵食され
確実な絶縁状態が確保される。

【００３３】次に、図９に示すように、上記切欠溝２０
内に融着ガラス２１を充填し、金属磁性膜１７を当該融
着ガラス２１によって埋め込む。次いで、上記磁気ギャ
ップ形成面１５ａ上に成膜される金属磁性膜１７を平面
研磨することによって除去する。このとき、金属磁性膜
１７は、融着ガラス２１によって固定されているので、
平面研磨時に加わる加工圧力によっては膜剥がれを起こ
すようなことはない。特に、金属磁性膜１７の磁気ギャ
ップ形成面１５ａとなる一端部とは反対側の他端部は融
着ガラス２１によって確実に抑え込まれた状態で固定さ
れているので、上記金属磁性膜１７の基板１５に対する
付着強度が極めて高いものとなっている。

【００３４】また、この融着ガラス２１によって先の金
属磁性膜１７の切断面１７ｄは、侵食され、上記絶縁膜
１８によって各磁性金属層１７ａ，１７ｂ，１７ｃの絶
縁性が確実なものとされる。

【００３５】次に、図１０に示すように、金属磁性膜１
７を被着した斜面１６ａと隣接して、上記第１の溝１６
と平行にトラック幅を規制するための第２の溝２２を形
成する。第２の溝２２の切削位置は、この溝２２が上記
斜面１６ａ上に形成される金属磁性膜１７の端部１７ｅ
と略一致するような位置とする。

【００３６】次いで、コイルを巻装するための巻線溝２
３を上記基板１５に形成する。上記巻線溝２３は、上記
第１の溝１６と第２の溝２２に対して略直交する方向に
形成し、断面略コ字状の溝として形成する。この結果、
第１の溝１６と第２の溝２２によりトラック幅が規制さ
れた金属磁性膜１７が磁気ギャップ形成面１５ａに臨ん
でなるヘッドコアブロック２４が作製される。

【００３７】そして、上述の工程を順次繰り返して図１
０に示すヘッドコアブロック２４と同一のヘッドコアブ
ロック２５を作製する。なお、この一方のヘッドコアブ
ロック２５には巻線溝は形成しない。次いで、これらヘ
ッドコアブロック２４，２５の突合わせ面を鏡面加工す
る。そして、図１１に示すように、上記一対のヘッドコ
アブロック２４，２５を互いの金属磁性膜１７，１７間
にギャップ膜（図示は省略する。）を介在させてトラッ
ク位置合わせしながら突き合わす。

【００３８】トラック位置合わせは、磁気ギャップ形成
面１５ａに露出する互いの金属磁性膜１７，１７が一致
するようにして重ね合わせる。

【００３９】次に、巻線溝２３内にガラス棒を挿入し、
これを溶融して上記第１の溝１６及び第２の溝２２内に
融着ガラス２６を充填する。この結果、上記一対ヘッド
コアブロック２４，２５が融着ガラス２６によって接合
一体化される。そして、接合一体化されたブロックに対
して所定の位置でスライシング加工し、複数個のヘッド
チップに切り出す。

【００４０】このスライシング加工においても金属磁性
膜１７を切削することになるが、金属磁性膜１７と基板
１５との密着性が極めて高いため、当該金属磁性膜１７
が上記基板１５より剥がれることはない。

【００４１】そして最後に、このヘッドチップに対して
磁気記録媒体との当たり特性を確保するために、磁気記
録媒体摺動面を円筒研磨して磁気ヘッドを完成する。こ
の結果、斜め膜とされた金属磁性膜１７，１７の突合わ
せ部に記録再生用ギャップとして機能する磁気ギャップ
ｇが構成される。

【００４２】本実施例では、実際に上述の工程を経て磁
気ヘッドを作製し、その再生出力特性を調べてみた。磁
気ヘッドは、磁性金属層を６μｍとして４層重ね合わ
せ、トラック幅Ｔｗを２４μｍとし、ギャップ長を０．
２５μｍとした。一方、磁気テープは、メタルテープを
使用し、相対スピード３．８ｍ／ｓとした。

【００４３】その結果を表１に示す。なお、表１は、記
録ヘッドは同一のヘッドを使用し、再生特性のみ比較す
るものとし、比較例の出力を０ｄＢとしてそれに対する
増減で示されている。また、比較例の磁気ヘッドとして
は、図１２に示すヘッドを用いた。

【００４４】

【表１】

【００４５】この結果からわかるように、周波数が高く
なるにつれて実施例のヘッドの出力が大きくなり、７Ｍ
Ｈｚでは１ｄＢ程度向上しているのがわかる。したがっ
て、本実施例の磁気ヘッドによれば、再生出力を大幅に
向上させることができる。

【００４６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップに対して斜交
して設けられる金属磁性膜の他端面に接して融着ガラス
が充填されているので、磁気コア基板に対する金属磁性
膜の付着強度が高まり、当該金属磁性膜の膜剥がれを確
実に防止することができる。したがって、信頼性の向上
並びに高出力化が図れる。

【００４７】一方、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、絶縁性が極めて低くなる第１の溝の底部に成膜
される金属磁性膜を切り欠きを入れることにより除去し
ているので、薄い絶縁膜でも十分に絶縁性を確保するこ
とができる。したがって、絶縁膜を厚くすることにより
内部応力の高まりにより膜剥がれが生ずることも無くな
り、信頼性の高い磁気ヘッドを作製することができる。

【００４８】さらに、本発明方法によれば、薄い絶縁膜
を使用できることから、当該絶縁膜の金属磁性膜に占め
る割合を減少させることができる。この結果、膜の特性
の向上が望め、ヘッド特性を大幅に向上させることがで
きる。したがって、本発明の方法を採用すれば、より一
層高い抗磁力を有する磁気記録媒体に対しても良好に記
録再生可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの磁気記録媒体摺
動面を拡大して示す要部拡大平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順次
示すもので、第１の溝形成工程を示す斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順次
示すもので、金属磁性膜形成工程を示す斜視図である。

【図５】図４の第１の溝部を拡大して示す要部拡大正面
図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順次
示すもので、第２の溝形成工程を示す斜視図である。

【図７】図６の第２の溝を拡大して示す要部拡大正面図
である。

【図８】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順次
示すもので、ガラス充填工程を示す斜視図である。

【図９】図８のガラス充填部を拡大して示す要部拡大正
面図である。

【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順
次示すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造工程を順
次示すもので、接合工程を示す斜視図である。

【図１２】従来の磁気ヘッドの一例を示す斜視図であ
る。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造工程を順次示すもの
で、第１の溝形成工程を示す斜視図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造工程を順次示すもの
で、金属磁性膜形成工程を示す斜視図である。

【図１５】図１４の第１の溝部を拡大して示す要部拡大
正面図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの製造工程を順次示すもの
で、ガラス充填工程を示す斜視図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの製造工程を順次示すもの
で、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１８】従来の磁気ヘッドの製造工程を順次示すもの
で、接合工程を示す斜視図である。

【符号の説明】

１，２・・・磁気コア基板 ３，４，１７・・・金属磁性膜 ５，６・・・磁気コア半体 ７，２１・・・融着ガラス ３ａ，３ｂ，３ｃ，４ａ，４ｂ，４ｃ・・・磁性金属層 １２，２３・・・巻線溝 １３，１４，１８・・・絶縁層 １６・・・第１の溝 ２０・・・切欠溝 ２２・・・第２の溝

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性金属層を絶縁膜を介して複数積層し
   てなる金属磁性膜と磁気コア基板よりなる一対の磁気コ
   ア半体を金属磁性膜の端面同士を突合わせ、これら金属
   磁性膜間に磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドにお
   いて、 上記金属磁性膜が磁気ギャップに対して斜めに配され、
   その金属磁性膜の磁気ギャップ形成面を形成する一端面
   とは反対側の他端面に接して融着ガラスが充填されてい
   ることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 磁気ギャップ形成面となるべき面に対し
   て傾斜した斜面を有する第１の溝を基板に形成する工程
   と、少なくとも上記第１の溝内に磁性金属層を絶縁膜を
   介して複数積層し、多層膜とした金属磁性膜を形成する
   工程と、上記第１の溝の斜面上に成膜される金属磁性膜
   を除き、当該第１の溝の底部に切り欠きを入れこの部分
   の金属磁性膜を除去する工程と、上記磁気ギャップ形成
   面上に成膜される金属磁性膜を除去した後、上記第１の
   溝内に融着ガラスを充填する工程と、上記斜面に近接し
   てトラック幅を規制するための第２の溝を形成する工程
   とによりヘッドコアブロックを作製し、このヘッドコア
   ブロック同士を接合した後、ヘッドチップに切り出すこ
   とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。